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ASML最先進(jìn)的光刻機，花落誰(shuí)家？
- 4月上旬，全球光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(xiàn)(EUV)光刻設備Twinscan NXE:3800E，該工具投影透鏡擁有0.33的數值孔徑，旨在滿(mǎn)足未來(lái)幾年對于尖端技術(shù)芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸節點(diǎn)。ASML還計劃進(jìn)一步推出另一代低數值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F，預計將于2026年左右發(fā)布。近日，據外媒消息，ASML截至2025上半年的高數值孔徑EUV（High-NA EUV）設備訂單由英特爾全部包攬，據悉，英特爾在宣布重新進(jìn)入芯片代工業(yè)務(wù)時(shí)搶先
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柔弱的雕刻大師——EUV光刻機
- 在如今這個(gè)信息時(shí)代，如果說(shuō)我們的世界是由芯片堆積起來(lái)的高樓大廈，那么芯片制造，則是這里面高樓的地基，而談到芯片制造各位讀者自然就能想到光刻機，沒(méi)錯，作為人類(lèi)商業(yè)化機器的工程奇跡，光刻機自然是量產(chǎn)高性能芯片的必要設備。特別是隨著(zhù)這幾年中美貿易戰的加劇，光刻機這種大部分可能一生都不會(huì )見(jiàn)到的機器一下子成了婦孺皆知的存在，那么光刻機是如何工作的呢？它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢？本篇文章就著(zhù)重給大家介紹一下目前最先進(jìn)，也是我國被“卡脖子”的EUV（極紫外）光刻機。? ? &
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ASML新EUV光刻機成本：趕上頂級戰機
- 日前，ASML CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪(fǎng)時(shí)透露，他們正在全力研制劃時(shí)代的新光刻機high-NA EUV設備，而高NA EUV光刻機系統的單臺造價(jià)將在25億元（單臺造價(jià)在3億到3.5億歐元之間，約合人民幣21.95到25.61億元）。資料顯示重型航母（排水量60000噸以上）航母造價(jià)是35億美金左右，而上述光刻機成本等同于f35戰斗機造價(jià)（1.5-2.5億美元）。盡管如此昂貴，但Intel此前表示自己是全球第一個(gè)下單的客戶(hù)，臺積電也跟進(jìn)了。高NA EUV光刻機將在2024年進(jìn)廠(chǎng)投入
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三星公布發(fā)展規劃；ASML繼續向中國出貨非EUV光刻機
- 三星公布五年發(fā)展規劃10月20日，三星電子在韓國首爾舉辦晶圓代工論壇，此前三星已經(jīng)分別在美國加州、德國慕尼黑、日本東京舉辦了該論壇活動(dòng)，韓國首爾是今年三星晶圓代工論壇的收官站點(diǎn)。在上述晶圓代工系列活動(dòng)上，三星對外介紹了最新技術(shù)成果，以及未來(lái)五年晶圓代工事業(yè)發(fā)展規劃。按照規劃，三星將于2025年量產(chǎn)2nm先進(jìn)制程工藝技術(shù)，到2027年量產(chǎn)1.4nm制程工藝技術(shù)。另一大晶圓代工巨頭臺積電也于近期表示，2nm方面，目前進(jìn)展一切順利，將仍按照進(jìn)度量產(chǎn)，并將在2nm節點(diǎn)引入GAA架構，預計2024年下半年進(jìn)入風(fēng)險性
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臺積電計劃關(guān)閉部分EUV光刻機：先進(jìn)工藝過(guò)剩
- EUV光刻機是半導體制造中的核心設備，只有ASML公司才能生產(chǎn)，單臺售價(jià)約10億人民幣，之前三星、臺積電等公司還要搶著(zhù)買(mǎi)，然而今年半導體形勢已經(jīng)變了，EUV光刻機反而因為耗電太多，臺積電計劃關(guān)閉省電。來(lái)自產(chǎn)業(yè)鏈的消息人士手機晶片達人的消息稱(chēng)，由于先進(jìn)制程產(chǎn)能利用率開(kāi)始下滑，而且評估之后下滑時(shí)間會(huì )持續一段周期，臺積電計劃從年底開(kāi)始，將部分EUV 設備關(guān)機，以節省EUV設備巨大的耗電支出。據了解臺積電目前擁有大約80臺EUV光刻機，主要用于7nm、5nm及以下的先進(jìn)工藝，今年9月份還會(huì )量產(chǎn)3nm工藝，都需要E
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單價(jià)26億元 ASML下一代EUV光刻機啟動(dòng)：核心部件到貨
- 荷蘭ASML公司今天發(fā)布了2022年第二季度財報，當季凈銷(xiāo)售額為54.31億歐元，好于市場(chǎng)預期的52.6億歐元，上年同期為40.20億歐元，同比增長(cháng)35%。毛利潤為26.65億歐元，上一季度為17.31億歐元，上年同期為20.45億歐元;毛利率為49.1%，上一季度為49.0%。凈利潤為14.11億歐元，上年同期為10.38億歐元，同比增長(cháng)36%。Q2新增訂單金額為84.61億歐元，其中包括54億歐元的EUV訂單，較上一季度的新增訂單金額69.77億歐元環(huán)比增長(cháng)21%。本季度中，ASML公司出貨了12臺E
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臺積電、Intel、三星狂買(mǎi)ASML EUV光刻機
- 臺積電在北美技術(shù)論壇上公布了新的制程路線(xiàn)圖，定于2025年量產(chǎn)2nm工藝，其采用Nanosheet（納米片電晶體）的微觀(guān)結構，取代FinFET。期間，臺積電甚至規劃了5種3nm制程，包括N3、N3E、N3P、N3S和N3X，要在2025年前將成熟和專(zhuān)業(yè)化制程的產(chǎn)能提高50%，包括興建更多的晶圓廠(chǎng)。顯然，作為產(chǎn)能提升以及興建晶圓廠(chǎng)的關(guān)鍵核心設備，EUV光刻機少不了要采購一大批。臺積電表示，計劃在2024年引入ASML的新一代EUV極紫外光刻機。此前，Intel曾說(shuō)自己是第一個(gè)訂購ASML下一代EUV光刻機的
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TrendForce：ASML工廠(chǎng)火災 影響EUV光刻機交期
- ASML位于德國柏林工廠(chǎng)一處，于1月3日發(fā)生火警，該企業(yè)主要為晶圓代工及內存生產(chǎn)，所需的關(guān)鍵設備機臺，包含EUV與DUV之最大供貨商。根據TrendForce的消息，占地32,000平方米的柏林廠(chǎng)區中，約200平方米廠(chǎng)區受火災影響。該廠(chǎng)區主要制造光刻機中，所需的光學(xué)相關(guān)零組件，例如：晶圓臺、光罩吸盤(pán)和反射鏡，其中用以固定光罩的光罩吸盤(pán)，處于緊缺狀態(tài)。目前該廠(chǎng)零組件以供應EUV機臺較多，且以晶圓代工的需求占多數。若屆時(shí)因火災而造成零組件交期有所延后，不排除ASML將優(yōu)先分配主要的產(chǎn)出支持晶圓代工訂單的可能性
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ASML出貨超過(guò)100臺EUV光刻機 新制程時(shí)代來(lái)臨
- 芯研所消息，全球半導體的缺貨，進(jìn)一步激發(fā)了上游半導體設備廠(chǎng)商的產(chǎn)能，據外媒報道截至第二季度，ASML EUV設備出貨總量達到102臺，隨著(zhù)需求量的提高和客戶(hù)群的擴大，預計2年內累計供應量將增加2倍以上，標志著(zhù)EUV時(shí)代正式拉開(kāi)帷幕。據統計，過(guò)去四個(gè)季度（2020年第三季度-2021年第二季度），ASML EUV設備出貨總計40臺，較之前四個(gè)季度（2019年第三季度-2020年第二季度）增長(cháng)了66%。ASML今年的出貨目標是40臺左右，下半年將供應25臺左右。ASML擴大EUV設備供應響應了半導體制造業(yè)實(shí)現
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EUV光刻機將如何發(fā)展？
- AI、5G應用推動(dòng)芯片微縮化,要實(shí)現5nm、3nm等先進(jìn)制程,意味著(zhù)需要更新穎的技術(shù)支援以進(jìn)行加工制造,半導體設備商遂陸續推出新一代方案。 AI、5G應用推動(dòng)晶片微縮化,要實(shí)現5nm、3nm等先進(jìn)制程,意味著(zhù)需要更新穎的技術(shù)支援以進(jìn)行加工制造,為此,艾司摩爾(ASML)持續強化極紫外光(EUV)微影系統效能。艾司摩爾(ASML)資深市場(chǎng)策略總監Boudewijn Sluijk表示,VR/AR、自動(dòng)駕駛、5G、大數據及AI等,持續推動(dòng)半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展,為滿(mǎn)足各式應用、資料傳輸,以及演算法需求,芯片效
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euv光刻機介紹
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歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對euv光刻機的理解，并與今后在此搜索euv光刻機的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
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