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澳大利亞研制納米電子束曝光系統
- 據澳大利亞莫納什大學(xué)網(wǎng)站報道,澳大利亞研究人員正在研制世界最強大的納米設備之一——電子束曝光系統(EBL).該系統可標記納米級的物體,還可在比人發(fā)直徑小1萬(wàn)倍的粒子上進(jìn)行書(shū)寫(xiě)或者蝕刻. 電子束曝光技術(shù)可直接刻畫(huà)精細的圖案,是實(shí)驗室制作微小納米電子元件的最佳選擇.這款耗資數百萬(wàn)美元的曝光系統將在澳大利亞亮相,并有能力以很高的速度和 定位精度制出超高分辨率的納米圖形.該系統將被放置在即將完工的墨爾本納米制造中心(MCN)內,并將于明年3月正式揭幕. MCN的臨時(shí)負責人阿
- 關(guān)鍵字： 納米 EBL 蝕刻.
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