ASML最先進(jìn)EUV出貨，臺積電5納米有譜

　　全球半導體微影技術(shù)領(lǐng)導廠(chǎng)商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布，在臺積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠(chǎng)力挺下，最先進(jìn)的極紫外光(EUV)已連續四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺最新的EUV系統出貨。

　　EUV堪稱(chēng)半導體設備發(fā)展以來(lái)最昂貴的設備，一臺售價(jià)高達9,000 萬(wàn)歐元(約新臺幣36億元)，這項設備也是半導體產(chǎn)業(yè)向更先進(jìn)制程發(fā)展最關(guān)鍵設備，因此發(fā)展進(jìn)度，一直各界關(guān)注焦點(diǎn)。

　　臺積電共同執行長(cháng)暨劉德音表示，臺積電本季將會(huì )再增購一臺EUV設備，不過(guò)臺積電將會(huì )于5奈米制程才會(huì )導入生產(chǎn)制程，顯示EUV的輸出率，目前仍處于試驗階段。

　　不過(guò)，ASML總裁暨執行長(cháng)溫彼得(Peter Wennink)昨天在公布第1季財報后，也針對EUV進(jìn)展，公布重大突破。

　　他強調，ASML的目標是在今年持續強化EUV系統的生產(chǎn)力和妥善率，并計畫(huà)在今將機臺生產(chǎn)力提升到每天曝光1,500片晶圓。

　　他說(shuō)，今年首季，ASML的EUV系統即展現每天曝光350片晶圓的實(shí)力。在妥善率方面，三個(gè)客戶(hù)端的EUV系統都展現連續四周平均妥善率達80%以上的成果。

　　至于首季已出貨一臺最新EUV微影系統NXE:3350B，計劃第2季出貨兩臺EUV系統。

　　ASML首季也推出深紫外光(DUV)最新型浸潤式機臺NXT:1980，并出貨6臺，且快速將生產(chǎn)力拉升到每天4000片晶圓的水準。這套系統將應用在即將邁入試產(chǎn)的10奈米制程。

　　ASML也于本季推出最新一代的整合式量測系統YieldStar 350E，提供晶圓更準確的量測結果來(lái)做后續分析。

　　ASML昨天公布首季營(yíng)收13.3億歐元，毛利率42.6%，雙雙超標，本季預期在客戶(hù)導入新的浸潤式機臺為10奈米量產(chǎn)做準，且擴增28奈米制程產(chǎn)能，樂(lè )觀(guān)預期會(huì )有強勁成長(cháng)。