中芯1.2億美元下單最先進(jìn)EUV光刻機,后續還得解決這些問(wèn)題…

　　據知情人士透露，中國最大的晶圓代工廠(chǎng)中芯國際已經(jīng)訂購了一臺EUV設備，在中美兩國貿易緊張的情況下，此舉旨在縮小與市場(chǎng)領(lǐng)先者的技術(shù)差距，確保關(guān)鍵設備的供應。EUV是當前半導體產(chǎn)業(yè)中最先進(jìn)也最昂貴的芯片制造設備。

　　中芯國際的首臺EUV設備購自荷蘭半導體設備制造商ASML，價(jià)值1.2億美元。盡管中芯目前在制造工藝上仍落后于臺積電等市場(chǎng)領(lǐng)導者兩到三代，此舉仍突顯了該公司幫助提升中國本土半導體制造技術(shù)的雄心壯志，也保證了在最先進(jìn)的光刻設備方面的供應。目前包括英特爾、三星、臺積電等巨頭都在購買(mǎi)該設備，以確保在此后的先進(jìn)工藝中能制造性能更強大、設計更領(lǐng)先的芯片。

　　目前，臺積電、英特爾、三星等公司都訂購了ASML的EUV設備。據供應鏈消息人士透露，臺積電今年已預訂了多達10臺該設備，三星預訂了大約6臺，英特爾在今年則預計需要3臺，全球第二大代工廠(chǎng)格芯也預訂了一臺。ASML在4月中旬的財報中表示，計劃在今年內出貨20臺EUV設備，但沒(méi)有指明采購者詳情。

　　知情人士透露，中芯國際是在4月份美國宣布對中興制裁的第二天下的訂單。他表示，中芯國際購買(mǎi)該價(jià)格不菲的設備獲得了來(lái)自政府背景基金的部分資助，這臺EUV設備成本與中芯去年的凈利潤1.264億美元大致相當。消息顯示，中芯預定的EUV預計在2019年初交付。

　　長(cháng)期以來(lái)，中國進(jìn)口前沿芯片制造設備一直受到限制。業(yè)內皆知的瓦森納協(xié)定是一種建立在自愿基礎上的集團性出口控制機制，涵蓋出口可能具有軍事用途的技術(shù)，這些限制是合理的， 但是公司可以免除這些限制。ASML的一位發(fā)言人對日經(jīng)記者表示，公司對待包括中國在內的全球客戶(hù)都是一視同仁的，根據瓦森納協(xié)議向中國客戶(hù)出售EUV設備沒(méi)有限制。但是他拒絕對中芯國際、臺積電、三星等公司的訂單作出評論。中芯國際也未立即回應日經(jīng)的置評請求。

　　一位接近中芯的業(yè)內人士對集微網(wǎng)表示，1.2億美元的價(jià)格和2019年的交付時(shí)間可能不太準確，但是下了訂單是確實(shí)的。他表示，如果真的是1.2億美元的話(huà)，臺積電、三星拿到設備的價(jià)格可能都不會(huì )比這個(gè)更低了。也就是說(shuō)，這個(gè)價(jià)格已經(jīng)算是很便宜了。

　　雖然目前中芯國際14nm取得飛速進(jìn)展，但是進(jìn)一步邁進(jìn)7nm還有較大距離。上述業(yè)內人士表示，中芯國際對未來(lái)先進(jìn)工藝做儲備是意料之中的，也證明該公司對未來(lái)發(fā)展的路徑非常清晰。他指出，EUV這種新型的光刻設備還未經(jīng)過(guò)大規模量產(chǎn)的檢驗，而且成本極高，因此ASML對設備更新?lián)Q代的周期相對會(huì )較長(cháng)。此時(shí)中芯國際若能成功購買(mǎi)到EUV設備，也能爭取到更多的學(xué)習時(shí)間。而且取得設備只是硬件前提，后面還有一系列制造工藝流程、良率等軟性條件，以及在設計上是否有芯片設計企業(yè)合作等方面都會(huì )面臨更大挑戰。

　　半導體行業(yè)專(zhuān)家莫大康對集微網(wǎng)表示，中芯有錢(qián)提前布局7nm是件好事，由于EUV光刻與之前的193nm不同，從原理到配套是個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈，包括如EUV光刻膠、掩膜、pellicle、檢測設備等。目前該設備實(shí)用性方面還有一些問(wèn)題，例如光源連250瓦都還穩定不了，所以需要做許多配套工作。對于中芯來(lái)說(shuō)，要從人員培訓開(kāi)始，正好是個(gè)學(xué)習機會(huì )，等中芯能做7nm可能至少5年以上，還趕得上。他強調，1.2億美元，加上配套是個(gè)大投資，是為研發(fā)作好準備。在沒(méi)有拿到貨之前，尚不能說(shuō)ok，因為設備的出口許可證，不是ASML說(shuō)了算，還要聽(tīng)美國的。

　　全球領(lǐng)先芯片制造商競搶EUV

　　中國和美國目前正在就貿易問(wèn)題談判，美國總統特朗普在上周日晚間的推文中似乎透露出關(guān)于此前對中興禁售的決定發(fā)生了180度的轉變。目前劉鶴副總理一行于5月15日至19日赴美訪(fǎng)問(wèn)，同美方經(jīng)濟團隊繼續就兩國經(jīng)貿問(wèn)題進(jìn)行磋商。

　　但即便特朗普扭轉美國對中興的禁令，在雙方舉行新一輪貿易談判前釋出善意，先前對中興的嚴厲打擊舉措也已使中國明確地意識到，中國需要盡快推動(dòng)自主芯片技術(shù)的發(fā)展，以減少對國外的過(guò)度依賴(lài)。

　　EUV對于未來(lái)芯片技術(shù)的發(fā)展至關(guān)重要，并一直被視為摩爾定律的救星。1965年提出的摩爾定律，隨著(zhù)工藝演進(jìn)，晶體管尺寸縮微越來(lái)越困難，在近年來(lái)越來(lái)越多人擔心它將走到盡頭。該光刻設備采用波長(cháng)為13.5nm的極紫外光源，相比于現在主流光刻機用的193nm光源，新的EUV光源能給硅片刻下更精細的溝道，從而能在芯片上集成更多的晶體管，繼續延續摩爾定律。

　　領(lǐng)先的幾家芯片制造商仍在努力安裝和測試EUV設備，由于還沒(méi)有成功生產(chǎn)這一先進(jìn)工藝芯片(7nm以下)的經(jīng)驗，仍有很多挑戰需要克服。

　　拓璞產(chǎn)業(yè)研究院的分析師Lin Jian-hung指出，如果成功安裝，EUV掃描機可以幫助縮短芯片生產(chǎn)周期，并替代一些先進(jìn)制程上非常復雜的工藝。但同時(shí)該設備也要求許多新材料的支撐，并且還需要通過(guò)許多測試。

　　目前，蘋(píng)果iPhone X和iPhone 8系列的核心處理器采用了臺積電的10nm工藝，今年新款iPhone的處理器預計將采用7nm工藝。工藝尺寸越小，開(kāi)發(fā)越昂貴且難度越大，當然芯片性能也越強大。行業(yè)共識認為，更尖端的芯片制造工藝將小于5nm，并且必須使用EUV才能實(shí)現。

　　中芯國際在制造工藝方面大約比臺積電、三星和英特爾落后兩到三代。三星是全球最大的內存芯片制造商，而英特爾在個(gè)人電腦和服務(wù)器微處理器領(lǐng)域占據主導地位。目前中芯國際仍在努力改進(jìn)自己的28nm工藝，去年梁孟松加盟使其14nm工藝研發(fā)進(jìn)程提速不少。三星和臺積電則正在7nm領(lǐng)域展開(kāi)競爭。

　　一位業(yè)內人士表示，中芯國際的努力表明，盡管費用高昂而且可能需要多年時(shí)間才能趕上行業(yè)領(lǐng)先者，它仍將在半導體技術(shù)方面繼續投資，購買(mǎi)這樣昂貴的設備并不能保證中芯國際芯片制造技術(shù)順利取得進(jìn)展，但至少表明了這一承諾。

　　在中芯國際剛發(fā)布的第一季度財報中，公司實(shí)現營(yíng)收8.31億美元，不含技術(shù)授權收入的銷(xiāo)售額為7.23億美元，毛利率為26.5%，去年同期為27.8%;凈利潤2937.7萬(wàn)美元，同比下降57.9%。中芯聯(lián)合首席執行官兼執行董事趙海軍透露，公司今年將全年資本支出從19億美元上調至23億美元，用于先進(jìn)制程的研發(fā)、設備開(kāi)支以及擴充產(chǎn)能。

　　他預測未來(lái)幾年中國芯片設計廠(chǎng)商數量將繼續以每年20%的速度增長(cháng)，中芯作為本土的晶圓代工廠(chǎng)處于有利地位，能夠抓住有潛力的市場(chǎng)，并通過(guò)加速公司制造工藝的發(fā)展來(lái)擴大可預期的市場(chǎng)空間。