臺積電計劃關(guān)閉部分EUV光刻機:先進(jìn)工藝過(guò)剩
EUV光刻機是半導體制造中的核心設備,只有ASML公司才能生產(chǎn),單臺售價(jià)約10億人民幣,之前三星、臺積電等公司還要搶著(zhù)買(mǎi),然而今年半導體形勢已經(jīng)變了,EUV光刻機反而因為耗電太多,臺積電計劃關(guān)閉省電。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202209/437945.htm來(lái)自產(chǎn)業(yè)鏈的消息人士手機晶片達人的消息稱(chēng),由于先進(jìn)制程產(chǎn)能利用率開(kāi)始下滑,而且評估之后下滑時(shí)間會(huì )持續一段周期,臺積電計劃從年底開(kāi)始,將部分EUV 設備關(guān)機,以節省EUV設備巨大的耗電支出。
據了解臺積電目前擁有大約80臺EUV光刻機,主要用于7nm、5nm及以下的先進(jìn)工藝,今年9月份還會(huì )量產(chǎn)3nm工藝,都需要EUV光刻機,然而隨著(zhù)PC、手機、顯卡等產(chǎn)品的需求下滑,先進(jìn)工藝生產(chǎn)的芯片勢必會(huì )受到影響。
蘋(píng)果今年的iPhone 14 Pro系列的A16處理器也沒(méi)有急著(zhù)上3nm工藝,還在用4nm工藝,此外蘋(píng)果還因為3nm能效問(wèn)題,取消了初代3nm生產(chǎn)芯片的計劃。
相比之前的DUV光刻機,EUV光刻機需要使用高能激光器,而且光線(xiàn)會(huì )多次折射導致?lián)p耗極大,早期效率只有0.02%,現在量產(chǎn)的說(shuō)是可以達到2%效率,但也意味著(zhù)絕大多數電力都要消耗掉。
EUV光刻機生產(chǎn)一天需要3萬(wàn)度電左右,一年耗電大約1000萬(wàn)度,是十足的電老虎。
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