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蝕刻.
蝕刻. 文章 進(jìn)入蝕刻.技術(shù)社區
SSEC晶圓蝕刻制程平臺專(zhuān)用多路徑回收排放管路
- 先進(jìn)封裝與半導體元件、高亮度發(fā)光二極體與硬碟制造之單晶圓濕制程系統大廠(chǎng)美國固態(tài)半導體設備(Solid State Equipment LLC，DBA SSEC) 發(fā)表專(zhuān)為 WaferEtch 平臺設計的多路徑回收排放管路(MultiPath Collection Drain)。專(zhuān)屬的排放管路設計能在相同的反應室內收集、再循環(huán)、并隔絕多種化學(xué)品，且幾乎不會(huì )造成化學(xué)品的交叉污染，而且能夠形成獨特的化學(xué)品排放路徑，并維持SSEC出色的化學(xué)品儲存值。此外，即時(shí)冷卻功能可對現今微細特征蝕刻應用提供更佳的制程控制
- 關(guān)鍵字： 晶圓 蝕刻
IBM宣布旗下芯片廠(chǎng)將停用PFOS/PFOA兩種有毒化合物
- IBM公司近日宣布其名下的芯片制造廠(chǎng)中將停止使用全氟辛烷磺?；衔?PFOS)和全氟辛酸(PFOA)兩種有毒有害化合物。多年前，在歐盟以及其它 一些國家的環(huán)保部門(mén)出臺限制使用這兩種化合物的法規之后，美國環(huán)保署也出臺了限制在消費級產(chǎn)品的生產(chǎn)過(guò)程中使用這兩種化合物的法規，這兩種化合物一般用于 防污和防潮處理。 不過(guò)在半導體制造產(chǎn)業(yè)中，仍允許使用這兩種化合物，半導體制造的光刻和蝕刻工步需要少量使用這兩種化合物。經(jīng)過(guò)10多年的努力，IBM終于找到了這兩種有毒化合物的替代用品。 IBM公司主管微電
- 關(guān)鍵字： IBM 光刻 蝕刻
澳大利亞研制納米電子束曝光系統
- 據澳大利亞莫納什大學(xué)網(wǎng)站報道,澳大利亞研究人員正在研制世界最強大的納米設備之一——電子束曝光系統(EBL).該系統可標記納米級的物體,還可在比人發(fā)直徑小1萬(wàn)倍的粒子上進(jìn)行書(shū)寫(xiě)或者蝕刻. 電子束曝光技術(shù)可直接刻畫(huà)精細的圖案,是實(shí)驗室制作微小納米電子元件的最佳選擇.這款耗資數百萬(wàn)美元的曝光系統將在澳大利亞亮相,并有能力以很高的速度和 定位精度制出超高分辨率的納米圖形.該系統將被放置在即將完工的墨爾本納米制造中心(MCN)內,并將于明年3月正式揭幕. MCN的臨時(shí)負責人阿
- 關(guān)鍵字： 納米 EBL 蝕刻.
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蝕刻.介紹
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