EUV或將決定半導體產(chǎn)業(yè)方向，通快加緊布局

　　近日，TRUMPF公司CTO及股東Peter Leibinger在談到令人著(zhù)迷的激光創(chuàng )新時(shí)重點(diǎn)提及極紫外光刻，也就是我們常說(shuō)的EUV。他認為，EUV令人著(zhù)迷的原因是其極富挑戰性及對世界的重要影響。

　　Peter Leibinger

　　“如果我們無(wú)法實(shí)現EUV突破，摩爾定律將失效” Peter Leibinger表示：“其影響范圍不僅僅是芯片行業(yè)，智能手機產(chǎn)業(yè)乃至整個(gè)電子裝備產(chǎn)業(yè)都將改變運作方式。”

　　什么是EUV?

　　極紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography)，常稱(chēng)作EUV光刻，它以波長(cháng)為10^-14nm的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長(cháng)為13.4nm 的軟x 射線(xiàn)。

　　在半導體芯片及集成電路制造領(lǐng)域，目前主要采用193nm浸沒(méi)光刻技術(shù)對晶片上的精細特征進(jìn)行圖案化。但是，193nm浸沒(méi)式光刻在80nm間距(40nm半間距)下達到極限。為此，從22nm / 20nm開(kāi)始，芯片制造商開(kāi)始使用193nm浸沒(méi)光刻以及各種多種圖案化技術(shù)。為了減小超過(guò)40nm的間距，多個(gè)圖案化涉及在晶圓廠(chǎng)中使用幾個(gè)光刻，蝕刻和沉積步驟的過(guò)程。

　　隨之而來(lái)的就是制程成本及周期時(shí)間的增長(cháng)。為了解決這些問(wèn)題，芯片廠(chǎng)商開(kāi)始將目光轉向EUV光刻。

　　相對于193nm浸沒(méi)式光刻，EUV光刻可以提供更高的k1，在提供高分辨率的同時(shí)擁有較大的工藝窗口，從而減少光刻工藝復雜性。

　　正式基于這些優(yōu)勢，EUV吸引了芯片制造廠(chǎng)商及設備廠(chǎng)商的廣泛關(guān)注。三星公司表示，接下來(lái)的7nm工藝將采用EUV光刻。在英特爾方面，雖然還沒(méi)有明確EUV光刻導入時(shí)間，但是也將其作為未來(lái)重要制程技術(shù)之一。

　　在產(chǎn)生極紫外光的各種光刻工具里，激光器發(fā)揮重要作用。為此，TRUMPF公司在EUV領(lǐng)域重點(diǎn)投入。

　　與ASML公司建立合作關(guān)系

　　2015年ASML向TRUMPF公司訂購了15臺EUV光刻工具，而ASML則是全球EUV光刻領(lǐng)域領(lǐng)導者。TRUMPF公司也表示將積極布局極紫外激光器。

　　此外，TRUMPF公司也投資7000萬(wàn)歐元在德國迪琴根建設一座占地34000平方米的工廠(chǎng)，主要用于生產(chǎn)極紫外光刻所需要的激光器產(chǎn)品。對于接下來(lái)即將出現的EUV訂單，TRUMPF公司充滿(mǎn)信心。

　　而ASML公司也預計其客戶(hù)將在2018至2019年后，開(kāi)始將EUV光刻技術(shù)使用在芯片量產(chǎn)上。因此，在2020年前，第一批搭載以EUV光刻技術(shù)生產(chǎn)的芯片的電子裝備將上市。實(shí)際上，ASML公司接到的未出貨訂單已經(jīng)高達21臺。

　　另外，在柔性平板顯示屏制造中紫外激光器應用需求也將進(jìn)一步增加，這些都是TRUMPF公司對于EUV重點(diǎn)投資的原因。

　　收購Access Laser公司完善布局

　　近日，通快公司宣布收購Access Laser公司85%股份。Access Laser公司主要生產(chǎn)高精密低功率CO2激光器用于極紫外光刻(EUV)，這也是通快公司主要的投資方向之一。作為光源，該CO2激光器和通快激光放大器共同部署于EUV系統。通快公司表示，通過(guò)此次收購將整合EUV技術(shù)供應鏈領(lǐng)域關(guān)鍵成員。

　　通快公司CTO及股東Peter Leibinger表示：“Access Laser是我們EUV業(yè)務(wù)的核心伙伴，一家富有創(chuàng )新力的激光企業(yè)。此次收購之后，兩家公司將更加緊密地合作以推進(jìn)EUV技術(shù)發(fā)展，服務(wù)更多的應用及客戶(hù)。”

　　經(jīng)過(guò)多年的持續發(fā)展，EUV技術(shù)工藝逐漸成熟，這為公司銷(xiāo)售帶來(lái)很大促進(jìn)作用。Access Laser創(chuàng )始人及董事長(cháng)張永方表示：“Access Laser一直富有創(chuàng )新精神。此次在EUV技術(shù)領(lǐng)域的合作，成功展現了Access Laser和TRUMPF兩家公司的協(xié)作關(guān)系。”

　　成立于1999年，Access Laser在美國和中國擁有超過(guò)60名員工。其產(chǎn)品包括輸出功率在10mW到50W之間，峰值功率高達1KW的精密激光器，應用于醫學(xué)、電子及科研領(lǐng)域。此次收購價(jià)格，暫未對外公布。