抗衡臺積電,曙光乍現
在全球半導體市場(chǎng),IDM 的發(fā)展勢頭和行業(yè)影響力似乎越來(lái)越弱,而晶圓代工業(yè)務(wù)模式的行業(yè)地位卻在持續提升。從行業(yè)龍頭廠(chǎng)商的發(fā)展現狀,也可以看出這種發(fā)展態(tài)勢,眼下,市值最高的兩大半導體企業(yè),一個(gè)是英偉達,市值已經(jīng)超過(guò) 2 萬(wàn)億美元,火爆異常,另一個(gè)是臺積電,在 2022 和 2023 年,英偉達股價(jià)暴漲之前,臺積電的市值是半導體企業(yè)里最高的,一度超過(guò) 7000 億美元,后來(lái)有所下滑,但現在又恢復到 7000 億美元以上。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202404/457100.htm英偉達和臺積電是晶圓代工業(yè)務(wù)模式下的典型企業(yè),一個(gè)設計,一個(gè)生產(chǎn),而且都聚焦先進(jìn)制程工藝,珠聯(lián)璧合,成為當下半導體行業(yè)最搶眼的存在。
相比之下,老牌的 IDM 企業(yè),并穩定在各自領(lǐng)域內排名前三的企業(yè),有兩大代表,一個(gè)是英特爾,一個(gè)是德州儀器(TI),一個(gè)做數字邏輯芯片,一個(gè)做模擬芯片,這兩家都是各自領(lǐng)域的龍頭。但它們最近今幾年的日子似乎都不太好過(guò),特別是德州儀器,無(wú)論是市值,還是營(yíng)收、利潤,或是業(yè)務(wù)拓展能力,與早些年相比都在下滑,而且裁員不斷。
晶圓代工正在全面打壓 IDM。也正是因為如此,在全球晶圓代工廠(chǎng)商中綜合實(shí)力最強的三家:臺積電,三星,英特爾,其中的兩家——三星和英特爾——都從 IDM 進(jìn)入了晶圓代工業(yè),且投入力度越來(lái)越大。
發(fā)展策略各有不同
對于臺積電、英特爾和三星這三大廠(chǎng)商來(lái)說(shuō),原來(lái)采取的晶圓代工策略各有不同,但近兩年越來(lái)越趨同,那就是把越來(lái)越多的資源投入到最先進(jìn)制程工藝技術(shù)上。
臺積電的基調一直沒(méi)變,持之以恒地將晶圓代工業(yè)務(wù)做到極致,特別是在先進(jìn)制程方面,是臺積電投入的重點(diǎn),每年都會(huì )有大量資金砸進(jìn)去,而發(fā)展到 10nm 的時(shí)候,臺積電相對于行業(yè)競爭對手(主要是三星)的優(yōu)勢越來(lái)越明顯,在 7nm 和 5nm 制程芯片量產(chǎn)方面,臺積電形成了對競爭者的碾壓態(tài)勢,并將這種優(yōu)勢延續到了 3nm。
三星方面,在 20nm 及以上制程時(shí)代,與臺積電之間的差距沒(méi)有現在這么大,而到了 14nm(臺積電稱(chēng)為 16nm),三星憑借在制程工藝方面的突破,在這一節點(diǎn)處壓了臺積電一頭,但是,這種優(yōu)勢并沒(méi)有持續太久,臺積電很快就趕了上來(lái),并在 10nm 以下制程領(lǐng)域使三星越來(lái)越難受。為了追趕臺積電,三星電子于 2017 年決定分拆晶圓代工業(yè)務(wù)部門(mén),以尋求更多客戶(hù),特別是行業(yè)大客戶(hù)的信賴(lài),但從結果來(lái)看,這樣的分拆并不算成功,或者說(shuō),對于三星這樣在韓國處于巨無(wú)霸地位的企業(yè)來(lái)說(shuō),要想完全將晶圓代工業(yè)務(wù)分拆出來(lái),難度太大。
英特爾方面,在上一位 CEO 的規劃里,晶圓代工業(yè)務(wù)幾乎被無(wú)視掉了,而是將主要精力和資源投入到了核心產(chǎn)品 CPU,以及各種新型處理器產(chǎn)品(如手機處理器和 AI 處理器),但從實(shí)際結果來(lái)看,都不理想,在 CPU 方面,AMD 在過(guò)去 5 年里,憑借架構和設計創(chuàng )新,以及合作伙伴臺積電的制程優(yōu)勢,快速逆襲,搶奪了大量原本屬于英特爾的 CPU 市場(chǎng)份額。與此同時(shí),GPU 在 AI 領(lǐng)域的重要性不斷凸顯出來(lái),而臺積電的制程工藝優(yōu)勢依然發(fā)揮著(zhù)關(guān)鍵作用,相反,在那段時(shí)期,英特爾并沒(méi)有重視 GPU 市場(chǎng),錯過(guò)了最佳的發(fā)展機遇期,這也導致該公司在最近幾年大力投入 GPU 研發(fā)時(shí),總是有種事倍功半的效果。
在新任 CEO 的帶領(lǐng)下,英特爾大幅調整了發(fā)展策略,將晶圓代工業(yè)務(wù)放在了頭等重要的位置,幾乎是要 All in 式的投入,從近兩年以及未來(lái)的發(fā)展來(lái)看,英特爾的這個(gè)決策還是值得期待的,雖然時(shí)間稍晚了一些,但并沒(méi)有錯過(guò),發(fā)展結果如何,估計 5 年后可以見(jiàn)分曉。
行業(yè)地位此消彼長(cháng)
總的發(fā)展策略會(huì )導致相應的結果,這在臺積電、英特爾和三星晶圓代工業(yè)務(wù)上有明顯體現,特別是行業(yè)排名,最為明顯。
就近兩年的排名來(lái)看,這三強的變化很明顯,臺積電市占率已經(jīng)提升到 60%,三星下滑明顯,英特爾在十強榜單中進(jìn)進(jìn)出出。
前些天,TrendForce 發(fā)布了 2023 年第四季度全球十大晶圓代工廠(chǎng)營(yíng)收排名榜單,如下圖所示。
可以看出,臺積電的市占率已經(jīng)提升到了 61.2%,環(huán)比上升,而三星的市占率為 11.3%,環(huán)比下降。英特爾方面,該公司的代工業(yè)務(wù) IFS(Intel Foundry Service)在 2023 年第三季度歷史首次出現在該榜單中,當時(shí)排名第九位。而在第四季度榜單中,英特爾被擠出了前十。
2022 年第四季度,排名情況基本不變。市占率方面,臺積電為 58.5%,三星的市占率為 15.8%,那時(shí),英特爾還沒(méi)有出現在榜單中。
2021 年第四季度,在榜單中,臺積電的市占率為 52.1%,三星為 18.3%,那時(shí),英特爾也不可能出現在榜單中,因為該公司是在 2021 年正式推出 IFS 服務(wù)的,一切才剛剛開(kāi)始。
綜合以上 3 年內的市占率來(lái)看,臺積電年年穩步提升,而三星則正相反。英特爾經(jīng)過(guò)兩年的籌備和發(fā)展,在 2023 年第三季度首次出現在該榜單中,但在第四季度又消失了。這些,從一個(gè)側面體現出這三家廠(chǎng)商晶圓代工業(yè)務(wù)發(fā)展策略所產(chǎn)生的結果,即臺積電從一開(kāi)始就走純代工模式,最大化地獲得客戶(hù)信任,同時(shí)將先進(jìn)制程發(fā)展到行業(yè)極致水平,才能將市占率穩步提升,三星則介于 IDM 和純代工模式之間,且在先進(jìn)制程方面未能發(fā)展出行業(yè)頂尖水平,此消彼長(cháng),市占率在下滑。英特爾在榜單上的呈現與消失,則體現出其在業(yè)務(wù)發(fā)展初期的不穩定性。
工藝技術(shù)比拼
行業(yè)市占率的變化,在很大程度上取決于制程工藝技術(shù)水平的高低。無(wú)論是過(guò)去還是現在,臺積電的綜合實(shí)力是最強的,特別是在晶體管密度和能效方面,技術(shù)積累的優(yōu)勢短時(shí)間內難以被超越。不過(guò),最近幾年,英特爾追趕的腳步很快,在解決了困擾多年的 10nm 制程工藝(在未攻克該節點(diǎn)之前,英特爾在 14nm 制程上徘徊了近 5 年時(shí)間)以后,該公司的制程節點(diǎn)演進(jìn)速度明顯提升,正在拉近與臺積電的距離。在這種情況下,三星壓力越來(lái)越大,因為前有(臺積電)堵截,后有(英特爾)追兵,未來(lái),三星的晶圓代工業(yè)務(wù)日子恐怕不好過(guò)。
最近,TechInsights 發(fā)布了一份臺積電、英特爾、三星制程技術(shù)對比報告,主要關(guān)注先進(jìn)制程的晶體管密度、運算效能和能耗效率。
晶體管密度方面,臺積電 3nm(N3)制程及其強化版 N3E,晶體管密度達到 283MTx/mm2(每平方毫米百萬(wàn)晶體管數)和 273MTx/mm2,都高于 Intel 18A 的 195MTx/mm2。Intel 18A 采用背面供電技術(shù)(Backside power),對降低能耗有一定幫助,但英特爾沒(méi)有公布能耗數據??傮w來(lái)看,Intel 18A 大幅超越臺積電 3nm 性能還是不太可能。
三星領(lǐng)先臺積電跨入 GAA 架構 Nanosheet 制程,力圖彎道超車(chē),不過(guò),比較晶體管密度、性能、能耗后,同年內,三星的制程工藝都落后于臺積電,臺積電晶體管密度約是三星的 1.5 倍以上,;先進(jìn)制程客戶(hù)數量方面,臺積電也遠超三星。
還有一點(diǎn)很重要,那就是良率,它直接影響生產(chǎn)成本和客戶(hù)認可度。
自從進(jìn)入 5nm 制程時(shí)代以來(lái),良率一直是三星晶圓代工業(yè)務(wù)所面對的最大問(wèn)題,特別是在 3nm 制程節點(diǎn)上,三星率先引入了全新的 GAA 架構晶體管,與以往使用的 FinFET 晶體管有較大區別,也使良率問(wèn)題進(jìn)一步放大。
據 Notebookcheck 報道,目前,三星的 3nm 工藝良率在 50% 附近徘徊,依然有一些問(wèn)題需要解決。三星 2023 年曾表示,其 3nm 工藝量產(chǎn)后的良率已達到 60% 以上,不過(guò),現在看來(lái),當時(shí)過(guò)于樂(lè )觀(guān)了。
今年 2 月,據韓媒報道,三星新版 3nm 工藝存在重大問(wèn)題,試產(chǎn)芯片均存在缺陷,良率為 0%。報道指出,采用 3nm 工藝的 Exynos 2500 芯片因缺陷未能通過(guò)質(zhì)量測試,導致后續 Galaxy Watch 7 的芯片組也無(wú)法量產(chǎn)。報道指出,由于 Exynos 2500 芯片試產(chǎn)失敗,三星推遲了大規模生產(chǎn),目前,尚不清楚是否能夠及時(shí)解決良率問(wèn)題。
為了追趕臺積電,三星的 3nm 制程工藝采取了比較激進(jìn)的策略,主要體現在 GAA 晶體管架構上,臺積電的 3nm 依然采用 FinFET。2nm 才會(huì )轉向 GAA 晶體管,激進(jìn)的結果就是要在良率方面付出一些代價(jià)。
當年,英特爾的 10nm 一直難產(chǎn),最大的障礙就是多年未解決的良率問(wèn)題,致使 14nm 制程被一改再改,才能維持其 CPU 的更新?lián)Q代。后來(lái),經(jīng)過(guò) 5 年左右的攻關(guān),終于解決了 10nm 制程良率問(wèn)題,那之后,英特爾的制程工藝發(fā)展就顯得順利多了,眼下,Intel 4 量產(chǎn)準備就緒,Intel 3 也快了。
制造成本深不見(jiàn)底
International Business Strategies(IBS)的分析師認為,與 3nm 處理器相比,2nm 芯片成本將增長(cháng)約 50%。
IBS 估計,一個(gè)產(chǎn)能約為每月 50000 片晶圓(WSPM)的 2nm 產(chǎn)線(xiàn)的成本約為 280 億美元,而具有類(lèi)似產(chǎn)能的 3nm 產(chǎn)線(xiàn)的成本約為 200 億美元。增加的成本,很大一部分來(lái)自于 EUV 光刻設備數量的增加,這將大大增加每片晶圓和每個(gè)芯片的生產(chǎn)成本,而能夠接受如此高成本芯片的廠(chǎng)商,只有蘋(píng)果、AMD、英偉達和高通等少數幾家。
IBS 估計,2025~2026 年,使用臺積電 N2 工藝加工單個(gè) 12 英寸晶圓將花費蘋(píng)果約 30000 美元,而基于 N3 工藝的晶圓成本約為 20000 美元。
預計三星、英特爾和 AMD 等公司將在未來(lái)幾年加速采用由不同制程節點(diǎn)制造的小芯片(Chiplet)組設計,以降低成本。同時(shí),智能手機處理器可能會(huì )在一段時(shí)間內保留單片設計,因為先進(jìn)封裝的成本也很高。
相對于三星和英特爾,臺積電的客戶(hù)規模優(yōu)勢,可以將成本控制在一定水平內。
2023 年,蘋(píng)果公司占臺積電收入的 25%,為其貢獻了 175.2 億美元營(yíng)收,英偉達為臺積電貢獻了 77.3 億美元,占其 2023 年營(yíng)收的 11%。
2023 年,臺積電的前 10 大客戶(hù)占其收入的 91%,高于 2022 年的 82%,這些公司包括聯(lián)發(fā)科、AMD、高通、博通、索尼和 Marvell。
隨著(zhù)對 AI 處理器需求的增加,英偉達在臺積電收入中的份額可能會(huì )在 2024 年增加,該公司已經(jīng)預訂了臺積電晶圓代工和 CoWoS 封裝產(chǎn)能,以確保其用于 AI 的優(yōu)質(zhì)處理器的穩定供應。今年,AMD 在臺積電總營(yíng)收中的份額有望超過(guò) 10%。
有這些大客戶(hù)下單,臺積電就有資本大規模投資最先進(jìn)制程,否則,像 3nm 和 2nm 這樣燒錢(qián)的制程產(chǎn)線(xiàn),是很難持續支撐下去的。
相對于臺積電,三星的良率和出貨量是問(wèn)題,而對于初來(lái)乍到的英特爾來(lái)說(shuō),另辟蹊徑是一個(gè)好的選擇,短期內盡量避免與臺積電的最先進(jìn)制程正面交鋒,還是要找一些技術(shù)和應用突破點(diǎn),爭取穩定住產(chǎn)能、良率和客戶(hù)。在過(guò)去的一年里,英特爾已經(jīng)在做類(lèi)似的事情了,如扶持 RISC-V 的發(fā)展,與聯(lián)電合作開(kāi)發(fā)制程工藝等。
結語(yǔ)
在 2023 年 12 月舉行的 IEEE 國際電子元件峰會(huì )(IEDM)上,臺積電表示,將在 2nm 后推出 1.4nm 制程,預計在 2027~2028 年量產(chǎn),按照計劃,其 2nm 將在 2025 年量產(chǎn)。
三星緊追臺積電,對外宣布計劃 2027 年推出 1.4nm。
英特爾 CEO 基辛格則表示,該公司將在今后 4 年內推出 5 個(gè)制程節點(diǎn),目前進(jìn)展一切如預期。目前,Intel 7 已進(jìn)入量產(chǎn)階段,Intel 4 現已量產(chǎn)準備就緒,Intel 3 也會(huì )按計劃于今年底推出,Intel 20A 已經(jīng)試產(chǎn),很可能用于生產(chǎn) 2025 年推出的 Arrow Lake 處理器,Intel 18A 將在 2025 下半年量產(chǎn)。
從這三家的先進(jìn)制程發(fā)展情況來(lái)看,決勝戰很可能出現在 1nm~2nm 制程節點(diǎn)上,那時(shí),成本、晶體管效能和功率效率方面,臺積電的優(yōu)勢恐怕會(huì )弱于現在,三星和英特爾會(huì )有更多機會(huì )。
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