國產(chǎn)光刻機真的這么厲害嗎？這些光刻機知識您得知道

　　近日，中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過(guò)驗收。消息傳著(zhù)傳著(zhù)，就成了謠言——《國產(chǎn)光刻機偉大突破，國產(chǎn)芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術(shù)封鎖，彎道超車(chē)》《厲害了我的國，新式光刻機將打破“芯片荒”》……筆者幫您們捋一捋!

　　關(guān)于光刻機，這些知識您得知道

　　光刻機不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復的圖案，都可以用光刻——就像照相，圖像投在感光底片上，蝕掉一部分。半個(gè)多世紀前，美國人用這個(gè)原理“印刷”電路，從而有了大規模集成電路——芯片。為了節能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻機越做越極端。線(xiàn)條細到一定程度，投影就模糊了。要清晰投影，線(xiàn)條粗細不能低于光波長(cháng)的一半。頂尖光刻機用波長(cháng)13.5納米的極紫外光源，好刻10納米以下的線(xiàn)條。但穩定的、大功率的極紫外光源很難造，一個(gè)得3000萬(wàn)元人民幣。要求工作環(huán)境嚴苛，配合的光學(xué)和機械部件又極端精密，所以荷蘭的ASML公司獨家壟斷極紫外光刻機，創(chuàng )造了“一臺賣(mài)一億美金”的神話(huà)。

　　一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。光刻機，可以說(shuō)是我國目前還需要進(jìn)行大力研發(fā)的核心科技之一。由于光刻機涉及到的工藝過(guò)于復雜和高端，雖然我國一直在做出努力，但依然是很難與世界上的一流企業(yè)相比肩。光刻機可以說(shuō)得上是世界上最難以掌握的現代工業(yè)之一了，所以光刻機也被稱(chēng)為現代光學(xué)工業(yè)之花。

　　光刻機到底是什么首先我們來(lái)看看什么是光刻機。光刻機主要用于芯片的生產(chǎn)，芯片在現代人生活中的作用恐怕沒(méi)有人不會(huì )不知道的。手機、電腦等等的電子設備，離開(kāi)了芯片就是一堆破銅爛鐵，所以沒(méi)有了光刻機，就制造不出芯片，沒(méi)有芯片，也就沒(méi)有手機和電腦。

　　光刻機的制造難度高

　　在全世界范圍內，能夠做出光刻機的公司只有少數幾家。而且，目前來(lái)說(shuō)，全世界能生產(chǎn)出最先進(jìn)的光刻機的企業(yè)只有一家——ASML。光刻機所屬的半導體加工業(yè)，目前基本屬于荷蘭和日本所壟斷。荷蘭有ASML，日本則有尼康，這兩家都是生產(chǎn)光刻機的公司。但是。ASML在光刻機的市場(chǎng)份額上占據了八成之多，這是日本尼康公司所不能比擬的。

　　那么，為什么說(shuō)ASML是世界上最賺錢(qián)的公司呢?首先，ASML公司總市值達到了將近900億美元，在全球的半導體設備商中排名第一。ASML公司一共擁有員工一萬(wàn)六千多人，其中有研發(fā)人員六千人以上，也就是這一萬(wàn)六千多人，研發(fā)出了世界上生產(chǎn)性能最穩定的最高精度的光刻機。

　　這種最頂尖的光刻機，只屬于A(yíng)SML，其它企業(yè)根本沒(méi)有辦法做出來(lái)?，F在世界上最頂尖的光刻機是EUV光刻機，也就是極紫外線(xiàn)光刻機。這種光刻機，屬于A(yíng)SML公司獨家壟斷，所以這一家荷蘭公司將每一臺光刻機都賣(mài)到了一億美元以上。但就算ASML公司將每一臺光刻機都打出了天價(jià)，但其產(chǎn)能還是會(huì )在生產(chǎn)之前就被預定一空。其中，向ASML購買(mǎi)光刻機的公司包括英特爾、三星和臺積電等等的國際芯片大廠(chǎng)。

　　國產(chǎn)光刻機品牌

　　位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產(chǎn)權的投影式中端光刻機，形成產(chǎn)品系列初步實(shí)現海內外銷(xiāo)售。正在進(jìn)行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。生產(chǎn)線(xiàn)和研發(fā)用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。

　　在2018年的第一季度，ASML的營(yíng)業(yè)額大幅上漲，雖然說(shuō)這都是通過(guò)出售DUV光刻機的結果，最新的EUV光刻機還沒(méi)有生產(chǎn)制造完成，目前只制造完成了三臺。但是，ASML還是計劃在2018年生產(chǎn)二十臺EUV，2019年則生產(chǎn)三十臺EUV。在今年，中國的芯片加工企業(yè)——中芯國際也向ASML首次訂購了最先進(jìn)的EUV光刻機，這臺光刻機的售價(jià)就高達1.2億美元，換算之后相當于七億人民幣。雖然我國在光刻機的研發(fā)方面與國際水平存在不小的差距，但相信這一次對于EUV光刻機的購買(mǎi)，有助于推動(dòng)中國半導體方面的研發(fā)進(jìn)程，中國在芯片行業(yè)也會(huì )扮演一個(gè)越來(lái)越重要的角色。