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阿斯麥已生產(chǎn)的極紫外光刻機 70%賣(mài)給了臺積電

　　本周一，外媒援引韓國產(chǎn)業(yè)通商資源部一份有關(guān)半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展戰略文件報道稱(chēng)，光刻機制造商阿斯麥將投資2.12億美元，在京畿道華城建設極紫外光刻機再制造廠(chǎng)和培訓中心。在報道阿斯麥將在華城建設極紫外光刻機再制造廠(chǎng)和培訓中心時(shí)，外媒還提到，雖然三星電子、SK海力士已引進(jìn)了阿斯麥生產(chǎn)的極紫外光刻機，但他們獲得的數量同臺積電相比，有不小的差距?！　⊥饷皆趫蟮乐刑岬?，阿斯麥目前已生產(chǎn)的極紫外光刻機，70%是賣(mài)給了臺積電，留給其他廠(chǎng)商的就只有30%?！　“⑺果準悄壳叭蛭ㄒ荒苤圃鞓O紫外光刻機的廠(chǎng)商，他們已推出了TWIN
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不用EUV光刻機就搞定類(lèi)7nm工藝？中芯國際回應

　　做為國內最大也是最先進(jìn)的半導體制造公司，中芯國際在先進(jìn)工藝上的進(jìn)展引人關(guān)注，其中7nm及以下節點(diǎn)非常重要，這還牽涉到EUV光刻機?！　∪涨坝泄擅裨诨?dòng)平臺上詢(xún)問(wèn)，稱(chēng)有報道指出中芯國際不用EUV光刻就攻克了類(lèi)7nm工藝，要求中芯國際澄清?！　Υ?，中芯國際表示，公司不針對傳言進(jìn)行評論?！　闹行緡H官網(wǎng)的介紹來(lái)看，該公司提到的最先進(jìn)工藝還是14nm，接下來(lái)的是N+1、N+2工藝，但沒(méi)有指明具體的工藝節點(diǎn)?！　≈行緡H聯(lián)合CEO趙海軍曾表示，經(jīng)過(guò)三年的積累，FinFET工藝已經(jīng)取得了不錯的成績(jì)，N+1已經(jīng)
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里程碑！IBM宣布造出全球首顆2nm EUV芯片

藍色巨人出手就是王炸?！　?月6日消息，IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導體芯片?！　『诵闹笜朔矫?，IBM稱(chēng)該2nm芯片的晶體管密度（MTr/mm2，每平方毫米多少百萬(wàn)顆晶體管）為333.33，幾乎是臺積電5nm的兩倍，也比外界預估臺積電3nm工藝的292.21 MTr/mm2要高?！　?nm晶圓近照　　換言之，在150平方毫米也就是指甲蓋大小面積內，就能容納500億顆晶體管?！　⊥瑫r(shí)，IBM表示，在同樣的電力消耗下，其性能比當前7nm高出45%，輸出同樣性能則減少75%的功耗?！　　　?shí)際上，I
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ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機一字之差大不同

　　近日，中芯國際與ASML達成12億美元交易購買(mǎi)晶圓生產(chǎn)設備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作，有媒體報道稱(chēng)“除了EUV光刻機，中芯國際幾乎可以買(mǎi)到其他所有型號的光刻機?！钡沁@一說(shuō)法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現有協(xié)議相關(guān)?！　】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈，這繞來(lái)繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普，EUV和DUV到底有啥區別呢？EUV也就是“極深紫外線(xiàn)”的意思，而DUV是“深紫外線(xiàn)”的意思，通過(guò)字面就知道EUV看上去就比DUV高級，實(shí)際上也是如此?！　SML澄清與中
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中國芯片業(yè)為什么搞不過(guò)一家荷蘭公司

荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財報，這位世界光刻機霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機，中國大陸由于種種原因沒(méi)有買(mǎi)到其中任何一臺?！　∮腥苏f(shuō)阿斯麥是唯一一個(gè)能讓臺積電折腰的公司，這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機，是半導體工廠(chǎng)生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟，沒(méi)有刀，再好的師傅也雕不出來(lái)花?！　∪绻腥魏螐S(chǎng)商的光刻機設備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻，廠(chǎng)商就要付給他們以小時(shí)計的美金?！　≡?jīng)，某上市公司的光刻機出問(wèn)題后，排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結果阿斯麥的
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全球最大光刻機廠(chǎng)CEO：拜登恐難緩解中美半導體緊張局勢

拜登上任在即，他會(huì )緩解緊張的中美科技局勢嗎？近期，全球最大光刻機制造商ASML的CEO表示，即使總統換屆，兩國在包括光刻機在內的半導體領(lǐng)域，仍將出現進(jìn)一步的對抗。也有人發(fā)表看法，發(fā)展芯片，開(kāi)源指令集架構RISC-V可能會(huì )讓中國芯片自主「彎道超車(chē)」？　　離美國新任總統拜登的上任越來(lái)越近了?！　≡谶^(guò)去川普任職期內，中美之間的貿易戰讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機制造商ASML也是其中之一?！　∮捎诿绹膲毫?，其最新價(jià)值約2億美元的光刻機已停止向中國銷(xiāo)售?！　∮捎诖ㄆ盏呐e動(dòng)常常出其不意而且瘋狂
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阿斯麥ASML全新EUV光刻機將于2021年中期發(fā)貨

14日訊，《科創(chuàng )板日報》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線(xiàn)圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規格，這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時(shí)曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進(jìn)機器匹配套準精度至1.1納米，并計劃于2021年的中期開(kāi)始發(fā)貨。
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在EUV光刻技術(shù)上，日本公司壟斷了光刻膠的供應

雖然將會(huì )有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個(gè)市場(chǎng)是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線(xiàn)輻射光刻的半導體光刻技術(shù)，但是毫無(wú)疑問(wèn)，這就是光刻技術(shù)的未來(lái)。與任何未來(lái)一樣，它為一些光刻材料市場(chǎng)開(kāi)拓者提供了在新市場(chǎng)中建立自己的機會(huì )。尤其是目前由兩家日本公司生產(chǎn)使用EUV光刻機所使用的技術(shù)處理材料，而其中一家是著(zhù)名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學(xué)將在2021年開(kāi)始為下一代芯片提供光刻材料，這可能有助于減小智能手機和其他設備的芯片尺寸，并使它們更加節能。這
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斥資440億元采購EUV光刻機？臺積電：不評論傳聞

9月30日訊，此前有媒體報道，由于先進(jìn)制程推進(jìn)順利和訂單量擴大，臺積電將加大EUV光刻機的采購力度，預計到2021年底采購量為55臺左右。臺積電方面回復稱(chēng)：公司不評論市場(chǎng)傳聞。據了解，一臺EUV光刻機售價(jià)近8億元，55臺EUV光刻機價(jià)值約440億元。相關(guān)閱讀：臺積電明年底前將累計采購55臺EUV光刻機：花費超440億元出處：快科技作者：萬(wàn)南芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下，這其中最關(guān)鍵的核心設備就要數EUV光刻機了，目前全世界只有荷蘭ASML（阿斯麥）可以制造。來(lái)自Digitimes的報道稱(chēng)，臺積電打算在
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機？ASML華裔工程師：天方夜譚

9月16日，中國科學(xué)院院長(cháng)白春禮在國新辦發(fā)布會(huì )上介紹稱(chēng)，“率先行動(dòng)”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱(chēng)，從2021年到2030年未來(lái)的十年是“率先行動(dòng)”計劃第二階段。對此，首先要進(jìn)行體制機制改革。他稱(chēng)，目前已經(jīng)設立了創(chuàng )新研究院、卓越創(chuàng )新中心、大科學(xué)中心和特色所四類(lèi)機構，目的是根據科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類(lèi)定位、分類(lèi)管理、分類(lèi)評價(jià)、分類(lèi)資源配置?！斑@個(gè)工作還沒(méi)有完，只是進(jìn)行了一部分，所以第二階段我們爭取在2025年要把四類(lèi)機構全部做完，
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10億元一臺EUV光刻機！芯片產(chǎn)能數量曝光：夠華為手機用嗎？

相信大家都知道，在前幾天，ASML重磅官宣了一條大新聞，正式在中國寶島臺灣建設了第一家海外培訓中心—亞洲培訓中心，這家培訓中心標配了14名培訓技師，一年大約可以培養超過(guò)360名EUV光刻機操作工程師，能夠讓芯片生產(chǎn)加工企業(yè)更好的掌握和使用EUV光刻機，從而可以進(jìn)一步提高5nm/3nm芯片的良品率，其實(shí)ASML在臺灣建設這座亞洲培訓中心，最大的目的就是為了直接幫助臺積電培養更多的光刻機操作工程師，因為在過(guò)去兩年時(shí)間里，ASML一共售賣(mài)了57臺EUV光刻機產(chǎn)品，其中臺積電就購得了30臺，占據著(zhù)絕大部分的份額，
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臺積電：5nm EUV工藝已在量產(chǎn)、明年推出增強版

24日，臺積電舉辦了第26屆技術(shù)研討會(huì )，并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺積電的說(shuō)法，5nm工藝規劃了兩代，分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV（極紫外光刻）技術(shù)，并且已經(jīng)在大規模量產(chǎn)之中。相較于N7，N5的功耗降低了30%、性能提升了15%，邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版，仍在開(kāi)發(fā)中，規劃2021年量產(chǎn)，相較于第一代5nm，功耗進(jìn)一步降低10%、性能提升5%，據稱(chēng)面向高性能計算平臺做了優(yōu)化。據手頭資料，臺積電的5nm有望應用在蘋(píng)果A14芯片（包括Apple Silicon PC處
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臺積電采購30臺EUV光刻機沖刺7/5nm，ASML就近設立培訓中心

臺積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣，已經(jīng)成為光刻機龍頭 ASML 在 EUV 機臺上的最大采購客戶(hù)，累計已經(jīng)購買(mǎi)了 30 臺 EUV 設備。日前，ASML 繼在韓國成立 EUV 技術(shù)培訓中心后，也在臺積電先進(jìn)制程的重鎮臺灣臺南，成立 EUV 技術(shù)培訓中心。一臺EUV系統需要50個(gè)工程師操作一臺造價(jià)逾一億歐元的精密 EUV 系統，重量高達 180&nbs
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Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛摩爾定律

日前，中國國際半導體技術(shù)大會(huì )（CSTIC）在上海開(kāi)幕，為期19天，本次會(huì )議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設備，EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統計數據顯示，截至2019年第四季度，ASML當年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機，使用EUV機器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達到1000萬(wàn)片。他說(shuō)，EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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華為、蘋(píng)果7/5nm需求大臺積電狂加EUV訂單

2020年因為全球經(jīng)濟的問(wèn)題，本來(lái)電子行業(yè)會(huì )下滑，但是晶圓代工場(chǎng)合不降反升，臺積電Q1季度營(yíng)收大漲了30%，牢牢坐穩了全球晶圓代工一哥的位置。由于華為、蘋(píng)果等公司的7nm及5nm工藝需求大，臺積電目前正在瘋狂增加EUV產(chǎn)能。臺積電2018年量產(chǎn)了7nm工藝，不過(guò)第一代7nm沒(méi)有EUV工藝加持，2019年的7nm EUV工藝才由華為的麒麟990 5G處理器首發(fā)，而今年的5nm工藝則會(huì )全面上馬EUV工藝。根據臺積電之前公布的數據，7nm及7nm EUV工藝目前每月的產(chǎn)能達到了11萬(wàn)片晶圓/月，而5nm工藝的月
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