HamaTech接到幾十份MaskTrack Pro設備訂單

　　SUSS MicroTec AG的全資子公司HamaTech APE GmbH & Co. KG近日宣布，已接到幾十份MaskTrack Pro設備訂單。MaskTrack Pro于2009年投產(chǎn)，是用于下一代光刻領(lǐng)域的完整掩膜流程平臺。

　　對于亞22nm 193nm浸沒(méi)式光刻、EUVL深紫外光刻、NIL接觸式納米壓印技術(shù)等先進(jìn)光刻工藝的掩膜版，MaskTrack Pro是目前已知唯一可以實(shí)現清洗、烘烤和顯影步驟的設備。MaskTrack Pro結合物理和化學(xué)清洗技術(shù)，能有效去除有機和無(wú)機污染物，而不破壞易受損的掩膜版線(xiàn)條和材料結構。MaskTrack Pro使用獨特的ASonic®專(zhuān)利顯影技術(shù)，以及先進(jìn)的曝光后烘烤方式，能幾近完美地實(shí)現關(guān)鍵尺寸的一致性，這對于亞22nm雙重圖形技術(shù)尤為重要，可以沉著(zhù)應對未來(lái)先進(jìn)光刻技術(shù)的挑戰。

　　“下一代光刻技術(shù)發(fā)展，促使MaskTrack Pro的市場(chǎng)加速發(fā)展。2011年初，MaskTrack Pro將被諸多全球領(lǐng)先的公司采用。”，HamaTech首席執行官Wilma Koolen-Hermkens介紹道，“我們十分高興地看到，多家客戶(hù)已經(jīng)采購了我們的設備。我們希望MaskTrack Pro能成為業(yè)界的標準配置設備。”

　　“實(shí)現掩膜版完整流程是MaskTrack Pro平臺設計的中心思想，對先進(jìn)光刻技術(shù)起到了重要作用。” SUSS MicroTec的總裁監首席執行官Frank Averdung說(shuō)，“感謝我們的客戶(hù)和合作伙伴的共同努力，我們研發(fā)出了MaskTrack Pro系統，以迎接下一代光刻技術(shù)完整掩膜流程的苛刻挑戰。”