ASML官網(wǎng)顯示：支持7nm高端DUV光刻機仍可出口

荷蘭政府宣布了限制某些先進(jìn)半導體設備出口的新規定，這些規定將于9月1日生效。具體而言，荷蘭政府將要求先進(jìn)芯片制造設備的公司在出口之前須獲得許可證。

ASML在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱(chēng)，該公司未來(lái)出口其先進(jìn)的浸潤式DUV光刻系統（即TWINSCAN NXT:2000i及后續浸潤式系統）時(shí)，將需要向荷蘭政府申請出口許可證。而

ASML強調，該公司的EUV系統的銷(xiāo)售此前已經(jīng)受到限制。

據ASML官網(wǎng)提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒(méi)式DUV光刻機產(chǎn)品共有三款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

阿斯麥3月曾表示，預計2000i和2050i這兩款產(chǎn)品會(huì )受到荷蘭政府的出口限制。再對比阿斯麥今天的回應來(lái)看，TWINSCAN NXT:1980Di這款浸潤式DUV光刻機并不在限制范圍內。

ASML官網(wǎng)上關(guān)于這一臺TWINSCAN NXT:1980Di的介紹，其中在分辨率方面，寫(xiě)到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而這是指一次曝光的分辨率，事實(shí)上光刻機是可以進(jìn)行多次曝光的。

理論上NXT:1980Di依然可以達到7nm，只是步驟更為復雜，成本更高，良率可能也會(huì )有損失，晶圓廠(chǎng)用這一臺光刻機，大多是生產(chǎn)14nm及以上工藝的芯片，很少去生產(chǎn)14nm以下的工藝，因為良率低，成本高，沒(méi)什么競爭力。