臺積電保持觀(guān)望 ASML最新EUV機臺只賣(mài)了5臺

荷蘭阿斯麥（ASML）全新機臺卻讓臺積電望之卻步！ 英媒指出，盡管阿斯麥最新一代的高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備性能強大，但因這款機臺單價(jià)高達4億美元，臺積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時(shí)沒(méi)有計畫(huà)在A(yíng)14及其后續制程中導入。

路透27日報導，這款先進(jìn)機臺價(jià)格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠(chǎng)現有最昂貴設備的兩倍。 目前，各家芯片制造商正在仔細評估，這款設備在曝光速度以及分辨率上面的提升，是否真的符合如此高昂的價(jià)格。

臺積電技術(shù)開(kāi)發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強表示，即便不使用High-NA EUV設備，A14制程仍能實(shí)現顯著(zhù)的技術(shù)升級。 「因此，我們的技術(shù)團隊將持續專(zhuān)注于微縮（scaling）效益的開(kāi)發(fā)，并致力于延長(cháng)現有Low-NA EUV（低數值孔徑極紫外光）微影設備的使用壽命?！?/p>

張曉強坦言：「只要我們能持續找到替代方案，就沒(méi)有必要采用這款昂貴的設備?！故聦?shí)上，早在去年，張曉強就曾公開(kāi)表示，他對High-NA EUV技術(shù)抱持肯定態(tài)度，但對其價(jià)格感到卻步。

相較之下，臺積電競爭對手英特爾，已經(jīng)計劃在未來(lái)制程「14A」當中，使用High-NA EUV機臺，并且試圖藉此來(lái)振興晶圓代工事業(yè)，提升對臺積電的競爭力。 然而，英特爾也強調，客戶(hù)仍然可以選擇使用舊款且經(jīng)過(guò)驗證的技術(shù)。

阿斯麥執行長(cháng)福凱特（Christophe Fouquet）日前在法說(shuō)會(huì )上提到，預計客戶(hù)將于2026年至2027年間進(jìn)行高NA設備的量產(chǎn)準備測試，屆時(shí)業(yè)界才有可能考慮在最先進(jìn)的制程中全面導入。

目前，阿斯麥已向三家客戶(hù)交付總共5臺高NA設備，包括英特爾、臺積電以及韓國三星。 這機臺重達180噸、體積如同雙層巴士，堪稱(chēng)全球最昂貴的半導體制造設備之一。