神秘客戶(hù)？ASML交付最先進(jìn)EUV光刻系統！
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ASML近日宣布已向另一家客戶(hù)交付其第二套高NA EUV光刻系統，彰顯了領(lǐng)先芯片制造商對下一代極紫外（EUV）光刻技術(shù)的濃厚興趣。然而，目前尚不清楚ASML的客戶(hù)是誰(shuí)，即將獲得這款配備0.55數值孔徑的投影光學(xué)器件的EUV工具。
ASML首席商務(wù)官Christophe Fouquet在與分析師和投資者的電話(huà)會(huì )議上表示：“關(guān)于高NA（0.55 NA EUV），我們已經(jīng)向客戶(hù)交付了我們的首個(gè)系統，目前正在進(jìn)行安裝?！薄氨驹挛覀冮_(kāi)始交付第二套系統，安裝工作也即將啟動(dòng)?！?/span>
回顧2023年底，ASML首次向英特爾交付了其首款高NA EUV光刻工具Twinscan EXE:5000。英特爾計劃利用該系統學(xué)習其操作，并將其與英特爾14A制造工藝相結合，投入大規模生產(chǎn)，這需要數年的時(shí)間。通過(guò)早期探索基于高NA EUV的工藝技術(shù)，英特爾將為下一代光刻技術(shù)的發(fā)展奠定行業(yè)標準，從而在未來(lái)幾年獲得競爭優(yōu)勢。
ASML首席執行官Christophe Fouquet還提到：“在2月份的SPIE工業(yè)會(huì )議上，我們宣布了位于Veldhoven的ASML-Imec高NA聯(lián)合實(shí)驗室的高NA系統的首次亮相?！薄拔覀円呀?jīng)獲得了第一張圖像，其分辨率低于10納米，并有望在未來(lái)幾周內開(kāi)始曝光晶圓。所有High-NA客戶(hù)都將使用該系統進(jìn)行早期工藝開(kāi)發(fā)?！?/span>
盡管臺積電和Rapidus似乎不急于采用高NA EUV光刻系統進(jìn)行大規模生產(chǎn)，但他們仍將在未來(lái)某個(gè)時(shí)候采用這項技術(shù)，這也是ASML對未來(lái)充滿(mǎn)信心的原因。據悉，全球最大的晶圓廠(chǎng)工具制造商正在研發(fā)具有投影光學(xué)的Hyper-NA EUV光刻工具，其數值孔徑高達0.7以上。
Fouquet指出：“客戶(hù)對我們的[高NA]系統實(shí)驗室表現出了極大的興趣，因為該系統將幫助我們的邏輯和存儲器客戶(hù)準備將高NA技術(shù)應用于他們的技術(shù)路線(xiàn)圖?！薄跋噍^于0.33 NA系統，0.55 NA系統提供了更精細的分辨率，使得晶體管密度增加了近3倍，而生產(chǎn)率保持相似，支持sub-2nm邏輯和sub-10nm DRAM節點(diǎn)?！?/span>
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