ASML單價(jià)近一億美元EUV光刻機訂單已達10臺

　　2010年浸潤式微米光刻機臺設備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉進(jìn)40納米工藝的天險，隨著(zhù)缺貨問(wèn)題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預計2012年將正式交貨;不過(guò)，對于資金拮據的DRAM廠(chǎng)，1臺要價(jià)近1億美元的EUV機臺，將會(huì )是更大的資金挑戰，目前僅瑞晶下單訂購1臺，藉以確保20納米工藝的參賽權。

　　ASML成立于1984年，是從荷商飛利浦(Philipsa)分割出來(lái)的獨立半導體設備公司，設備不斷推陳出新，在1984和1989年分別推出PAS 2000和PAS 5000機臺，1990年代推出PAS 5000 Stepper和Scanner，2000年推出Twinscan光刻機，2010年進(jìn)入EUV機臺。在ASML各地區營(yíng)收比重中，亞洲市場(chǎng)占53%，其中南韓占16%、臺灣占28%、新加坡占5%、大陸占4%，而美國市場(chǎng)占33%、歐洲市場(chǎng)占14%。

　　ASML指出，2006年推出第1代EUV機臺，出貨給比利時(shí)微電子研究中心(imec)，第2代NEX 3100機臺，截至2011年第1季已出貨3臺，預計此款機臺只會(huì )出6臺，其余3臺會(huì )在年底前出貨，之后會(huì )推出NEX 3300機臺量產(chǎn)型機臺，其曝光速度和瞄準率均較高。

　　ASML進(jìn)一步表示，目前NEX 3300機臺全球接獲訂單數量已有10臺，客戶(hù)包括晶圓代工業(yè)者，以及臺、韓、美、日等內存制造商，預計NEX 3300機臺可在2012年正式交貨。

　　ASML進(jìn)一步表示，第1代EUV機臺1片晶圓曝光時(shí)間要2小時(shí)，NEX 3100機臺估計每小時(shí)可達曝光60片晶圓，但目前尚未達此目標，未來(lái)NEX 3300機臺目標是1小時(shí)可曝光100片晶圓。

　　2010年DRAM產(chǎn)業(yè)剛從全球金融風(fēng)暴中復蘇，當時(shí)各廠(chǎng)加速轉進(jìn)40納米工藝，卻遇到Immersion Scanner機臺設備大缺貨，各廠(chǎng)工藝微縮進(jìn)度都被關(guān)鍵機臺卡住;再者，浸潤式微米光刻機臺1臺要價(jià)近新臺幣10億元，對當時(shí)體質(zhì)虛弱的DRAM廠(chǎng)而言，資本障礙也形成競爭力天險。

　　目前浸潤式微米光刻機臺設備缺貨問(wèn)題已逐漸解除，半導體廠(chǎng)只有資金充裕，在固定交期下，拿到浸潤式微米光刻機臺都不是問(wèn)題，不過(guò)要進(jìn)入20納米工藝以下的技術(shù)競賽，必須要轉進(jìn)EUV機臺，以1臺單價(jià)近30億元來(lái)看，對于DRAM廠(chǎng)而言，又是另一個(gè)艱巨的資金天險。

　　據了解，目前臺系內存廠(chǎng)中，只有瑞晶已向ASML預定1臺EUV機臺，其他DRAM廠(chǎng)都按兵不動(dòng)，加上如力晶、茂德等DRAM廠(chǎng)的營(yíng)運重心都轉型至晶圓代工，真正生產(chǎn)標準型DRAM的產(chǎn)能比重也降低，未來(lái)在轉進(jìn)20納米工藝后，是否要購入EUV機臺，可能要從財務(wù)狀況評估。