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high-na euv 文章 進(jìn)入high-na euv技術(shù)社區
ASML載具供應商家登精密談中國EUV的發(fā)展，面臨諸多挑戰
- 載具對于曝光機發(fā)揮保護、運送和存儲光罩等功能十分重要。家登精密多年來(lái)致力于研究曝光機載具，并為全球最大的半導體設備制造商ASML提供載具相關(guān)技術(shù)。 我們主要研究EUV的配套技術(shù)，例如EUV的載具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm進(jìn)階的突破口。隨著(zhù)5nm技術(shù)的升級，EUV的重要性逐漸凸顯出來(lái)，而載具的研究也越發(fā)緊迫。過(guò)去幾年，家登精密一直專(zhuān)心做一件事，那就是載具的配套研究。去年，我們的技術(shù)產(chǎn)品已經(jīng)達到國際先進(jìn)水平，這是一個(gè)值得自豪的成績(jì)。未來(lái)，7nm工藝逐漸向5nm升級，技術(shù)的研究會(huì )越來(lái)越困難
- 關(guān)鍵字： ASML EUV
日媒：三星最高利潤背后的危機感
- 韓國三星電子2017財年(截至2017年12月)合并營(yíng)業(yè)利潤創(chuàng )下歷史新高，但其危機感正在加劇。三星1月31日發(fā)布的財報顯示，營(yíng)業(yè)利潤同比增長(cháng)83%，其中僅半導體業(yè)務(wù)盈利就增至上年的2.6倍，約合3.5萬(wàn)億日元，顯著(zhù)依賴(lài)市場(chǎng)行情，因此危機感增強。3大主要部門(mén)面臨著(zhù)半導體增長(cháng)放緩等課題。三星能否在新經(jīng)營(yíng)團隊的領(lǐng)導下，將智能手機和電視機的自主技術(shù)培育成新的收益源? 2018財年將成為試金石。 三星整體的營(yíng)業(yè)利潤為53.65萬(wàn)億韓元，時(shí)隔4年再創(chuàng )歷史新高。其中，半導體部門(mén)的服務(wù)器和智能手機存儲銷(xiāo)量堅挺，
- 關(guān)鍵字： 三星 EUV
EUV微影前進(jìn)7nm制程，5nm仍存在挑戰
- EUV微影技術(shù)將在未來(lái)幾年內導入10奈米(nm)和7nm制程節點(diǎn)。 不過(guò)，根據日前在美國加州舉辦的ISS 2018上所發(fā)布的分析顯示，實(shí)現5nm芯片所需的光阻劑仍存在挑戰。 極紫外光(extreme ultraviolet;EUV)微影技術(shù)將在未來(lái)幾年內導入10奈米(nm)和7nm制程節點(diǎn)。 不過(guò)，根據日前在美國加州舉辦的年度產(chǎn)業(yè)策略研討會(huì )(Industry Strategy Symposium;ISS 2018)所發(fā)布的分析顯示，實(shí)現5nm芯片所需的光阻劑(photoresist)仍存在挑戰。
- 關(guān)鍵字： EUV 7nm
4nm大戰,三星搶先導入將EUV,研發(fā)GAAFET
- 晶圓代工之戰，7nm制程預料由臺積電勝出，4nm之戰仍在激烈廝殺。 Android Authority報道稱(chēng)，三星電子搶先使用極紫外光(EUV)微影設備，又投入研發(fā)能取代「鰭式場(chǎng)效晶體管」(FinFET)的新技術(shù)，目前看來(lái)似乎較占上風(fēng)。 Android Authority報導，制程不斷微縮，傳統微影技術(shù)來(lái)到極限，無(wú)法解決更精密的曝光顯像需求，必須改用波長(cháng)更短的EUV， 才能準確刻蝕電路圖。 5nm以下制程，EUV是必備工具。 三星明年生產(chǎn)7nm時(shí)，就會(huì )率先采用EUV，這有如讓三星在6nm以下的競
- 關(guān)鍵字： 4nm EUV
EUV或將決定半導體產(chǎn)業(yè)方向，通快加緊布局
- 近日，TRUMPF公司CTO及股東Peter Leibinger在談到令人著(zhù)迷的激光創(chuàng )新時(shí)重點(diǎn)提及極紫外光刻，也就是我們常說(shuō)的EUV。他認為，EUV令人著(zhù)迷的原因是其極富挑戰性及對世界的重要影響。 Peter Leibinger “如果我們無(wú)法實(shí)現EUV突破，摩爾定律將失效” Peter Leibinger表示：“其影響范圍不僅僅是芯片行業(yè)，智能手機產(chǎn)業(yè)乃至整個(gè)電子裝備產(chǎn)業(yè)都將改變運作方式。” 什么是EUV? 極紫外光刻(Ex
- 關(guān)鍵字： TRUMPF EUV
EUV面臨的問(wèn)題和權衡
- 新的光刻工具將在5nm需要，但薄膜，阻抗和正常運行時(shí)間仍然存在問(wèn)題。 Momentum正在應用于極紫外(EUV)光刻技術(shù)，但這個(gè)談及很久的技術(shù)可以用于批量生產(chǎn)之前，仍然有一些主要的挑戰要解決。 EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來(lái)是預計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過(guò)去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個(gè)節點(diǎn)推向下一個(gè)階段。 如今，GlobalFoundries，英特爾，三星和臺積電相互競爭，將EUV光刻插入到7nm和/或5nm的大容量
- 關(guān)鍵字： EUV
Brewer Science 為領(lǐng)先制造廠(chǎng)商提供關(guān)鍵性的半導體材料
- Brewer Science, Inc. 很榮幸宣布參加 2017 年的 SEMICON Taiwan。公司將與業(yè)界同仁交流臺灣半導體制造趨勢的見(jiàn)解，內容涵蓋前端和后端的材料，以及次世代制造的流程步驟?！ 〗袢盏南M性電子產(chǎn)品、網(wǎng)絡(luò )、高效能運算 (HPC) 和汽車(chē)應用皆依賴(lài)封裝為小型尺寸的半導體裝置，其提供更多效能與功能，同時(shí)產(chǎn)熱更少且操作時(shí)更省電。透過(guò)摩爾定律推動(dòng)前端流程開(kāi)發(fā)，領(lǐng)先的代工和整合組件制造商(IDM
- 關(guān)鍵字： 晶圓 EUV
張忠謀：臺積電南京廠(chǎng)明年下半量產(chǎn)
- 臺積電(2330)南京廠(chǎng)今日上午正式舉行進(jìn)機典禮，由董事長(cháng)張忠謀親自主持，大陸中央及地方貴賓云集，顯示對臺積電南京投資案重視。 海思及聯(lián)發(fā)科將是首批客戶(hù) 張忠謀表示，大陸集成電路在中國制造，臺積電可助一臂之力。 南京廠(chǎng)預計2018年下半年量產(chǎn)，陸媒預估中國海思及聯(lián)發(fā)科(2454)將是首批客戶(hù)。 工程師已陸續由臺灣進(jìn)駐 今年上半年臺積電工程師已經(jīng)陸續由臺灣進(jìn)駐南京廠(chǎng)協(xié)助建廠(chǎng)事宜，8月16奈米大型機臺陸續透過(guò)華航包機，由臺灣運往南京祿口機場(chǎng)，而南京市政府為了迎接重量級貴賓，加快浦口
- 關(guān)鍵字： 臺積電 EUV
臺積30周年：半導體八巨頭將同臺，庫克沒(méi)來(lái)
- 晶圓代工龍頭臺積電將在今年10月23日盛大舉辦「臺積公司30周年慶」論壇，以及于國家音樂(lè )廳舉辦音樂(lè )會(huì )。 臺積電30周年慶活動(dòng)將由當天下午舉行的半導體論壇揭開(kāi)序幕，由董事長(cháng)張忠謀親自主持，將邀請包括高通、博通、輝達(NVIDIA)、ADI、ASML、ARM、蘋(píng)果等重量級客戶(hù)及合作伙伴， 與張忠謀一起暢談半導體產(chǎn)業(yè)未來(lái)10年展望。 臺積電今年歡度30周年，活動(dòng)當天將盛大舉辦「臺積公司30周年慶」論壇，由董事長(cháng)張忠謀親自主持，與談人包括了NVIDIA執行長(cháng)黃仁勛、高通執行長(cháng)Steve Mollenko
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