GlobalFoundries投入EUV技術(shù)　4年后量產(chǎn)

　　繼晶圓代工大廠(chǎng)臺積電宣布跨入深紫外光(EUV)微影技術(shù)后，全球晶圓(Global Foundries)也在美國時(shí)間14日于SEMICON West展會(huì )中宣布，投入EUV微影技術(shù)，預計于2012年下半將機臺導入位于美國紐約的12寸晶圓廠(chǎng)(Fab 8)，將于2014~2015年間正式量產(chǎn)。

　　由于浸潤式微影(Immersion Lithography)機臺與雙重曝光(double-patterning)技術(shù)，讓微影技術(shù)得以發(fā)展至2x奈米，不過(guò)浸潤式微影機臺采用的是 193nm波長(cháng)的光源，走到22奈米已達光學(xué)極限，因此業(yè)界發(fā)展出采用13.5nm波長(cháng)的EUV光源，僅浸潤式微影光源的14分之1。

　　目前包括英特爾(Intel)、臺積電、三星電子(Samsung Electronics)、東芝(Toshiba)等半導體大廠(chǎng)皆已向設備廠(chǎng)艾斯摩爾(ASML)采購EUV機臺，投入EUV技術(shù)的研發(fā)。

　　Global Foundries資深研發(fā)副總Gregg Bartlett表示，Global Foundries不同于多數同業(yè)采購預產(chǎn)(pre-production)設備，而是直接采購量產(chǎn)型機臺，預計于2012年下半導入位于紐約的12寸廠(chǎng)中，預計2014~2015年間進(jìn)入量產(chǎn)。

　　Global Foundries于6月初在臺灣宣布擴產(chǎn)計畫(huà)，目前興建中的紐約Fab 8原本預計2010下半年啟用，未來(lái)將增加40%廠(chǎng)房空間，每月產(chǎn)能由4.2萬(wàn)片增加到6萬(wàn)片，制程技術(shù)由28奈米延伸至22~20奈米，新產(chǎn)能將在 2012年上線(xiàn)，并于2013年開(kāi)始量產(chǎn)。

　　Gregg Bartlett進(jìn)一步指出，雖然浸潤式微影技術(shù)能夠將制程推進(jìn)到22/20奈米，然而成本高且復雜度也高，因此需要其它的技術(shù)，而EUV就是最好的替代方案。

　　他也表示，Global Foundries是EUV LLC半導體產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟的的初創(chuàng )成員之一，曾參與多項EUV研發(fā)的重要里程碑，其中包括首款EUV測試芯片的生產(chǎn)，因此Global Foundries將繼續維持領(lǐng)先地位，推動(dòng)整個(gè)產(chǎn)業(yè)走向EUV的量產(chǎn)。”

　　Global Foundries主要競爭對手之一的臺積電于2010年2月宣布，臺積電將取得ASML的EUV微影設備，并安裝在竹科12寸廠(chǎng)Fab 12超大晶圓廠(chǎng)(GigaFab)中，用以發(fā)展新世代的制程技術(shù)。

　　EUV技術(shù)由于設備投資金額高昂，加上所需的光罩成本亦相當高昂，然而浸潤式雙重曝光(double patterning)復雜度大增，因此目前在22奈米制程，哪里個(gè)技術(shù)會(huì )是主流尚無(wú)定論，而臺積電也同時(shí)在發(fā)展無(wú)光罩(maskless)的電子束 (E-beam)技術(shù)，因此也讓發(fā)展較晚的電子束技術(shù)，扭轉情勢成為22奈米以下制程的候選技術(shù)之一。

　　然而隨ASML的6臺EUV設備即將陸續出貨，屆時(shí)其量產(chǎn)成果將成為業(yè)界的重要指標，EUV是否能成為主流技術(shù)，未來(lái)1~2年將是重要關(guān)鍵。