7nm大戰在即 買(mǎi)不到EUV光刻機的大陸廠(chǎng)商怎么辦？

　　基于三星10nm制程工藝的驍龍835早已隨著(zhù)三星S8、小米6等一眾手機面世，而基于臺積電10nm制程工藝的聯(lián)發(fā)科Helio X30也和魅族Pro 7系列手機一起亮相了。除此之外麒麟970及A11處理器將于今秋和消費者見(jiàn)面，各家產(chǎn)品雖有強有弱但手機芯片的10nm時(shí)代已經(jīng)展開(kāi)，下一步就是向7nm推進(jìn)，工藝推動(dòng)者無(wú)疑就是三星和臺積電這兩家已較勁了幾代制程的業(yè)者了。

　　對于7nm制程工藝，三星和臺積電兩大晶圓代工領(lǐng)域巨頭都早已入手布局以便爭搶IC設計業(yè)者們的訂單。其中三星原定于明年破土動(dòng)工的韓國華城18號生產(chǎn)線(xiàn)動(dòng)工時(shí)間已被提前到了今年11月，以便在2019年能夠進(jìn)入7nm制程量產(chǎn)階段。值得注意的是三星華城18號生產(chǎn)線(xiàn)將會(huì )架設10多臺極紫外光(EUV)設備。而根據早前的報道，目前臺積電在7nm上已有12個(gè)產(chǎn)品設計定案，第一代7nm將在2018年實(shí)現量產(chǎn)(一說(shuō)為年前實(shí)現量產(chǎn))，第二代7nm則會(huì )在2019年實(shí)現量產(chǎn)，并導入極紫外光技術(shù)。

　　不論是三星還是臺積電在7nm上都將引入EUV設備，而這種被視為延續摩爾定律的設備的研發(fā)正是因為制程工藝進(jìn)入10nm后難度驟增，193nm光刻技術(shù)不足以應付7nm、5nm的需要，所以寄希望于研發(fā)EUV光刻工藝來(lái)推動(dòng)制程進(jìn)步。

　　7nm制程的進(jìn)度在一定程度上也是被EUV設備所控制的，而EUV設備卻是被荷蘭半導體設備廠(chǎng)商ASML所控制的。據悉ASML是一家從事半導體設備設計、制造及銷(xiāo)售的企業(yè)，于1984年從飛利浦獨立出來(lái)，在去年先后宣布收購漢微科及蔡司半導體24.9%股份。這家壟斷了高端光刻機市場(chǎng)的廠(chǎng)商股東中有三家就是我們耳熟能詳的英特爾、臺積電和三星。而據其公布的2017第二季財報顯示，公司該季營(yíng)收凈額為21億歐元，毛利率為45%。

　　EUV光刻機研發(fā)難度非常大因此單臺價(jià)格高昂至少要1億多歐元，但這種價(jià)值連城的設備還不是有錢(qián)就能買(mǎi)到的，如受限于《瓦森納協(xié)定》，大陸的廠(chǎng)商就買(mǎi)不到最高端的光刻機設備。此外，由于EUV光刻機生產(chǎn)難度和成本都非常大，導致稱(chēng)霸了該領(lǐng)域的ASML年產(chǎn)量也只有12臺。不過(guò)有報道稱(chēng)，ASML正在提升生產(chǎn)效率，或能在2018年將產(chǎn)能增加到24臺，2019年達到40臺。

　　對于大力投入集成電路發(fā)展的大陸，ASML雖然不能出售最高端的設備，但是也有其他的合作方式。3月份時(shí)，與上海微電子裝備(集團)股份有限公司簽署了戰略合作備忘錄;6月份時(shí)，宣布與上海集成電路研究開(kāi)發(fā)中心合作，將共同建立一個(gè)培訓中心。而國內對于高端光刻機設備的研究也十分重視，由長(cháng)春光機所牽頭承擔的國家科技重大專(zhuān)項02專(zhuān)項——“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”項目已于今年6月在評審專(zhuān)家組的一致同意下通過(guò)了項目驗收，這是我國極紫外光刻核心光學(xué)技術(shù)水平提升的重要一步。