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封裝與晶粒接口技術(shù)雙管齊下 小芯片發(fā)展加速

  • 當延續摩爾定律的開(kāi)發(fā)重點(diǎn),也就是單一芯片晶體管數量的世代更迭仍因技術(shù)受阻而放緩,未來(lái)芯片市場(chǎng)逐漸開(kāi)始擁抱小芯片的設計思維,透過(guò)廣納目前供應鏈成熟且靈活的先進(jìn)制程技術(shù),刺激多方廠(chǎng)商展開(kāi)更多合作,進(jìn)一步加速從設計、制造、測試到上市的流程,讓更多高效節能的芯片與物聯(lián)網(wǎng)成真。要說(shuō)目前市場(chǎng)上最主流的芯片設計,必非「系統單芯片(SoC)」莫屬。就這點(diǎn),近年最廣為熱論的焦點(diǎn)就鎖定蘋(píng)果2020年推出基于A(yíng)rm架構的自制芯片M1,而日前盛大舉行的蘋(píng)果2021年首場(chǎng)全球新品發(fā)布會(huì )中,最新一代iMac更揭曉為繼MacBook之
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小芯片Chiplet夯什么?挑戰摩爾定律天花板

  • 大人物(大數據、人工智能、物聯(lián)網(wǎng))時(shí)代來(lái)臨,高效能、低功耗、多功能高階制程芯片扮演重要角色,隨著(zhù)功能增加,芯片面積也越來(lái)越大,想降低芯片成本,先進(jìn)封裝技術(shù)不可或缺。棘手的是,先進(jìn)封裝技術(shù)導入過(guò)程中,很可能因為良率不穩定導致成本墊高。另一方面,新功能芯片模塊在面積變大之余也要克服摩爾定律(Moore’s Law)物理極限,在晶體管密度與效能間找到新的平衡。前述兩個(gè)問(wèn)題,小芯片(Chiplet)有解!實(shí)驗研究院臺灣半導體研究中心(簡(jiǎn)稱(chēng)國研院半導體中心)副主任謝嘉民指出,過(guò)去的芯片效能提升多仰賴(lài)半導體制程改進(jìn),
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Imagination CEO:在逆境中創(chuàng )新,向更好未來(lái)邁進(jìn)

  • 由于疫情不斷蔓延,加上大國之間的關(guān)系變得冷淡,過(guò)去一年對個(gè)人和企業(yè)來(lái)說(shuō)都是動(dòng)蕩不安的。在2019年底時(shí),沒(méi)人能預知我們現在的處境,因此未來(lái)的12個(gè)月及之后的時(shí)間同樣難以預測和規劃。然而,在目睹整個(gè)世界特別是半導體產(chǎn)業(yè)如何因應疫情的發(fā)展之后,也讓我們意識到更多積極的事情將不斷到來(lái)。受益者和受損者半導體產(chǎn)業(yè)規模龐大,許多領(lǐng)域受到了影響,其中一些領(lǐng)域出現了發(fā)展放緩的現象。例如,由于政府將時(shí)間和資金都集中用于抗擊疫情,因此大型基礎設施和智慧城市的部署速度有所減慢。但另一方面,?自疫情爆發(fā)以來(lái),消費類(lèi)市場(chǎng)
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新思科技推出業(yè)界首個(gè)統一平臺3DIC Compiler,以加速多裸晶芯片系統設計和集成

  • 重點(diǎn):3DIC Compiler基于新思科技的Fusion Design Platform、世界級引擎和數據模型,在單一用戶(hù)環(huán)境下提供一個(gè)綜合性的端到端解決方案,具有針對先進(jìn)多裸晶芯片系統設計的全套功能提供強大的三維視圖功能,為2.5D/3D封裝可視化提供直觀(guān)的環(huán)境,顯著(zhù)減少設計到分析的迭代次數,并最大限度地縮短整體集成時(shí)間提供與Ansys硅-封裝-印刷電路板技術(shù)的緊密集成,以進(jìn)行系統級信號、功率和熱量分析新思科技(Synopsys, Inc.,納斯達克股票代碼:SNPS)近日推出其3DIC Co
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金升陽(yáng)新的DC-DC定壓R4電源:涅槃重生,創(chuàng )“芯”未來(lái)

  • 1 “芯片級”模塊電源的誕生DC-DC定電壓電源模塊是金升陽(yáng)公司的拳頭產(chǎn)品,在全球有數十萬(wàn)用戶(hù),可謂世界級的產(chǎn)品。2020年,金升陽(yáng)歷經(jīng)多年技術(shù)沉淀,推出第四代定壓產(chǎn)品(簡(jiǎn)稱(chēng)“定壓R4”),可謂具有突破性的“芯片級”的模塊電源(如圖1)。實(shí)際上,金升陽(yáng)的定壓系列產(chǎn)品從R1升級到R2,再到R3代,每次更迭換代,產(chǎn)品都進(jìn)行了非常多的電路和工藝技術(shù)突破;但是封裝工藝上還是一樣,仍沿用傳統的灌封/塑封工藝,產(chǎn)品結構和外觀(guān)沒(méi)有顯著(zhù)變化。不過(guò),此次推出的新的定壓R4代電源模塊,最大的技術(shù)創(chuàng )新點(diǎn)就是在封裝工藝上取得了重
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芯片設計業(yè)的上下游老總對本土設計業(yè)的點(diǎn)評和展望

  • 2019年底,一年一度的“中國集成電路設計業(yè)2019年會(huì )”在南京舉行,EEPW訪(fǎng)問(wèn)了EDA、設計服務(wù)廠(chǎng)商和代工廠(chǎng)的老總,請他們回顧和分析了2019年的熱點(diǎn),并展望了2020及未來(lái)的設計業(yè)下一個(gè)浪潮。
  • 關(guān)鍵字: chiplet  制程  

硅通孔3DIC工藝顯著(zhù)減小傳感器的外形尺寸

  •   引言  更小的外形尺寸、卓越的功能、更出色的性能和更低的BOM(物料成本)是系統工程師在開(kāi)發(fā)傳感器和傳感器接口應用等復雜電子產(chǎn)品時(shí)面臨的主要挑戰??s小芯片尺寸可以通過(guò)使用集成密度更高的小型制程節點(diǎn)實(shí)現,而系統的小型化則可以通過(guò)使用先進(jìn)的封裝技術(shù)來(lái)達成。如今,對更高系統集成度的需求與日俱增,這也促使那些傳統的封裝服務(wù)供應商和半導體公司著(zhù)手開(kāi)發(fā)更具創(chuàng )新性、更為先進(jìn)的封裝技術(shù)。其中前景廣闊,同時(shí)也具有挑戰性的當屬采用硅通孔(TSV)的3D集成電路(3DIC)。3DIC技術(shù)現已被廣泛應用于數字集成電路(例如存
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半導體展買(mǎi)氣勝往年 臺灣半導體業(yè)看好

  •   國內年度半導體業(yè)展會(huì )盛事「SEMICONTaiwan2014」九月三日至五日舉行。主辦單位「國際半導體設備材料協(xié)會(huì )」(SEMI)臺灣區副總裁何玫玲表示,此次展覽規模,創(chuàng )下歷年最高紀錄,總計超過(guò)六百五十家廠(chǎng)商、一千四百一十個(gè)攤位,參展廠(chǎng)商和參觀(guān)人數則突破四萬(wàn)。比起去年,何玫玲直言,今年展覽買(mǎi)氣強旺,買(mǎi)主洽談會(huì )共約六十場(chǎng),這是往年沒(méi)有發(fā)生的現象。   2014年半導體展概念股臺廠(chǎng)營(yíng)運情形   何玫玲分析并解釋說(shuō),買(mǎi)氣旺盛,應是國內龍頭廠(chǎng)商臺積電(2330)、聯(lián)電(2303)等,近年大力扶持國內
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手機芯片加速整合 3D IC是重要武器

  •   3D IC將是半導體業(yè)者站穩手機晶片市場(chǎng)的必備武器。平價(jià)高規智慧型手機興起,已加速驅動(dòng)內部晶片整合與制程演進(jìn);然而,20奈米以下先進(jìn)制程研發(fā)成本極高,但所帶來(lái)的尺寸與功耗縮減效益卻相對有限,因此半導體廠(chǎng)已同步展開(kāi)3D IC技術(shù)研發(fā),以實(shí)現更高的晶片整合度,其中,三星已率先宣布將于2014年導入量產(chǎn)。   拓墣產(chǎn)業(yè)研究所半導體中心研究員蔡宗廷認為,MEMS技術(shù)將是手機設計差異化的關(guān)鍵,包括MEMS自動(dòng)對焦和振蕩器的出貨成長(cháng)均極具潛力。   拓墣產(chǎn)業(yè)研究所半導體中心研究員蔡宗廷表示,2013~2015
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SEMI中國封測委員會(huì )第五次會(huì )議聚焦3DIC標準

  •   在西安市高新開(kāi)發(fā)區管委會(huì )大力支持下,SEMI中國封測委員會(huì )第五次會(huì )議近日在西安成功召開(kāi)。SEMI全球副總裁、中國區總裁陸郝安與西安高新開(kāi)發(fā)區安主任共同為會(huì )議致辭,吳凱代表SEMI中國同與會(huì )者分享了中國半導體及封測市場(chǎng)現況、SEMI標準制定流程和重要意義、SEMI標準在北美的成功案例等主題報告。經(jīng)過(guò)熱烈討論,代表們就3DIC標準的制訂在以下幾個(gè)方面達成共識:   一是臺灣和北美對3DIC發(fā)展方向也不明確,中國半導體投資巨大且貼近應用市場(chǎng),有機會(huì )趕上歐美先進(jìn)水平,甚至在特定領(lǐng)域可實(shí)現"彎道
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中芯國際成立視覺(jué)、傳感器以及3DIC中心

  •   中芯國際集成電路制造有限公司(中芯國際)宣布成立視覺(jué)、傳感器和3DIC中心(簡(jiǎn)稱(chēng)CVS3D)。中芯國際CVS3D整合、強化了中芯國際在硅傳感器、通過(guò)硅通孔(TSV)技術(shù)和其他中端晶圓制程技術(shù)(MEWP)的上的研發(fā)和生產(chǎn)制造能力。而MEWP技術(shù)帶動(dòng)了在CMOS圖像傳感器、MEMS傳感器、三維堆疊設備,和基于TSV2.5D和3D的高性能系統級封裝(SiP)方面的顯著(zhù)進(jìn)步。   半導體行業(yè)正快速采用基于TSV2.5D和3DIC的技術(shù),使系統芯片進(jìn)一步小型化,同時(shí)降低功耗、提高設備和系統性能。根據201
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20nm和3D IC將是積極的產(chǎn)業(yè)

  • 過(guò)去一年中,Mentor公司實(shí)現了10億美元的營(yíng)業(yè)額。并在20nm設計、3DIC、DFM(可制造設計)、DFT(可測試設計)、SoC驗證方面都有很大進(jìn)展。在北京的Mentor Forum期間,筆者就目前設計業(yè)的一些困惑,詢(xún)問(wèn)了Mentor的掌舵人。
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美商Altera公司與TSMC采用CoWoS生產(chǎn)技術(shù)

  • 美商Altera公司與TSMC22日宣布,采用TSMC CoWoS生產(chǎn)技術(shù)共同開(kāi)發(fā)全球首顆能夠整合多元芯片技術(shù)的三維集成電路(Heterogeneous 3DIC)測試芯片,此項創(chuàng )新技術(shù)系將模擬、邏輯及內存等各種不同芯片技術(shù)堆棧于單一芯片上組合而成,可協(xié)助半導體產(chǎn)業(yè)超越摩爾定律的發(fā)展規范,而TSMC的CoWoS整合生產(chǎn)技術(shù)能夠提供開(kāi)發(fā)3DIC技術(shù)的半導體公司一套完整的解決方案,包括從前端晶圓制造到后端封裝測試的整合服務(wù)。
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半導體制程技術(shù)邁入3D 2013年可視為量產(chǎn)元年

  •   時(shí)序即將進(jìn)入2012年,半導體產(chǎn)業(yè)技術(shù)持續進(jìn)行變革,其中3D IC便為未來(lái)芯片發(fā)展趨勢,將促使供應鏈加速投入3D IC研發(fā),其中英特爾(Intel)在認為制程技術(shù)將邁入3D下,勢必激勵其本身的制程創(chuàng )新。另外在半導體業(yè)者預期3D IC有機會(huì )于2013年出現大量生產(chǎn)的情況下,預估2013年也可視為是3D IC量產(chǎn)元年。   3D IC為未來(lái)芯片發(fā)展趨勢,其全新架構帶來(lái)極大改變,英特爾即認為,制程技術(shù)將邁入3D,未來(lái)勢必激勵技術(shù)創(chuàng )新。英特爾實(shí)驗室日前便宣布與工研院合作,共同合作開(kāi)發(fā)3D IC架構且具低功耗
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后摩爾定律時(shí)代:3DIC成焦點(diǎn)

  •   當大部份芯片廠(chǎng)商都感覺(jué)到遵循摩爾定律之途愈來(lái)愈難以為繼時(shí),3DIC成為了該產(chǎn)業(yè)尋求持續發(fā)展的出路之一。然而,整個(gè)半導體產(chǎn)業(yè)目前也仍在為這種必須跨越工具、制程、設計端并加以整合的技術(shù)類(lèi)別思考適合的解決方案?!?/li>
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