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Teledyne將在Vision China展示最新3D和AI成像方案

  • 中國上海,2023 年 7 月 4 日 — Teledyne 將于 7 月 11-13 日在上海國家會(huì )展中心舉辦的 2023中國(上海)機器視覺(jué)展 (Vision China) 展示最新產(chǎn)品和解決方案。歡迎各位蒞臨 5.1A101 展位了解先進(jìn)的 3D 解決方案,Teledyne DALSA、e2v 和 FL
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泰瑞達亮相SEMICON China:解讀異構集成和Chiplet時(shí)代下,測試行業(yè)的機遇與挑戰

  • 2023年7月3日,中國 北京訊 —— 全球先進(jìn)的自動(dòng)測試設備供應商泰瑞達(NASDAQ:TER)宣布,受邀出席了SEMICON China 2023同期舉辦的“先進(jìn)封裝論壇 - 異構集成”活動(dòng)。在活動(dòng)中,泰瑞達Complex SOC事業(yè)部亞太區總經(jīng)理張震宇發(fā)表題為《異構集成和Chiplet時(shí)代下,芯片測試行業(yè)的機遇與挑戰》的精彩演講,生動(dòng)介紹泰瑞達對于先進(jìn)封裝,在質(zhì)量和成本之間找到平衡和最優(yōu)方案的經(jīng)驗和見(jiàn)解。 SEMICON China是中國最重要的半導體行業(yè)盛事之一,見(jiàn)證中國半導體制造業(yè)的茁
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DRAM迎來(lái)3D時(shí)代?

3D NAND 堆疊可超 300 層,鎧俠解讀新技術(shù)

  • 5 月 5 日消息, 鎧俠和西數展示最新的技術(shù)儲備,雙方正在努力實(shí)現 8 平面 3D NAND 設備以及具有超過(guò) 300 條字線(xiàn)的 3D NAND IC。根據其公布的技術(shù)論文,鎧俠展示了一種八平面 1Tb 3D TLC NAND 器件,有超過(guò) 210 個(gè)有源層和 3.2 GT/s 接口,可提供 205 MB/s 的程序吞吐量,讀取延遲縮小到 40 微秒。此外,鎧俠和西部數據還合作開(kāi)發(fā)具有超過(guò) 300 個(gè)有源字層的 3D NAND 器件,這是一個(gè)具有實(shí)驗性的 3D NAND IC,通過(guò)金屬誘導側向
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Chiplet 安全風(fēng)險被低估

  • Chiplet 面臨的安全挑戰之大令人望而生畏。
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突破封控!中國推出自有小芯片接口標準,加速半導體自研發(fā)

  • 從整個(gè)芯片的發(fā)展來(lái)看,隨著(zhù)芯片工藝制程提升的難度越來(lái)越大,Chiplet這種小芯片疊加的方案,已經(jīng)逐漸成為了一種主流。特別是5nm以下先進(jìn)芯片工藝,在制造單芯片產(chǎn)品之際成本極高,所以用Chiplet的方案不但能保證性能,同時(shí)也能有效節約成本。目前整個(gè)行業(yè)都在向Chiplet方向發(fā)展,甚至海外還有專(zhuān)門(mén)針對Chiplet這一技術(shù)的聯(lián)盟——UCIe聯(lián)盟。UCIe聯(lián)盟的初衷是確保來(lái)自不同供應商的小芯片相互兼容,畢竟多芯片設計的優(yōu)勢之一是它們可以由不同的公司設計,并由不同的代工廠(chǎng)在不同的節點(diǎn)生產(chǎn)。這樣要做到不同芯片
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中國Chiplet的機遇與挑戰及芯片接口IP市場(chǎng)展望

  • 在探討Chiplet(小芯片)之前,摩爾定律是繞不開(kāi)的話(huà)題。戈登·摩爾先生在1965 年提出了摩爾定律:每年單位面積內的晶體管數量會(huì )增加一倍,性能也會(huì )提升一倍。這意味著(zhù),在相同價(jià)格的基礎上,能獲得的晶體管數量翻倍。不過(guò),摩爾先生在十年后的1975年,把定律的周期修正為24個(gè)月。至此,摩爾定律已經(jīng)影響半導體行業(yè)有半個(gè)世紀。隨著(zhù)集成電路技術(shù)的不斷演進(jìn),半導體行業(yè)發(fā)現摩爾定律在逐漸失效。上圖右上部分是英特爾x86 CPU 1970-2025年的演化歷史,可看出每顆芯片的晶體管數量持續增加(右上深藍色線(xiàn)條),但時(shí)
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Chiplet:后摩爾時(shí)代關(guān)鍵芯片技術(shù),先進(jìn)封裝市場(chǎng)10年10倍

  • 大家好,我是小胡。在前面的內容我們講國內六大CPU廠(chǎng)商的時(shí)候,發(fā)現了一個(gè)問(wèn)題,就是國產(chǎn)CPU后續工藝迭代的問(wèn)題。除了華為鯤鵬以外,其余五大CPU廠(chǎng)商目前主力芯片的制程工藝都在10nm以上,而六大廠(chǎng)商當中有四家被列入實(shí)體清單,鯤鵬920雖然是7nm工藝,但這兩年一直依靠庫存支撐,芯片供應鏈問(wèn)題一直是國產(chǎn)CPU無(wú)法回避的問(wèn)題。22年8月份之后,Chiplet技術(shù),也就是芯粒技術(shù)在A(yíng)股市場(chǎng)中熱度升高,我在看券商研報的時(shí)候發(fā)現,“超越摩爾定律”、“性能升級”、“彎道超車(chē)”、“產(chǎn)業(yè)突破”成為了研報當中的關(guān)鍵詞。今天
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中國推出本土小芯片接口以實(shí)現自力更生

  • Chiplet 作為目前受到廣泛關(guān)注的新技術(shù),給全球和中國的半導體市場(chǎng)帶來(lái)了變革與機遇。
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圍繞小芯片形成的小型聯(lián)盟

  • 商業(yè)小芯片市場(chǎng)崛起還遠,但公司正在通過(guò)更有限的合作伙伴關(guān)系早日起步。
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平面→立體,3D DRAM重定存儲器游戲規則?

  • 近日,外媒《BusinessKorea》報道稱(chēng),三星的主要半導體負責人最近在半導體會(huì )議上表示正在加速3D DRAM商業(yè)化,并認為3D DRAM是克服DRAM物理局限性的一種方法,據稱(chēng)這將改變存儲器行業(yè)的游戲規則。3D DRAM是什么?它將如何顛覆DRAM原有結構?壹摩爾定律放緩,DRAM工藝將重構1966年的秋天,跨國公司IBM研究中心的Robert H. Dennard發(fā)明了動(dòng)態(tài)隨機存取存儲器(DRAM),而在不久的將來(lái),這份偉大的成就為半導體行業(yè)締造了一個(gè)影響巨大且市場(chǎng)規模超千億美元的產(chǎn)業(yè)帝國。DRA
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外媒:存儲大廠(chǎng)正在加速3D DRAM商業(yè)化

  • 據外媒《BusinessKorea》報道,三星電子的主要半導體負責人最近在半導體會(huì )議上表示正在加速3D DRAM商業(yè)化,并認為3D DRAM是克服DRAM物理局限性的一種方法。三星電子半導體研究所副社長(cháng)兼工藝開(kāi)發(fā)室負責人Lee Jong-myung于3月10日在韓國首爾江南區三成洞韓國貿易中心舉行的“IEEE EDTM 2023”上表示,3D DRAM被認為是半導體產(chǎn)業(yè)的未來(lái)增長(cháng)動(dòng)力??紤]到目前DRAM線(xiàn)寬微縮至1nm將面臨的情況,業(yè)界認為3~4年后新型DRAM商品化將成為一種必然,而不是一種方向。與現有
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芯和半導體榮獲3D InCites “Herb Reiter 年度最佳設計工具供應商獎”

  • 國內EDA行業(yè)領(lǐng)導者芯和半導體,由于其Metis平臺在2.5D/3DIC Chiplet先進(jìn)封裝設計分析方面的杰出表現,近日在半導體行業(yè)國際在線(xiàn)平臺3D InCites的評選中,獲封2023“Herb Reiter 年度最佳設計工具供應商獎”稱(chēng)號。? “Xpeedic芯和半導體去年宣布Chipletz采用了Metis平臺用于智能基板產(chǎn)品的設計,這一事件引起了我們極大的關(guān)注?!?D InCites創(chuàng )始人Fran?oise von Trapp表示,” 我們非常興奮芯和半導體今年首次參加3D InCi
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芯和半導體榮獲3D InCites “Herb Reiter年度最佳設計工具供應商獎”

  • 國內EDA行業(yè)領(lǐng)導者芯和半導體,由于其Metis平臺在2.5D/3DIC Chiplet先進(jìn)封裝設計分析方面的杰出表現,近日在半導體行業(yè)國際在線(xiàn)平臺3D InCites的評選中,獲封2023“Herb Reiter 年度最佳設計工具供應商獎”稱(chēng)號。?“Xpeedic芯和半導體去年宣布Chipletz采用了Metis平臺用于智能基板產(chǎn)品的設計,這一事件引起了我們極大的關(guān)注?!?D?InCites創(chuàng )始人Fran?oise von Trapp表示,” 我們非常興奮芯和半導體今年首次參加3D
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支持下一代 SoC 和存儲器的工藝創(chuàng )新

  • 本文將解析使 3D NAND、高級 DRAM 和 5nm SoC 成為可能的架構、工具和材料。要提高高級 SoC 和封裝(用于移動(dòng)應用程序、數據中心和人工智能)的性能,就需要對架構、材料和核心制造流程進(jìn)行復雜且代價(jià)高昂的更改。正在考慮的選項包括新的計算架構、不同的材料,包括更薄的勢壘層和熱預算更高的材料,以及更高縱橫比的蝕刻和更快的外延層生長(cháng)。挑戰在于如何以不偏離功率、性能和面積/成本 (PPAC) 曲線(xiàn)太遠的方式組合這些。當今的頂級智能手機使用集成多種低功耗、高性能功能的移動(dòng) SoC 平臺,包括一個(gè)或多
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3d chiplet介紹

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