為什么說(shuō)佳能是「明智」的光刻機出貨商？

1995 年，當日本半導體行業(yè)競爭還很激烈時(shí)，尼康在光刻設備出貨額中占有 48.9% 的份額，佳能占 28.7% 的份額，讓日本總共獲得了 77.6% 的份額。當時(shí)，尼康在光刻設備市場(chǎng)占有率第一，被譽(yù)為「器材之王」（圖 1）。

圖 1 按公司劃分的光刻設備出貨量和份額（截至 2023 年）來(lái)源：根據摩根士丹利證券數據創(chuàng )建

然而，1995 年市場(chǎng)份額為 15.9% 的荷蘭 ASML 此后市場(chǎng)份額快速提升，于 2002 年超越尼康和佳能，2010 年市場(chǎng)份額超過(guò) 80%，2021 年市場(chǎng)份額達到 90%。2023 年，ASML 將以 94.2% 的市場(chǎng)份額占據主導地位，而尼康的市場(chǎng)份額將下降至 3.1%，佳能的市場(chǎng)份額將下降至 2.8%。

ASML 在 ArF 沉浸式設備的吞吐量和可用性方面壓倒了日本競爭對手，自 2008 年以來(lái)，ArF 沉浸式設備已成為其主打產(chǎn)品。ASML 已成為尖端光刻設備 EUV 領(lǐng)域的主導公司。結果，日本在光刻設備領(lǐng)域的存在似乎消失了。

然而，如果我們計算光刻設備的「各類(lèi)光刻設備的出貨量份額」而不是「EUV 光刻設備出貨量份額」，則會(huì )出現完全不同的情況。筆者想討論下面的細節。

各公司光刻設備出貨量及占比

圖 2 顯示了各公司出貨的光刻設備數量。2011 年至 2014 年，ASML 出貨量從 222 臺減少至 136 臺。此外，尼康的銷(xiāo)量從 85 臺減少到 34 臺。另一方面，佳能的出貨量變化不大，從 52 臺變化到 54 臺。

圖 2 按公司劃分的光刻設備出貨量（截至 2023 年）來(lái)源：根據摩根士丹利證券數據創(chuàng )建

不過(guò)，從 2015 年到 2023 年，ASML 和佳能的出貨量大幅增長(cháng)。ASML 從 169 臺增加到 449 臺，佳能從 80 臺增加到 187 臺。另一方面，尼康的銷(xiāo)量從 42 臺增加到 45 臺，并沒(méi)有大幅增長(cháng)。

接下來(lái)我們看一下全球光刻設備的出貨量以及各公司的出貨量占比（圖 3）。

圖 3 按公司劃分的光刻設備出貨量份額（截至 2023 年）來(lái)源：根據摩根士丹利證券數據創(chuàng )建

ASML 的出貨量份額穩定在 65% 左右。另一方面，佳能的市場(chǎng)份額從 2011 年的 11.4% 逐漸上升，2015 年以來(lái)一直維持在 30% 以下。另一方面，尼康的市場(chǎng)份額逐漸下降，從 2011 年的 23.7%，下降到 2023 年的 6.6%。

這樣一來(lái)，佳能在銷(xiāo)量份額上根本無(wú)法與 ASML 匹敵，但在出貨量上卻擁有 ASML 近一半的份額。

那么，佳能大量出貨的是哪些光刻設備呢？

各公司光刻設備出貨量

圖 4 顯示了各公司各種光刻設備的出貨量。只有 ASML 可以出貨最先進(jìn)的光刻設備 EUV，每臺成本為 240 億日元。

至于每臺成本 98 億日元的 ArF 沉浸式，ASML 有 125 臺，尼康有 9 臺，ASML 以壓倒性?xún)?yōu)勢領(lǐng)先尼康。在每臺售價(jià) 31 億日元的 ArF 干貨市場(chǎng)，ASML 有 32 臺，尼康有 10 臺，所以尼康做得好一點(diǎn)。

圖 4 按公司劃分的各種光刻設備的價(jià)格和出貨量（2023 年）來(lái)源：根據摩根士丹利證券數據創(chuàng )建

其中數量最多的 KrF 為 16 億日元，ASML 有 184 臺，尼康只有 2 臺，佳能有 56 臺。佳能在這里首次出現，佳能的 56 臺機器占 ASML 184 臺機器的 30%。此外，單價(jià) 7 億日元的 i-line，ASML 出貨量為 55 臺，尼康出貨量為 24 臺，佳能出貨量為 131 臺，約為 ASML 的 2.4 倍。

注意，各種光刻設備的價(jià)格是參考 ASML 的財務(wù)報告計算的。當時(shí)換算成日元是 1 歐元=160 日元。

佳能專(zhuān)注于 KrF 和 i-line

這樣看來(lái)，佳能的戰略就清晰了。佳能的策略是專(zhuān)注于 KrF 和 i-line，而不觸及 EUV 和 ArF 等先進(jìn)技術(shù)。而且這個(gè)策略確實(shí)有效。

這是因為在制造半導體時(shí)，無(wú)論多么尖端，都不可能只使用 EUV；而是會(huì )使用 ArF 浸沒(méi)式、ArF 干式、KrF 和 i-line。換句話(huà)說(shuō)，無(wú)論未來(lái)半導體小型化進(jìn)展如何，KrF 和 i-line 總會(huì )有生意的。而且，由于設備成熟，開(kāi)發(fā)成本幾乎可以忽略不計。因此，佳能對 KrF 和 i-line 的重視可以說(shuō)是非常出色的。

另一方面，尼康的策略不如佳能那么明確。在 ArF 浸沒(méi)和 ArF 干燥方面，尼康無(wú)法與 ASML 匹敵。憑借 KrF 和 i-line，無(wú)法擊敗佳能。換句話(huà)說(shuō)，尼康似乎正在彌補 ASML 在尖端設備方面的不足，并在彌補佳能在成熟設備方面的不足。

正如開(kāi)頭提到的，尼康在 20 世紀 90 年代被譽(yù)為「器材之王」。然而，由于 ASML 和佳能，它現在得以生存。你能真正感受到事物的盛衰、無(wú)常。

展望未來(lái)，ASML 在尖端光刻設備方面已開(kāi)始出貨下一代 EUV 機器「High NA」。此外，下一代「Hyper NA」將于 2030 年左右開(kāi)發(fā)。

如此看來(lái)，佳能似乎將業(yè)務(wù)重點(diǎn)放在 KrF 和 i-line 上，而 ASML 則投入巨額研發(fā)成本，推進(jìn)尖端技術(shù)。我覺(jué)得佳能放棄尖端的策略很「聰明」。