臺積電28nm制程有望今年Q4小批量試產(chǎn)

　　臺積電公司領(lǐng)導林本堅近日表示，公司規劃的28納米制程最快可望在今年第4季度小批量生產(chǎn)，并預估產(chǎn)量將在明年擴大。

　　林本堅表示，28納米制程采用多重曝影(multi patterning)的浸潤式(immersion)微影技術(shù)，并且公司正在進(jìn)行20納米技術(shù)的研發(fā)，未來(lái)14納米將嘗試導入極紫外光(EUV)或多重電子束 (MEB)等新技術(shù)，臺積電目前已加入Sematech，針對20納米以下半導體制程的相關(guān)技術(shù)進(jìn)行合作研發(fā)。

　　事實(shí)上，臺積電董事長(cháng)張忠謀早先就曾透露，臺積電正緊密觀(guān)察移動(dòng)終端的市場(chǎng)變化，如今智能手機、平板電腦等產(chǎn)品逐漸向輕薄、低耗能發(fā)展已是明顯趨勢，公司在進(jìn)軍市場(chǎng)與持續穩健成長(cháng)上皆需要仰仗28納米制程。