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鎧俠產(chǎn)能滿(mǎn)載 傳7月量產(chǎn)最先進(jìn)NAND Flash產(chǎn)品

  • 《科創(chuàng )板日報》4日訊,鎧俠產(chǎn)線(xiàn)稼動(dòng)率據悉已在6月回升至100%水準、且將在7月內量產(chǎn)最先進(jìn)存儲芯片(NAND Flash)產(chǎn)品,借此開(kāi)拓因生成式AI普及而急增的數據存儲需求。據悉,鎧俠將開(kāi)始量產(chǎn)的NAND Flash產(chǎn)品堆疊218層數據存儲元件,和現行產(chǎn)品相比,存儲容量提高約50%,寫(xiě)入數據時(shí)所需的電力縮減約30%。 (MoneyDJ)
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鎧俠公布藍圖:2027年實(shí)現1000層3D NAND堆疊

  • 近日,據媒體報道,日本存儲芯片廠(chǎng)商鎧俠公布了3D NAND閃存發(fā)展藍圖,目標2027年實(shí)現1000層堆疊。鎧俠表示,自2014年以來(lái),3D NAND閃存的層數經(jīng)歷了顯著(zhù)的增長(cháng),從初期的24層迅速攀升至2022年的238層,短短8年間實(shí)現了驚人的10倍增長(cháng)。鎧俠正是基于這種每年平均1.33倍的增長(cháng)速度,預測到2027年達到1000層堆疊的目標是完全可行的。而這一規劃較此前公布的時(shí)間早了近3年,據日本媒體今年4月報道,鎧俠CTO宮島英史在71屆日本應用物理學(xué)會(huì )春季學(xué)術(shù)演講會(huì )上表示,公司計劃于2030至2031
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SK海力士5層堆疊3D DRAM新突破:良品率已達56.1%

  • 6月25日消息,據媒體報道,SK海力士在近期于美國夏威夷舉行的VLSI 2024峰會(huì )上,重磅發(fā)布了關(guān)于3D DRAM技術(shù)的最新研究成果,展示了其在該領(lǐng)域的深厚實(shí)力與持續創(chuàng )新。據最新消息,SK海力士在3D DRAM技術(shù)的研發(fā)上取得了顯著(zhù)進(jìn)展,并首次詳細公布了其開(kāi)發(fā)的具體成果和特性。公司正全力加速這一前沿技術(shù)的開(kāi)發(fā),并已取得重大突破。SK海力士透露,目前其5層堆疊的3D DRAM良品率已高達56.1%,這一數據意味著(zhù)在單個(gè)測試晶圓上,能夠成功制造出約1000個(gè)3D DRAM單元,其中超過(guò)一半(即561個(gè))為良
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西門(mén)子推出Calibre 3DThermal軟件,持續布局3D IC市場(chǎng)

  • ●? ?Calibre 3DThermal?可為?3D IC?提供完整的芯片和封裝內部熱分析,幫助應對從芯片設計和?3D?組裝的早期探索到項目?Signoff?過(guò)程中的設計與驗證挑戰●? ?新軟件集成了西門(mén)子先進(jìn)的設計工具,能夠在整個(gè)設計流程中捕捉和分析熱數據西門(mén)子數字化工業(yè)軟件近日宣布推出?Calibre??3DThermal?軟件,可針對?3D?
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NAND市場(chǎng),激戰打響

  • 隨著(zhù)人工智能(AI)相關(guān)半導體對高帶寬存儲(HBM)需求的推動(dòng),NAND 閃存市場(chǎng)也感受到了這一趨勢的影響。目前,NAND 閃存市場(chǎng)的競爭正在加劇,存儲巨頭三星和 SK 海力士正加緊努力,以提升 NAND 產(chǎn)品的性能和容量。兩大巨頭輪番出手三星投產(chǎn)第九代 V-NAND 閃存今年 4 月,三星宣布其第九代 V-NAND 1Tb TLC 產(chǎn)品開(kāi)始量產(chǎn),這將有助于鞏固其在 NAND 閃存市場(chǎng)的卓越地位。那么 V-NAND 閃存是什么呢?眾所周知,平面 NAND 閃存不僅有 SLC、MLC 和 TLC 類(lèi)型之分,
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鎧俠結束減產(chǎn)??jì)勺鵑AND工廠(chǎng)開(kāi)工率提高至100%

  • 據日經(jīng)新聞報道,鑒于市場(chǎng)正在復蘇,日本存儲芯片廠(chǎng)商鎧俠已結束持續20個(gè)月的減產(chǎn)行動(dòng),且貸方同意提供新的信貸額度。報道稱(chēng),鎧俠于6月份將位于三重縣四日市和巖手縣北上市的兩座NAND工廠(chǎng)的生產(chǎn)線(xiàn)開(kāi)工率提高至100%。而隨著(zhù)業(yè)務(wù)好轉,債權銀行已同意為6月份到期的5,400億日元(34.3億美元)貸款進(jìn)行再融資。他們還將設立總額為2,100億日元的新信貸額度。2022年10月,為應對需求低迷的市場(chǎng)環(huán)境,鎧俠發(fā)布聲明稱(chēng),將調整四日市和北上市NAND Flash晶圓廠(chǎng)的生產(chǎn),將晶圓生產(chǎn)量減少約30%,并表示會(huì )繼續根據
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Omdia:2027 年 QLC 市場(chǎng)規模將占整體 NAND 閃存 46.4%,為去年 3.6 倍

  • IT之家 6 月 14 日消息,韓媒 Sedaily 轉述市場(chǎng)分析機構 Omdia 的話(huà)稱(chēng),2027 年 QLC 市場(chǎng)規模將占到整體 NAND 閃存的 46.4%,僅略低于 TLC 的 51%。作為對比,Omdia 認為 2023 年 QLC 閃存市場(chǎng)份額占比僅有 12.9%,今年這一比例將大幅增至 20.7%。換句話(huà)說(shuō),未來(lái)三年 QLC 在 NAND 市場(chǎng)整體中的占比將在今年的基礎上繼續提升 1.24 倍,達 2023 年的 3.6 倍。在 2023 年及以前,QLC 的市場(chǎng)滲透主要
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三星計劃到2030年推出1000層3D NAND新材料

  • 據外媒報道,三星電子正在積極探索“鉿基薄膜鐵電(Hafnia Ferroelectrics)”作為下一代NAND閃存材料,希望這種新材料可以堆疊1000層以上的3D NAND,并實(shí)現pb級ssd。如果上述材料研發(fā)順利,將能夠在特定條件下表現出鐵電性,有望取代目前在3D NAND堆疊技術(shù)中使用的氧化物薄膜,提升芯片耐用與穩定度。據三星電子高管預測,到2030年左右,其3D NAND的堆疊層數將超過(guò)1000層。三星高管Giwook Kim將于今年6月發(fā)表技術(shù)演講,分析鉿基薄膜鐵電(Hafnia Ferroel
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邁向 3D 內存:三星電子計劃 2025 年完成 4F2 VCT DRAM 原型開(kāi)發(fā)

  • IT之家 5 月 21 日消息,綜合韓媒 ZDNet Korea 和 The Elec 報道,三星電子執行副總裁 Lee Siwoo 在本月舉行的 IEEE IMW 2024 研討會(huì )上表示該企業(yè)計劃在明年推出 4F2 VCT DRAM 原型。目前 3D DRAM 領(lǐng)域商業(yè)化研究集中在兩種結構上:一種是 4F2 VCT(IT之家注:Vertical Channel Transistor,垂直通道晶體管) DRAM;另一種是 VS-CAT(Vertical Stacke
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三星1000層NAND目標,靠它實(shí)現

  • 三星電子計劃實(shí)現“PB級”存儲器目標。三星高層曾預期,V-NAND在2030年疊加千層以上。最新消息指出,三星考慮用新“鐵電”材料鉿基薄膜鐵電(Hafnia Ferroelectrics)實(shí)現目標,且可能是關(guān)鍵。目前,三星已經(jīng)推出了290層的堆疊第九代V-NAND快閃存儲器,而據業(yè)內消息,三星計劃于明年推出第10代NAND芯片,采用三重堆疊技術(shù),堆疊層數將達到驚人的430層。三星的目標是盡快實(shí)現超過(guò)1000 TB的存儲容量里程碑,為大數據、云計算等領(lǐng)域的發(fā)展提供強大的存儲支持。最新消息是,KAIST的研究
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三星1000層NAND目標,靠它實(shí)現?

  • 三星電子計劃實(shí)現“PB級”存儲器目標。三星高層曾預期,V-NAND在2030年疊加千層以上。最新消息指出,三星考慮用新“鐵電”材料鉿基薄膜鐵電(Hafnia Ferroelectrics)實(shí)現目標,且可能是關(guān)鍵。目前,三星已經(jīng)推出了290層的堆疊第九代V-NAND快閃存儲器,而據業(yè)內消息,三星計劃于明年推出第10代NAND芯片,采用三重堆疊技術(shù),堆疊層數將達到驚人的430層。三星的目標是盡快實(shí)現超過(guò)1000 TB的存儲容量里程碑,為大數據、云計算等領(lǐng)域的發(fā)展提供強大的存儲支持。最新消息是,KAIST的
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SK海力士開(kāi)發(fā)新一代移動(dòng)端NAND閃存解決方案“ZUFS 4.0”

  • · 作為業(yè)界最高性能產(chǎn)品,將于今年第3季度開(kāi)始量產(chǎn)并搭載于端側AI手機· 與前一代產(chǎn)品相比,長(cháng)期使用所導致的性能下降方面實(shí)現大幅改善,其使用壽命也提升40%· “繼HBM后,也在NAND閃存解決方案領(lǐng)域引領(lǐng)面向AI的存儲器市場(chǎng)”2024年5月9日,SK海力士宣布,公司開(kāi)發(fā)出用于端側(On-Device)AI*的移動(dòng)端NAND閃存解決方案產(chǎn)品“ZUFS**(Zoned UFS)4.0”。SK海力士表示:“ZUFS 4.0為新一代移動(dòng)端NAND閃存解決方案產(chǎn)品,其產(chǎn)品實(shí)現業(yè)界最高
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SK海力士試圖用低溫蝕刻技術(shù)生產(chǎn)400多層的3D NAND

  • 在-70°C 下工作的蝕刻工具有獨特的性能。
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第二季DRAM合約價(jià)漲幅上修至13~18%;NAND Flash約15~20%

  • 據TrendForce集邦咨詢(xún)最新預估,第二季DRAM合約價(jià)季漲幅將上修至13~18%;NAND Flash合約價(jià)季漲幅同步上修至約15~20%,全線(xiàn)產(chǎn)品僅eMMC/UFS價(jià)格漲幅較小,約10%。403地震發(fā)生前,TrendForce集邦咨詢(xún)原先預估,第二季DRAM合約價(jià)季漲幅約3~8%;NAND Flash為13~18%,相較第一季漲幅明顯收斂,當時(shí)從合約價(jià)先行指標的現貨價(jià)格就可看出,現貨價(jià)已出現連續走弱,上漲動(dòng)能低落、交易量降低等情況。究其原因,主要是除了AI以外的終端需求不振,尤其筆電、智能手機
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累計上漲100%還不停!消息稱(chēng)SK海力士將對內存等漲價(jià) 至少上調20%

  • 5月6日消息,供應鏈爆料稱(chēng),SK海力士將對旗下LPDDR5、LPDDR4、NAND、DDR5等產(chǎn)品提價(jià),漲幅均有15%-20%。按照消息人士的說(shuō)法,海力士DRAM產(chǎn)品價(jià)格從去年第四季度開(kāi)始逐月上調,目前已累計上漲約60%-100%不等,下半年漲幅將趨緩??恐?zhù)存儲漲價(jià),三星電子2024年第一季營(yíng)業(yè)利潤達到了6.606萬(wàn)億韓元。財報顯示,三星電子一季度存儲業(yè)務(wù)營(yíng)收17.49萬(wàn)億韓元,環(huán)比增長(cháng)11%,同比暴漲96%,在整體的半導體業(yè)務(wù)營(yíng)收當中的占比高達75.58%。三星表示,一季度存儲市場(chǎng)總體需求強勁,特別是生
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3d nand介紹

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