獨擁四大連續制程設備 TEL成EUV出貨大贏(yíng)家
國際設備大廠(chǎng)東京威力科創(chuàng )(TEL)為全球唯一擁有沉積、涂布/顯影、蝕刻、清洗四大連續制程設備之公司,是晶圓片進(jìn)入EUV曝光前重要步驟。TEL宮城總裁神原弘光指出,隨著(zhù)芯片設計演進(jìn),蝕刻技術(shù)不斷朝著(zhù)3D化方向演進(jìn),垂直堆棧發(fā)展、更有效利用空間,然而堆棧層數的增加,在成膜次數跟蝕刻時(shí)間、次數也會(huì )隨之增加,所需的機臺數量同步成長(cháng)。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202406/460451.htmEUV大廠(chǎng)擁有近乎100%市占率,TEL在涂布/顯影與之緊密配合,同樣近乎獨占;換言之,只要EUV出貨,TEL亦將同步受惠。TEL更透露,早已在臺設置研發(fā)中心,近期更會(huì )擴增潔凈室規模,與最先進(jìn)制程業(yè)者合作,意謂著(zhù)TEL也將擁有全球最先進(jìn)設備。
TEL于東京股市掛牌,27日以3.48萬(wàn)日圓收市,市值達16.41兆日圓(,今年股價(jià)大漲37%。中國臺灣設置研發(fā)中心先鋒,TEL自1996年中國臺灣設立據點(diǎn)之初,便將總部二樓作為研發(fā)實(shí)驗室,近期為因應中國臺灣半導體地位提升,TEL近期擬規劃將三樓新增潔凈室,擴大規模、因應客戶(hù)先進(jìn)制程腳步加快。東京威力科創(chuàng )為全球前五大設備業(yè)者之一,核心業(yè)務(wù)涵蓋四個(gè)連續制程。
與合作伙伴Litho(微影)機臺搭配,TEL涂布/顯影市占率近乎100%,也因為合作伙伴、客戶(hù)都是業(yè)界最先進(jìn),強大的護城河,持續維持業(yè)界領(lǐng)先地位。TEL目前遍布19個(gè)國家、共計87個(gè)據點(diǎn),其中,中國臺灣員工人數僅次于日本,足見(jiàn)中國臺灣半導體地位之重要性。
進(jìn)入埃米時(shí)代,晶圓代工廠(chǎng)更加仰賴(lài)設備精細度,TEL已經(jīng)做好準備,公司進(jìn)一步分析,微縮下晶圓要求越來(lái)越嚴苛,更高端的制程,更加要求平坦化。據了解TEL最新推出的Grinder產(chǎn)品,不只是是為了確保晶圓的平坦化,也做到部分蝕刻平坦化及表面清潔,使設備可以針對平坦度及清潔進(jìn)行量測。
日本政府與八家企業(yè)合力扶植的晶圓代工廠(chǎng)Rapidus作為2奈米晶圓代工,將開(kāi)啟日本制造時(shí)代,Rapidus社長(cháng)小池淳義指出,日本有優(yōu)秀的設備和材料廠(chǎng)商,但缺少重要芯片供應,期許日本半導體同業(yè)齊心協(xié)力,制造出能夠為全球做出貢獻的日本芯片。
TEL作為重要關(guān)鍵設備伙伴,將扮演關(guān)鍵要角、攜手重振日本半導體雄風(fēng)。
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