讓ASML如此親睞，Mapper公司什么來(lái)頭？

　　荷蘭光刻機制造商ASML官方宣布，收購其競爭對手荷蘭代爾夫特的光刻機制造商Mapper的知識產(chǎn)權資產(chǎn)。同時(shí)，ASML的官方聲明中還寫(xiě)到，將為Mapper在研發(fā)和產(chǎn)品裝配方面的高技能員工提供合適的職位。ASML總裁兼首席執行官Peter Wennink表示：“我們非常尊重Mapper的專(zhuān)家，他們表現出極大的創(chuàng )造力和足智多謀。ASML重視他們的專(zhuān)業(yè)知識，我們期待著(zhù)歡迎他們加入我們的組織?！?/p>本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/201902/397475.htm

　　ASML官方聲明

　　能夠讓光刻機巨頭ASML如此親睞，這個(gè)Mapper公司到底是什么來(lái)頭?

　　天堂和地獄僅一步之遙

　　作為ASML的競爭對手，Mapper在2018年12月份被證實(shí)正式宣布破產(chǎn)，公司擁有270名員工和眾多電子束光刻機相關(guān)的IP。

　　Mapper曾經(jīng)以為自己找到了半導體制造行業(yè)的痛點(diǎn)，無(wú)奈研發(fā)能力跟不上，最終錯過(guò)了好時(shí)機。和Mapper電子束光刻機對應的就是傳統光刻，將掩模放置在光源和硅片之間，光線(xiàn)通過(guò)掩模照射到硅片上，使得掩模上的線(xiàn)條圖形按一定比例縮小轉移到硅片上。這個(gè)過(guò)程需要循環(huán)反復多次，加上晶圓制造需要多層光刻，一顆芯片可能要六十次以上，這樣就造成了掩模的成本非常高昂，進(jìn)而導致制造一顆新的芯片的成本急劇上升。

　　Mapper為了降低芯片制造商在掩模上的高昂費用，以及讓光刻突破光波長(cháng)的限制，選擇使用電子束替代光源。電子束具有很高的分辨率、較大的焦深與靈活性。Mapper設備通過(guò)使用電子束書(shū)寫(xiě)而不再需要掩模，讓芯片成本有望實(shí)現明顯下降。

　　但是，電子束也有自身的缺陷，就是速度比光源光刻要慢很多，Mapper通過(guò)大量增加電子束的數量來(lái)解決這個(gè)難題。光刻機的分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，這就需要極高的工藝來(lái)保證幾十萬(wàn)個(gè)電子束能夠精準的控制，研發(fā)和制造的難度都極大。

　　2009年，有外媒報道，由于技術(shù)上的原因，Mapper原計劃交付給臺積電的300mm光刻設備延期，當時(shí)給出的延期時(shí)間是一個(gè)季度，讓臺積電的制程研發(fā)受到了影響。而當時(shí)臺積電準備轉入的工藝制程是32nm。隨著(zhù)工藝不斷精進(jìn)，以及芯片上電路日益復雜，控制精度和電子束數量增長(cháng)帶來(lái)的難度并不亞于EUV光刻機光源功率的增加，Mapper顯然沒(méi)有攻克難題。

　　2011年，當時(shí)的代工三巨頭臺積電、英特爾和格羅方德其實(shí)更傾向于無(wú)掩模光刻技術(shù)，認為無(wú)掩模技術(shù)顯得更適合作為下一代光刻技術(shù)使用。但是，由于無(wú)掩模技術(shù)，包括電子束光刻的研發(fā)遇到了困境，三家公司才又將目光移回到EUV光刻，此前由于擔心EUV光刻成本太高以及曝光率等問(wèn)題三家公司對此并不熱情。

　　所以，16nm成了光源光刻和電子束光刻的分水嶺，ASML從此名震天下，拿到光刻機市場(chǎng)78%的份額，Mapper一蹶不振以至于破產(chǎn)被收購資產(chǎn)。ASML的EUV光刻機是目前市場(chǎng)上最先進(jìn)的設備，能夠用于晶圓代工廠(chǎng)的7nm制程，其他廠(chǎng)商在這一點(diǎn)上難以望其項背。

　　ASML的“壟斷地位”得到鞏固

　　在2018年底，ASML只是眾多對Mapper收購感興趣的公司之一，如今如愿以?xún)數玫組apper的IP和員工，ASML可謂是如虎添翼。

　　首先，光刻機行業(yè)是技術(shù)壁壘極高的行業(yè)，能夠吸納Mapper的人才，解決了ASML的人才招聘苦惱。Peter Wennink表示：“Mapper員工也將有機會(huì )參與我們激動(dòng)人心且具有挑戰性的下一代芯片制造計劃，即EUV和EUV High-NA。多年來(lái)積累的Mapper的知識產(chǎn)權和知識現在將用于荷蘭的進(jìn)一步創(chuàng )新?！?/p>

　　另外，雖然EUV光刻機已經(jīng)量產(chǎn)出售給客戶(hù)，但是EUV光刻機需要250瓦的光源和125WPH的效率，這讓設備的生產(chǎn)受到極大的限制，也讓設備的成本非常的高昂。并且250瓦光源只能支撐到5nm，到了3nm將需要500瓦的光源，這對ASML的研發(fā)提出極高的挑戰。

　　因此，收購Mapper的IP無(wú)疑給自己的未來(lái)增加了更多的可能。

　　ASML有一個(gè)規定值得大家注意，那就是只有投資ASML，才能夠獲得優(yōu)先供貨權。ASML可以借助客戶(hù)的投資在EUV光源和電子束光刻上雙管齊下，保證自己在光刻機行業(yè)的壟斷地位。