佳能發(fā)布半導體光刻機新品 FPA-5550iX，可用于全畫(huà)幅 CMOS 制造等

IT之家 3 月 13 日消息，佳能于今日發(fā)售了面向前道工序的半導體光刻機新產(chǎn)品 —— i 線(xiàn)步進(jìn)式光刻機“FPA-5550iX”，該產(chǎn)品能夠同時(shí)實(shí)現 0.5μm（微米）高解像力與 50×50mm 大視場(chǎng)曝光。

據介紹，新產(chǎn)品“FPA-5550iX”能夠同時(shí)實(shí)現 50×50mm 大視場(chǎng)及 0.5μm 高解像力曝光，在不斷趨向高精尖化的全畫(huà)幅 CMOS 傳感器制造領(lǐng)域中，使得單次曝光下的高解像力成像成為可能。

同時(shí)，通過(guò)充分利用高解像力與大視場(chǎng)的優(yōu)勢，“FPA-5550iX”也可應用于頭戴式顯示器等小型顯示設備制造的曝光工序中。

此外，隨著(zhù)先進(jìn)的 XR 器件顯示器需求增加，該產(chǎn)品也可廣泛應用于大視場(chǎng)、高對比度的微型 OLED 顯示器制造。

新產(chǎn)品“FPA-5550iX”不僅能夠應用于半導體器件制造，也可以在最先進(jìn)的 XR 器件顯示器制造等更廣泛的器件制造領(lǐng)域發(fā)揮其作用。

此外，“FPA-5550iX”的調準用示波器不僅具備檢測直射光的“明場(chǎng)檢測”功能，還新增了檢測散射光和衍射光的“暗場(chǎng)檢測”功能，用戶(hù)可根據使用需求選擇相應的檢測方法。通過(guò)可選波長(cháng)范圍的擴大、區域傳感器的應用，加之可進(jìn)行多像素測量，最終實(shí)現更低噪點(diǎn)的檢測效果，即使是低對比度的對準標記，也可以進(jìn)行檢測。還可以應用于各類(lèi)對準標記的測量，加強對用戶(hù)多樣制程的支持能力。比如，作為選裝功能，用戶(hù)可以選擇配備能夠穿透硅片的遠紅外線(xiàn)波長(cháng)，以便在背照式傳感器制造過(guò)程中對晶圓背面進(jìn)行對準測量。

IT之家注：調準用示波器是一種可以讀取晶圓上的對準標記并進(jìn)行對準的顯微鏡。其原理是從對準光源將光照射到對準標記上，透過(guò)鏡頭，在區域傳感器上感光從而進(jìn)行檢測。