紐大全球450mm聯(lián)盟相中SOKUDO浸潤ArF微影Track技術(shù)

　　根據美國商業(yè)資訊報導，大日本SCREEN制造株式會(huì )社(Dainippon Screen Mfg.)證實(shí)，其子公司開(kāi)發(fā)的SOKUDO DUO 450mm涂層/顯影系統(coat/develop track system)已被總部位于奧爾巴尼市紐約州立大學(xué)(SUNY)奈米科學(xué)與工程學(xué)院(CNSE)的全球450mm聯(lián)盟(G450C)相中，用于浸潤式ArF微影技術(shù)和定向自組裝(DSA)應用。

　　SOKUDO DUO將被嵌入位于CNSE的NanoFab Xtension內由大日本SCREEN提供的成套450mm清洗設備中。大日本SCREEN提供的450mm晶圓刷洗機、單晶圓清洗以及毫秒退火系統將部署在G450C計劃安裝的設備中。G450C是由紐約州州長(cháng)安德魯?庫默(Andrew M. Cuomo)于2011年9月宣布設立的公私協(xié)力(public-private partnership, PPP)聯(lián)盟，旨在促進(jìn)該產(chǎn)業(yè)向新的標準450mm晶圓尺寸轉型。該聯(lián)盟由CNSE聯(lián)合英特爾(Intel)、IBM、GLOBALFOUNDRIES、三星(Samsung)和臺積電(TSMC)帶頭創(chuàng )立。

　　SOKUDO DUO擬采用與450mm浸潤式ArF微影系統一致的介面，并將于2014年夏季運抵紐約州奧爾巴尼市G450C總部，屆時(shí)將啟動(dòng)所有安裝與參數特征化工作。此舉極力回應并支援2013年7月紐約州發(fā)布的一份公告，該公告計劃將于2015年4月向CNSE提供一套450mm晶圓ArF浸潤式微影系統。值得注意的是，作為與G450C達成協(xié)議的一部分，SOKUDO也將提供450mm虛擬晶圓廠(chǎng)track制程支援，從而實(shí)現450mm DSA圖案化測試晶圓制造用于G450C成員的開(kāi)發(fā)設備。DSA圖形化功能也將整合到SOKUDO DUO中，用于輔助采用浸潤式ArF曝光的微影技術(shù)。

　　SOKUDO Co., Ltd.執行長(cháng)兼大日本SCREEN半導體設備公司總裁須原忠浩(Tadahiro Suhara)表示：「總部位于紐約州的G450C及其成員公司是450mm晶圓轉型的先驅?zhuān)軌蚺c他們并肩合作我們感到十分高興。大日本SCREEN集團參與G450C專(zhuān)案的深度印證了我們在450mm半導體制造設備開(kāi)發(fā)中的領(lǐng)導地位。尤其值得自豪的是該專(zhuān)案選擇了SOKUDO DUO 450mm track系統，此舉將鞏固我們長(cháng)期作為尖端track供應商的地位?！?/p>

　　CNSE制造創(chuàng )新副總裁兼G450C總經(jīng)理Paul Farrar, Jr.,表示：「在安德魯?庫默州長(cháng)的領(lǐng)導與宏偉愿景的指導下，紐約進(jìn)一步成為產(chǎn)業(yè)向450mm晶圓技術(shù)實(shí)現關(guān)鍵轉變的中心。我們非常高興與大日本SCREEN的半導體設備公司繼續合作，并對其子公司 SOKUDO Co., Ltd參與幫助向450mm晶圓技術(shù)實(shí)現重大轉變表示熱烈歡迎?！?/p>

　　2013年7月，在美西半導體展(SEMICON West)期間舉辦的SOKUDO微影技術(shù)早餐論壇上曾揭露，SOKUDO DUO依比例增大的一種450mm完整晶圓已經(jīng)在大日本SCREEN制程技術(shù)中心(位于日本彥根市)的無(wú)塵室內運作一年以上。SOKUDO是首批極力支援該聯(lián)盟的公司之一，其推出了各種450mm薄膜涂層的測試晶圓，包括用于實(shí)現450mm奈米壓印微影圖案化、DSA功能及參數特征化的黏附性涂層。

　　作為半導體設備的領(lǐng)導企業(yè)，大日本SCREEN和SOKUDO將繼續推出世界一流的產(chǎn)品，為產(chǎn)業(yè)發(fā)展做出貢獻。