三星制定DRAM發(fā)展藍圖 15納米是制程微縮極限
三星電子為了鞏固存儲器霸業(yè),制定 DRAM 發(fā)展藍圖,擘劃制程微縮進(jìn)度。業(yè)界預估,15 納米可能是 DRAM 制程微縮的極限,擔憂(yōu)三星遭中國業(yè)者追上。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/201704/358205.htm韓媒 etnews 18 日報導,業(yè)界消息稱(chēng),三星去年開(kāi)始量產(chǎn) 18 納米 DRAM,目前正研發(fā) 17 納米 DRAM,預定今年底完成開(kāi)發(fā)、明年量產(chǎn)。與此同時(shí),三星也成立 16 納米 DRAM 開(kāi)發(fā)小組,目標最快 2020 年量產(chǎn)。相關(guān)人士透露,微縮難度高,2020 年量產(chǎn)時(shí)間可能延后。
三星從 20 納米制程(28→25→20),轉進(jìn) 10 納米制程(18→17),縮小線(xiàn)寬(Line-width)的速度明顯放緩。三星尚未成立 15 納米制程以下的研發(fā)團隊,因為由此開(kāi)始,電流外泄和電容器干擾和情況將更為明顯,需要開(kāi)發(fā)新的材質(zhì)。
三星設備解決方案部門(mén)的半導體實(shí)驗室人員 Jung Eun-seung 說(shuō),為了繼續縮小線(xiàn)寬,必須開(kāi)發(fā)與當前不同的新材質(zhì),并提高制程穩定性,以便進(jìn)入量產(chǎn)。業(yè)界人士估計,15 納米或許是制程微縮的極限,未來(lái)三星可能難以透過(guò)制程微縮拉大與對手差距,并擔憂(yōu)中國業(yè)者急起直追,趕上三星。

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