冠石半導體 文章 進(jìn)入冠石半導體技術(shù)社區

國產(chǎn)廠(chǎng)商引入首臺光刻機設備！

• 據寧波前灣新區管理委員會(huì )7月15日消息，近日寧波冠石半導體有限公司迎來(lái)關(guān)鍵節點(diǎn)，引入首臺電子束掩模版光刻機。據悉，該設備是光掩模版40nm技術(shù)節點(diǎn)量產(chǎn)及28nm技術(shù)節點(diǎn)研發(fā)的重點(diǎn)設備。光掩模版是集成電路制造過(guò)程中光刻工藝所使用的關(guān)鍵部件，類(lèi)似于相機“底片”，光線(xiàn)經(jīng)過(guò)掩膜版后，可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前，我國高精度半導體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴(lài)于進(jìn)口，國產(chǎn)化率極低。據了解，冠石半導體主要從事45nm~28nm半導體光掩模版的規?；a(chǎn)。當前，冠石半導體一期潔凈車(chē)間設計產(chǎn)能為月產(chǎn)5000片180nm~2
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