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KLA-Tencor 以全新測量系統擴充其 5D? 圖型控制方案

  •   今天,KLA-Tencor Corporation推出兩款先進(jìn)的量測系統,可支持 16 納米及以下尺寸集成電路器件的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn):Archer™ 500LCM 和 SpectraFilm™ LD10。Archer 500LCM 套刻測量系統在提升成品率的所有階段提供了準確的套刻誤差反饋,可幫助芯片制造商解決新的圖型套刻問(wèn)題,例如多層光刻和隔離層掩膜分割。通過(guò)對薄膜厚度和應力進(jìn)行可靠、準確的測量,SpectraFilm LD10 薄膜測量系統能對 FinFETs、3D NAND 和
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KLA-Tencor公司助力中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展

  •   KLA-Tencor的業(yè)務(wù)涵蓋了半導體的多個(gè)領(lǐng)域,從硅片檢測到線(xiàn)寬量測,以及光罩部分,KLA-Tencor都在業(yè)界處于領(lǐng)先水平。同時(shí),KLA-Tencor也在積極向LED等新的領(lǐng)域擴展。 除了這些業(yè)務(wù)以外,KLA-Tencor還提供技術(shù)支持與服務(wù),幫助客戶(hù)實(shí)現更大的生產(chǎn)價(jià)值。KLA-Tencor在中國的總部位于上海,在北京、天津、蘇州、無(wú)錫、大連、西安、武漢都設有分支機構??倖T工人數超過(guò)190人,裝機量突破了1600臺。KLA-Tencor非常重視中國市場(chǎng),在中國進(jìn)行了持續的投資以實(shí)現進(jìn)一步的發(fā)展。我
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KLA-Tencor 推出 5D? 圖案成型控制解決方案的關(guān)鍵系統

  •   今天,KLA-Tencor 公司宣布推出 WaferSight™ PWG 已圖案晶圓幾何形狀測量系統、LMS IPRO6 光罩圖案位置測量系統和 K-T Analyzer® 9.0 先進(jìn)數據分析系統。這三種新產(chǎn)品支持 KLA-Tencor 獨特的 5D™ 圖案成型控制解決方案,此方案著(zhù)重于解決圖案成型工藝控制上的五個(gè)主要問(wèn)題——元件結構的三維幾何尺寸、時(shí)間效率和設備效率。5D 圖案成型控制解決方案主要通過(guò)對光刻模塊工藝和非光刻模塊工藝的量化、優(yōu)化
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KLA-Tencor 為領(lǐng)先的集成電路技術(shù)推出檢測與檢查系列產(chǎn)品

  •   今天,在美國西部半導體設備暨材料展 (SEMICON West) 上,KLA-Tencor 公司宣布推出四款新的系統—— 2920 系列、Puma™ 9850、Surfscan® SP5 和 eDR™-7110 ——為 16nm 及以下的集成電路研發(fā)與生產(chǎn)提供更先進(jìn)的缺陷檢測與檢查能力。2920 系列寬波等離子圖案晶圓缺陷檢測系統、Puma 9850 激光掃描圖案晶圓缺陷檢測系統和 Surfscan SP5 無(wú)圖案晶圓缺陷
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KLA-Tencor推出Teron? SL650 光罩檢測系統

  •   KLA-Tencor 公司(納斯達克股票代碼:KLAC)宣布推出 Teron? SL650,該產(chǎn)品是專(zhuān)為集成電路晶圓廠(chǎng)提供的一種新型光罩質(zhì)量控制解決方案,支持 20nm 及更小設計節點(diǎn)。Teron SL650 采用 193nm光源及多種 STARlight? 光學(xué)技術(shù),提供必要的靈敏度和靈活性,以評估新光罩的質(zhì)量,監控光罩退化,并檢測影響成品率的光罩缺陷,例如在有圖案區和無(wú)圖案區的晶體增長(cháng)或污染。此外,Teron SL650 擁有業(yè)界領(lǐng)先的產(chǎn)能,可支持更快的生產(chǎn)周期,以滿(mǎn)足檢驗
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KLA-Tencor宣布安裝處理450mm硅片的Surfscan?SP3系統

  • KLA-Tencor 公司(納斯達克股票代碼:KLAC)日前宣布其第一臺能夠檢測 450mm 硅片的半導 體制程控制系統已裝機 。該系統被命名為 Surfscan SP3 450, 是市場(chǎng)領(lǐng)先的 Surfscan? SP3 平臺的最新配置。這種全自動(dòng)化的無(wú)圖案硅片檢測系統是為滿(mǎn)足 20nm 及以下制程缺陷與表面品質(zhì)特性的嚴格要求而專(zhuān)門(mén)設計。
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晶圓代工廠(chǎng)先進(jìn)制程投資助力設備廠(chǎng)商業(yè)績(jì)前行

  •   包括 KLA-Tencor 、 Novellus Systems 與 Teradyne 等半導體設備大廠(chǎng)陸續在近日公布最新一季財報結果,其銷(xiāo)售業(yè)績(jì)一如預期呈現衰退,而且他們也估計下一季業(yè)績(jì)將衰退更多;這些廠(chǎng)商的收入來(lái)源集中在晶圓代工廠(chǎng)對32奈米與28奈米制程節點(diǎn)的投資。   在此同時(shí), EDA 供貨商 Cadence Design Systems的第三季財報結果則是表現亮眼,該公司表示第四季業(yè)績(jì)將會(huì )再度出現成長(cháng)。不過(guò)Cadence一反近日半導體產(chǎn)業(yè)界常態(tài)的成長(cháng)表現,可能有部分原因是來(lái)自于會(huì )計計算方法
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VLSI Research公布第三季度半導體設備廠(chǎng)商前十名單

  •   VLSI Research預測稱(chēng)2010第四季度半導體設備市場(chǎng)有所降溫,全年半導體設備銷(xiāo)售額預計增長(cháng)96%,達到474億美元。   Tokyo Electron和Advantest在排名前十的設備廠(chǎng)商中獲得最大的增長(cháng)幅度。Applied Materials和ASML繼續保持領(lǐng)先地位。其他增長(cháng)迅速的公司是KLA-Tencor和Dainippon Screen。
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KLA-Tencor以創(chuàng )新把握經(jīng)濟復蘇機遇

  •   半導體市場(chǎng)從08年4季度開(kāi)始,受經(jīng)濟危機拖累陷入低谷,其中半導體制造和封測設備市場(chǎng)更是首當其沖,削減運營(yíng)成本支出一時(shí)間成為半導體廠(chǎng)商追捧的過(guò)冬手段。然而,對于謀求市場(chǎng)復興機遇的企業(yè),繼續保持創(chuàng )新和研發(fā)的力度才是進(jìn)補的最好戰略。近日,在一年一度的品質(zhì)管理峰會(huì )(Yield Management Seminar,YMS)上,半導體測試領(lǐng)先廠(chǎng)商KLA-Tencor公司首席市場(chǎng)官Brian Trafas博士與大家分享了公司應對危機的戰略和未來(lái)發(fā)展規劃。   雖然受經(jīng)濟大環(huán)境的影響,半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展有所放緩,但
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KLA-Tencor再度裁員10%

  •   晶圓設備商KLA-Tencor將再度裁員10%,作為其控制成本的舉措之一。   此次裁員和其他成本控制措施計劃將幫助該公司減少單季運營(yíng)支出達1.4億美元至1.45億美元。   去年11月,KLA-Tencor裁員900人,約占當時(shí)員工數的15%。一直有傳言該公司將裁員25%。
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KLA-TENCOR 推出用于測量等離子室效應的 PLASMAVOLT X2

  •   KLA-Tencor 公司日前推出了 PlasmaVolt X2,可用于在半導體晶圓處理系統中測量等離子室的狀況。由于增加了內嵌式傳感器數量,且空間分辨率得到改善,PlasmaVolt X2 對各種參數的變化極為敏感,例如無(wú)線(xiàn)電頻率 (RF) 功率、氣流、磁場(chǎng)及等離子室設計。這種等離子行為測量和特征化系統能改善生產(chǎn)環(huán)境中的等離子室配對、機臺檢驗、系統故障排除及工藝開(kāi)發(fā)。    KLA-Tencor 的 SensArray 分部高級副總裁兼總經(jīng)理 Larry Wagner 表示:&ldquo
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KLA-TENCOR 推出 PROLITHTM 12 新版計算光刻工具

  •   KLA-Tencor 公司日前推出了 PROLITHTM 12 ,這是一款業(yè)界領(lǐng)先的新版計算光刻工具。此新版工具讓領(lǐng)先的芯片制造商及研發(fā)機構的研究人員能夠以具有成本效益的方式探索與極紫外線(xiàn) (EUV) 光刻有關(guān)的各種光罩設計、光刻材料及工藝的可行性。   縮小芯片上重要器件的關(guān)鍵尺寸能夠讓芯片廠(chǎng)生產(chǎn)出更快的微處理器,但在成像時(shí)用于曝光光罩的光波波長(cháng)對于能夠形成的器件有最小關(guān)鍵尺寸的限制。在過(guò)去幾代的芯片器件上,半導體行業(yè)一直使用深紫外線(xiàn) (DUV) 光波。以后更短的波長(cháng)將是 EUV 的天下。專(zhuān)家預測
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科天推出磁盤(pán)驅動(dòng)器基片和盤(pán)片缺陷檢查的新技術(shù)

  •   KLA-Tencor 公司(納斯達克股票代碼:KLAC)今天針對硬盤(pán)驅動(dòng)器基片與盤(pán)片高級缺陷檢查推出了 Candela 7100 系列。7100 系列建立在備受肯定且已量產(chǎn)化的 Candela 產(chǎn)品線(xiàn)基礎上,專(zhuān)為幫助制造商識別與分類(lèi)諸如凹陷、凸起、微粒及隱藏缺陷等亞微米級關(guān)鍵缺陷而設計,可以提升良率,降低檢測的總成本。   KLA-Tencor 成長(cháng)與新興市場(chǎng) (GEM) 集團副總裁 Jeff Donnelly 表示:"Candela 7100 系列是我們光學(xué)表面分析技術(shù)的一個(gè)創(chuàng )新延伸,作
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KLA-TENCOR 推出全新控片檢測系統 SURFSCAN SP2XP

  •   日前,KLA-Tencor 公司推出了 Surfscan® SP2XP,這是一套專(zhuān)供集成電路(IC) 市場(chǎng)采用的全新控片檢測系統,該系統是根據去年在晶片制造市場(chǎng)上推出并大獲成功的同名姊妹機臺開(kāi)發(fā)而成。全新的 Surfscan SP2XP 對硅、多晶硅和金屬薄膜上的缺陷靈敏度更高,且與其上一代業(yè)界領(lǐng)先的產(chǎn)品 Surfscan SP2 相比,在按缺陷類(lèi)型和大小來(lái)分類(lèi)方面具有更強能力。其特性還包括真空承載裝置和業(yè)界最佳的生產(chǎn)能力。這些功能是為芯片制造商在晶片廠(chǎng)提供卓越的制程機臺監控而設計,使其能將領(lǐng)
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KLA-TENCOR推出新型 P-6 表面輪廓儀系統

  •   KLA-Tencor 公司(納斯達克股票代碼:KLAC)今天發(fā)布其最新的探針式表面輪廓測量系統 P-6?,該系統針對科學(xué)研究與生產(chǎn)環(huán)境(例如,光電太陽(yáng)能電池制造)提供一組獨特的先進(jìn)功能組合。P-6 系統受益于在先進(jìn)半導體輪廓儀系統上開(kāi)發(fā)的測量技術(shù),但卻采用了較小與較經(jīng)濟的桌面型機臺設計,可接受最大至 150 毫米的樣本。   KLA-Tencor 的成長(cháng)與新興市場(chǎng)集團副總裁 Jeff Donnelly 表示:“我們對 P-6 探針系統的推出感到振奮,該系統將為科學(xué)與太陽(yáng)能客戶(hù)
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