臺積電不用當盤(pán)子了？日本開(kāi)發(fā)出更便宜EUV 撼動(dòng)芯片業(yè)

荷商艾司摩爾（ASML）是半導體設備巨頭，臺積電等龍頭公司制造先進(jìn)芯片，都需采用ASML制造商生產(chǎn)的昂貴極紫外光曝光機（EUV），根據《Tom's Hardware》報導，日本科學(xué)家已開(kāi)發(fā)出簡(jiǎn)化的EUV掃描儀，可以大幅降低芯片的生產(chǎn)成本。

報導指出，沖繩科學(xué)技術(shù)學(xué)院（OIST）Tsumoru Shintake教授提出一種全新、大幅簡(jiǎn)化的EUV曝光機，相比ASML開(kāi)發(fā)和制造的工具更便宜，如果該種設備大規模量產(chǎn)，可能重塑芯片制造設備產(chǎn)業(yè)的現況。

值得關(guān)注的是，新系統在光學(xué)投影設定中只使用兩面鏡子，與傳統的六鏡配置有很大不同，這種光學(xué)系統的挑戰在于，它得將這些反射鏡沿直線(xiàn)對齊，以確保系統保持較高的光學(xué)性能。

報導稱(chēng)，這種新的光路允許超過(guò)10%的初始EUV能量到達晶圓，而標準設置中的能量約為1%，這個(gè)改進(jìn)是重大突破。而這種EUV微影工具的優(yōu)點(diǎn)，在于提高可靠性并降低了維護復雜性，以及功耗大幅降低。