晶圓制造人才告急，校企聯(lián)動(dòng)與在職培訓缺一不可

　　摘要：近日，明導公司與北京理工大學(xué)合作創(chuàng )建了光電聯(lián)合實(shí)驗室。合作儀式期間，部分專(zhuān)家學(xué)者談到目前晶圓制造人才非常缺乏，人才培養迫在眉睫。

　　人才告急

　　很多人認為半導體是錢(qián)的問(wèn)題，其實(shí)錢(qián)不是主要問(wèn)題，最主要的是人才。因為任何事情都是由人去做的。武漢新芯集成電路制造公司(XMC)行政管理處戰略與業(yè)務(wù)發(fā)展高級副總李平介紹了該公司現狀。武漢新芯作為全國三家擁有12英寸晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能的工廠(chǎng)之一，現在有一千多名員工，其中工程師約三百多人，包括維護工程師、設備工程師等。按照武漢新芯制訂的發(fā)展規劃，未來(lái)產(chǎn)能將擴大10倍，將需要五千名工程師。“人才是一個(gè)迫在眉睫、必須要解決的問(wèn)題。”

　　技術(shù)門(mén)檻高，人才培養難

　　實(shí)際上，政府也意識到人才的重要性，教育部已規劃新建九個(gè)微電子學(xué)院，專(zhuān)門(mén)來(lái)解決未來(lái)微電子業(yè)的人才問(wèn)題。

　　在國家重視的同時(shí)，校企合作也非常重要。明導(Mentor Graphics)公司中國區總經(jīng)理范明輝女士稱(chēng)，根據協(xié)議，明導將資助北理工光電學(xué)院的課程開(kāi)發(fā)、研究生學(xué)位課程專(zhuān)業(yè)研討會(huì )和相關(guān)研究，使學(xué)生能深入了解前沿光電技術(shù)，如光學(xué)鄰近校正(OPC)和分辨率增強技術(shù)(RET)。而“此次合作的OPC、RET，明導在中國的市占率達百分之百。”

　　不過(guò)，在合作過(guò)程中，明導發(fā)現中國的晶圓廠(chǎng)客戶(hù)和合作伙伴找人才很難找，因為門(mén)檻特別高，不光在學(xué)校需要學(xué)很多專(zhuān)業(yè)知識，到企業(yè)后還得花一年甚至幾年實(shí)踐才能真正掌握。所以明導與高校合作建實(shí)驗室，希望早日把工業(yè)界的知識帶進(jìn)學(xué)校。

　　北京理工大學(xué)光電學(xué)院的李艷秋博導也認為教學(xué)難度大，需從知識傳授、實(shí)踐、研究方面展開(kāi)。

　　光電學(xué)院已在研究生的課程里設置了OPC、RET、高分辨率成像等光刻基礎技術(shù)知識。

　　除此之外，還有上機實(shí)驗課，讓學(xué)生具體去設計光刻的高良率、高保真、高分辨率的掩模結構，以及OPC的結果;并讓學(xué)生到企業(yè)實(shí)習，例如北理工光電學(xué)院正有三名學(xué)生在明導上海機構里實(shí)習，“這樣一方面使學(xué)生直接參與企業(yè)在中國的研發(fā)以及技術(shù)支撐活動(dòng)，同時(shí)使學(xué)生們也能得到企業(yè)的培養。”

　　在研究方面，“我們合作的內容圍繞著(zhù)RET，還在不斷地豐富和拓展。”具體地，合作的是分辨率增強技術(shù)(RET)中的OPC，但已拓展到了包含掩模與光源、設備的協(xié)同設計(SMO)，另外還考慮了偏振(SMPO)，接下來(lái)還會(huì )涉及到設備也可能不是理想的，有相差，如何補償相差，來(lái)讓工藝(即生產(chǎn)線(xiàn)上做出來(lái)的芯片的光刻圖形)保真，使芯片的良率更高等課題。

　　企業(yè)在職培訓也需重視

　　但是，從學(xué)校培養出的人才，通常需要很多年的工作經(jīng)驗，才能夠真正達到最佳狀態(tài)。因此企業(yè)的在職培訓也刻不容緩。

　　“社會(huì )上對人才培養有個(gè)誤區。學(xué)校培養學(xué)生的是知識和能力，而不是去了崗位就是一個(gè)技能型的產(chǎn)業(yè)人員。”北理工的李艷秋博導指出。在國外，員工入職后要在企業(yè)進(jìn)行重新培養。針對不同的崗位，比如政府、企業(yè)或研究所，需要重新打造，每個(gè)階段應該都有不同的伯樂(lè )去發(fā)現和培養人才。

　　例如，李艷秋博導曾在一家日本著(zhù)名的光學(xué)公司工作過(guò)，進(jìn)入這家企業(yè)的技術(shù)人員都是光學(xué)科班出身，既使這樣，該公司每年都要給老員工培訓兩個(gè)月，像應用光學(xué)、物理光學(xué)等。培訓教師有的是公司內部的人，有的是從學(xué)校請來(lái)的。因此，咱們的本土企業(yè)也應該有這種觀(guān)念。

　　28nm后的光刻與傳統不同

　　光刻技術(shù)正在發(fā)生質(zhì)變。中科院微電子所集成電路先導工藝研發(fā)中心韋亞一研究員說(shuō)，新的光刻技術(shù)研發(fā)的模式改變是從28nm以后開(kāi)始發(fā)生的，而我國現在最先進(jìn)的工藝是28nm，再往下走是22/20、16/14nm節點(diǎn)。因此需要新型光刻人才。

　　具體地，集成電路的技術(shù)等級，例如45/40nm、32nm等，實(shí)際上是由光刻來(lái)保證的。從技術(shù)節點(diǎn)看，我國最先進(jìn)的和國外最先進(jìn)的水平相差約兩到三個(gè)技術(shù)節點(diǎn)。例如我國最新的是28nm制程，由SMIC(中芯國際)在上海試產(chǎn)，才剛剛開(kāi)始。而國外Intel公司14nm已開(kāi)始試產(chǎn)。

　　28nm以后，整個(gè)光刻技術(shù)研發(fā)的方法論跟傳統不同，變成以計算光刻為核心的研發(fā)循環(huán)，其中軟件起關(guān)鍵作用。此時(shí)光刻機里所有參數都可以事先輸入到軟件中，對光刻機和光刻材料進(jìn)行仿真，這樣就可以事先知道實(shí)驗結果如何。而且在仿真過(guò)程中可以修改工藝，再進(jìn)行循環(huán)、計算，最后找到最佳條件。

　　可見(jiàn)，高校和企業(yè)均肩負了培養新型光刻人才的使命。

　　小結

　　強大的產(chǎn)業(yè)才能不受制于人。我國集成電路制造業(yè)的宏偉藍圖需要大批人才，這需要高校傳授給學(xué)生最先進(jìn)的知識，需要企業(yè)重視員工的再培訓。人才培養也需要各種模式創(chuàng )新，明導和北理工的企校合作，以及北理工在教學(xué)方面的探索，值得借鑒和推廣。

　　參考文獻：
　　[1]王瑩.武漢新芯：定位存儲器制造，兩年后或推3D NAND.電子產(chǎn)品世界,2014(1)
　　[2]王瑩. 代工廠(chǎng)與設計公司如何像IDM一樣合作.電子產(chǎn)品世界,2012(3)
　　[3]王瑩.上下聯(lián)動(dòng)，促進(jìn)IC產(chǎn)業(yè)跨越式發(fā)展.電子產(chǎn)品世界,2013(1):28
　　[4]王瑩. 把握產(chǎn)業(yè)趨勢，開(kāi)創(chuàng )自己的路.電子產(chǎn)品世界,2012(9)
　　[5]王瑩,萬(wàn)翀.本土制造業(yè)尋求特色.電子產(chǎn)品世界,2011(11)