澳大利亞研制納米電子束曝光系統

　　據澳大利亞莫納什大學(xué)網(wǎng)站報道,澳大利亞研究人員正在研制世界最強大的納米設備之一——電子束曝光系統(EBL).該系統可標記納米級的物體,還可在比人發(fā)直徑小1萬(wàn)倍的粒子上進(jìn)行書(shū)寫(xiě)或者蝕刻.

　　電子束曝光技術(shù)可直接刻畫(huà)精細的圖案,是實(shí)驗室制作微小納米電子元件的最佳選擇.這款耗資數百萬(wàn)美元的曝光系統將在澳大利亞亮相,并有能力以很高的速度和 定位精度制出超高分辨率的納米圖形.該系統將被放置在即將完工的墨爾本納米制造中心(MCN)內,并將于明年3月正式揭幕.

　　MCN的臨時(shí)負責人阿彼得·凱恩博士表示,該設備將幫助科學(xué)家和工程師發(fā)展下一代微技術(shù),在面積小于10納米的物體表面上實(shí)現文字和符號的書(shū)寫(xiě)和蝕刻.此外,這種強大的技術(shù)正越來(lái)越多地應用于鈔票詐騙防偽、微流體設備制造和X射線(xiàn)光學(xué)元件的研制中,還可以支持澳大利亞同步加速器的工作.

　　凱恩說(shuō):“這對澳大利亞科學(xué)家研制最新的納米儀器十分重要,其具有無(wú)限的潛力,目前已被用于油漆、汽車(chē)和門(mén)窗的凈化處理,甚至對泳衣也能進(jìn)行改進(jìn).而MCN與澳大利亞同步加速器相鄰,也能吸引更多的國際研究團隊的目光.”

　　MCN的目標是成為澳大利亞開(kāi)放的、多范圍的、多學(xué)科的微納米制造中心.該中心將支持環(huán)境傳感器、醫療診斷設備、微型納米制動(dòng)器的研制,以及新型能源和生物等領(lǐng)域的研究和模型繪制.除電子束曝光系統外,MCN中還包含了高分辨率雙束型聚焦離子束顯微鏡、光學(xué)和納米壓印光刻儀、深反應離子蝕刻???和共聚焦顯微鏡等眾多設備.

　　凱恩認為:能夠介入這種技術(shù)使我們的科學(xué)家十分興奮,它可以確保我們在未來(lái)十年內在工程技術(shù)前沿領(lǐng)域的眾多方面保持領(lǐng)先地位,也將成為科學(xué)家在納米范圍內取得更大成就的重要基點(diǎn).