國產(chǎn)廠(chǎng)商引入首臺光刻機設備！

據寧波前灣新區管理委員會(huì )7月15日消息，近日寧波冠石半導體有限公司迎來(lái)關(guān)鍵節點(diǎn)，引入首臺電子束掩模版光刻機。據悉，該設備是光掩模版40nm技術(shù)節點(diǎn)量產(chǎn)及28nm技術(shù)節點(diǎn)研發(fā)的重點(diǎn)設備。

光掩模版是集成電路制造過(guò)程中光刻工藝所使用的關(guān)鍵部件，類(lèi)似于相機“底片”，光線(xiàn)經(jīng)過(guò)掩膜版后，可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前，我國高精度半導體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴(lài)于進(jìn)口，國產(chǎn)化率極低。

據了解，冠石半導體主要從事45nm~28nm半導體光掩模版的規?；a(chǎn)。當前，冠石半導體一期潔凈車(chē)間設計產(chǎn)能為月產(chǎn)5000片180nm~28nm集成電路掩模版。據冠石相關(guān)負責人介紹，企業(yè)正加速推進(jìn)海外布局戰略，并在世界一流半導體光掩模版制造技術(shù)班底的加持下，預計今年底，企業(yè)將陸續實(shí)現為國內外中高端集成電路掩模版提供制版服務(wù)。

此次引入電子束掩模版光刻機，冠石半導體將成為國內技術(shù)能力先進(jìn)的獨立光掩模版生產(chǎn)企業(yè)，可填補國內高階制程光掩?？瞻?，打破國外高端光掩模版的壟斷局面，提高我國半導體光掩模產(chǎn)業(yè)的安全和可控性。

公開(kāi)媒體此前報道，南京冠石科技股份有限公司于2023年5月16日與寧波前灣新區管理委員會(huì )簽署《投資協(xié)議書(shū)》，投資建設半導體光掩膜版制造項目。該項目實(shí)施主體為寧波冠石半導體有限公司，項目總投資約20億元，先期投資16億元，擬用地約68.8畝，建設周期計劃為60個(gè)月，主要生產(chǎn)45nm~28nm成熟制程的半導體光掩膜版。