ASML出貨超過(guò)100臺EUV光刻機 新制程時(shí)代來(lái)臨
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芯研所消息，全球半導體的缺貨，進(jìn)一步激發(fā)了上游半導體設備廠(chǎng)商的產(chǎn)能，據外媒報道截至第二季度，ASML EUV設備出貨總量達到102臺，隨著(zhù)需求量的提高和客戶(hù)群的擴大，預計2年內累計供應量將增加2倍以上，標志著(zhù)EUV時(shí)代正式拉開(kāi)帷幕。
本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/202109/428342.htm據統計，過(guò)去四個(gè)季度（2020年第三季度-2021年第二季度），ASML EUV設備出貨總計40臺，較之前四個(gè)季度（2019年第三季度-2020年第二季度）增長(cháng)了66%。ASML今年的出貨目標是40臺左右，下半年將供應25臺左右。
根據ASML的說(shuō)法，5-7nm邏輯半導體（以每月45,000顆晶圓為基準）每個(gè)EUV層需要一臺EUV設備，16nm及以下節點(diǎn)DRAM（以每月100,000顆晶圓為基準）每個(gè)EUV層則需要1.5-2臺設備。三星電子計劃，到今年下半年為止，將14nm DDR5 DRAM的EUV應用層數從1層增加到5層，SK海力士也計劃增加EUV應用層數，因此，預計EUV設備的需求將進(jìn)一步增加。
除了EUV層的增加，EUV設備的客戶(hù)群也在逐漸擴大。繼2018年三星電子首次引進(jìn)7nm制程的EUV設備后，臺積電和SK海力士也加入了EUV競爭。美國的美光和英特爾也在推進(jìn)EUV設備的引進(jìn)，預計市場(chǎng)規模將進(jìn)一步擴大。
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