應材、科磊 與漢微科爭鋒

　　隨著(zhù)臺積電、英特爾、三星等半導體大廠(chǎng)將在明年微縮制程進(jìn)入20納米以下世代，設備廠(chǎng)也展開(kāi)新一波的搶單計劃。

　　在應用材料于其SEMVision系列設備上引進(jìn)首創(chuàng )缺陷檢測掃瞄電子顯微鏡(DR SEM)技術(shù)后，另一設備大廠(chǎng)科磊(KLA Tencor)21日宣布，同步推出新一化光學(xué)及電子束晶圓缺陷檢測系統。隨著(zhù)兩大設備廠(chǎng)已搶進(jìn)臺積電及英特爾供應鏈，對于國內設備廠(chǎng)漢微科來(lái)說(shuō)競爭壓力大增。

　　雖然半導體市場(chǎng)下半年景氣能見(jiàn)度不高，但是包括臺積電、英特爾、三星、格羅方德(GlobalFoundries)、聯(lián)電等大廠(chǎng)，仍積極投入擴充新產(chǎn)能，尤其是明年將相繼跨入20納米，后年則會(huì )進(jìn)入16納米或14納米鰭式場(chǎng)效晶體管(FinFET)世代，也因此，國內外設備大廠(chǎng)已積極布局爭取商機。

　　在晶圓缺陷檢測設備市場(chǎng)上，國內設備廠(chǎng)漢微科靠著(zhù)電子束檢測設備打響名號，現在已經(jīng)打入臺積電、三星、英特爾等大廠(chǎng)供應鏈。由于缺陷檢測攸關(guān)制程良率的提升速度，國際大廠(chǎng)如應用材料、科磊等，也已在光學(xué)及電子束檢測設備市場(chǎng)推出新一代產(chǎn)品，同樣也獲得臺積電、英特爾等大廠(chǎng)青睞及采用。

　　應用材料已在其SEMVision系列設備上，推出一套最新缺陷檢測及分類(lèi)技術(shù)，該設備的缺陷分析系統結合前所未有高分辨率、多維影像分析功能，及革命性創(chuàng )新的Purity自動(dòng)化缺陷分類(lèi)(ADC)系統高智能的機器學(xué)習算法，同時(shí)為半導體產(chǎn)業(yè)引進(jìn)首創(chuàng )缺陷檢測掃瞄電子顯微鏡技術(shù)，并可支持到10納米制程。

　　科磊昨日在科技論壇中宣布推出采用NanoPoint技術(shù)的光學(xué)晶圓缺陷檢測平臺及新型eDR-7100電子束晶圓缺陷檢查系統?？评趦纱舜笃脚_可以相互支持，可以迅速發(fā)現和可靠識別影響良率的缺陷，透過(guò)缺陷偵測并成像位于3D或垂直結構如FinFET底部的獨特缺陷，在最短時(shí)間內拉高制程良率。

　　法人表示，雖然漢微科在各大半導體廠(chǎng)的電子束缺陷檢測設備市場(chǎng)占有率仍高，但應用材料及科磊大動(dòng)作進(jìn)行卡位，尤其在現有光學(xué)缺陷檢測設備平臺上增加支持，降低晶圓廠(chǎng)成本，的確會(huì )對漢微科造成競爭壓力。