華虹12寸晶圓廠(chǎng)裝備大陸最先進(jìn)沉浸式光刻機：邁向14nm

　　中芯國際花了1.2億美元從荷蘭ASML(阿斯麥)買(mǎi)來(lái)一臺EUV極紫外光刻機，未來(lái)可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片，長(cháng)江存儲也迎來(lái)了自己的第一臺光刻機，同樣來(lái)自ASML，不過(guò)是193nm沉浸式，用于產(chǎn)20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓，7200萬(wàn)美元一臺。

　　據集微網(wǎng)報道， 5月21日上午，在上海浦東新區康橋工業(yè)園南區，華虹集團旗下上海華力集成電路制造有限公司建設和營(yíng)運的12英寸先進(jìn)生產(chǎn)線(xiàn)建設項目(“華虹六廠(chǎng)”)實(shí)現首臺工藝設備光刻機搬入。

　　這臺光刻機的型號是NXT 1980Di，依然是荷蘭ASML提供，后者官方顯示，這是一臺193nm雙級沉浸式光刻機，用于10nm級(14～20nm)晶圓生產(chǎn)，它也是大陸裝備的最先進(jìn)的沉浸式光刻設備。

　　華力微電子官網(wǎng)資料顯示，華虹六廠(chǎng)是該司的第二個(gè)12英寸晶圓生產(chǎn)線(xiàn)，設計月產(chǎn)能4萬(wàn)片，工藝技術(shù)從28nm起步，最終將具備14nm三圍工藝的高性能芯片生產(chǎn)能力。

　　另外，根據賽迪顧問(wèn)的統計，按照銷(xiāo)售額，上海華虹位列2017年國內十大集成電路制造企業(yè)第五位。