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KLA-TENCOR發(fā)布首個(gè)明場(chǎng)檢測系統
- 近日，KLA-Tencor發(fā)布了最新的突破性明場(chǎng)晶片檢測平臺2800系列，它能有效地檢測出所有工藝層上的最廣泛的關(guān)鍵性缺陷，幫助客戶(hù)應對亞65納米及45納米技術(shù)節點(diǎn)上新產(chǎn)生的缺陷和成品率挑戰。2800系列提供了超寬帶（深紫外、紫外和可見(jiàn)光）波長(cháng)檢查功能，其生產(chǎn)能力是上一代深紫外明場(chǎng)成像工具的兩倍，并有望確立明場(chǎng)晶片檢測領(lǐng)域的新標準，使芯片生產(chǎn)商能全面滿(mǎn)足快速開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)新一代 IC 器件的檢測要求。 新型2800系列在靈活的單平臺上采用第三代可見(jiàn)光、紫外光和深紫外光源，能提供可變的檢測波
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KLA-TENCOR推出最新設計檢測方案
- 助您加快產(chǎn)品上市時(shí)間、提高器件成品率 DesignScan 能在將掩膜版設計提交生產(chǎn)之前 發(fā)現任何聚焦和曝光條件下的全部缺陷類(lèi)型 KLA-Tencor 近日正式發(fā)布了業(yè)界第一套用于 post-RET（分辨率增強技術(shù)）掩膜版設計版面 (reticle design layout)檢測的完整芯片光刻制程工藝窗口(lithography process window)（允許誤差空間）檢測系統。DesignScan 能使芯片
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KLA-TENCOR發(fā)布基于全光譜超寬帶檢測平臺的明場(chǎng)檢測系統
- 最新的 2800 系列提供了無(wú)可超越的檢測能力，使芯片生產(chǎn)商 能對亞 65 納米工藝實(shí)現精確控制 為幫助客戶(hù)應對亞 65 納米及 45 納米技術(shù)節點(diǎn)上新產(chǎn)生的缺陷和成品率挑戰，KLA-Tencor (NASDAQ：KLAC) 近日發(fā)布了最新的突破性明場(chǎng)晶片檢測平臺 2800 系列，它能有效地檢測出所有工藝層上的最廣泛的關(guān)鍵性缺陷。2800 系列提供了業(yè)界唯一的超寬帶（深紫外、紫
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KLA-TENCOR在線(xiàn)配方服務(wù)幫助您快速解決配方問(wèn)題
- 此項新服務(wù)通過(guò)公司的高安全性 iSupport 網(wǎng)絡(luò )提供 2005年6月21日訊—KLA-Tencor于今日起開(kāi)始提供在線(xiàn)程式支持服務(wù)，客戶(hù)可通過(guò)此項新服務(wù)從 KLA-Tencor 分布在全球的眾多應用專(zhuān)家獲得支持，從而提高其機臺程式的確定以及故障排除速度。該服務(wù)通過(guò) KLA-Tencor 的高安全型網(wǎng)絡(luò ) iSupport 提供，iSupport 服務(wù)網(wǎng)絡(luò )包括專(zhuān)家現場(chǎng)支持、24/7 在線(xiàn)支持和電子診斷支持服
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IC制造商面臨著(zhù)日益增長(cháng)的降低成本的壓力
- 在65nm和更小的節點(diǎn)工藝下，縮短IC開(kāi)發(fā)周期和降低IC生產(chǎn)成本，對于將要采用下一代工藝，及時(shí)把他們的新產(chǎn)品推向市場(chǎng)的器件制造商已成為同樣要考慮的重要問(wèn)題。因為一些因素，先進(jìn)器件工藝的成本壓力正逐漸增加，它們包括：（1）半導體更多的工藝層的增加，要求進(jìn)一步增加工藝監控；（2）新的材料，諸如銅、低k和高k電介質(zhì)和基片設計，這些都會(huì )帶來(lái)新的缺陷類(lèi)型，在它們發(fā)生在批量生產(chǎn)之前就需要廣泛的特征描述；（3）更為復雜的平版印刷技術(shù)可能進(jìn)一步縮小已經(jīng)很狹窄的線(xiàn)寬，并且導致成形方面的缺陷。然而，盡管存在這么多的挑戰，
- 關(guān)鍵字： KLA-Tencor 其他IC 制程
KLA－TENCOR推出最新電子束晶圓檢查系統
- KLA-Tencor今天發(fā)布了其最新一代在線(xiàn)電子束（e-beam）晶圓檢查系統eS31，它能夠滿(mǎn)足芯片制造商對65nm和以下節點(diǎn)的工程分析和生產(chǎn)線(xiàn)監控應用方面的高靈敏度檢查需要。eS31采用了KLA-Tencor的經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗證的23xx光明場(chǎng)檢查平臺，以及若干能夠比前一代電子束檢查設備在擁有成本（CoO）方面提升六倍之多的若干硬件和軟件。利用eS31，芯片制造商可以發(fā)現電路缺陷，并在工藝開(kāi)發(fā)階段及時(shí)解決這些問(wèn)題，使他們的先進(jìn)產(chǎn)品更迅速地進(jìn)入市場(chǎng)，與此同時(shí)，在生產(chǎn)過(guò)程中
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