美國與荷蘭共同研討:限制中國芯片制造戰略!
美國與荷蘭官員及阿斯麥代表近日齊聚一堂,就一項重要戰略展開(kāi)討論,旨在讓盟友共同參與限制中國制造先進(jìn)半導體芯片的能力。此次會(huì )議的焦點(diǎn)集中在A(yíng)SML,該公司主導著(zhù)光刻設備市場(chǎng),這在半導體芯片制造過(guò)程中扮演著(zhù)不可或缺的角色。據悉,這一舉措的目的在于阻止中國目標芯片制造工廠(chǎng)的正常運營(yíng)。

光刻工具被視為半導體制造中的關(guān)鍵設備之一,而ASML則是這一市場(chǎng)的領(lǐng)導者。光刻工具的作用是在芯片制造過(guò)程中,執行關(guān)鍵步驟,幫助創(chuàng )造電路。
如果能夠成功阻止目標中國芯片制造工廠(chǎng),或稱(chēng)為“晶圓廠(chǎng)”,的正常運營(yíng),將對中國半導體產(chǎn)業(yè)構成嚴重挑戰。
ASML的光刻機幾乎無(wú)法被替代,其復雜性和獨特性使得其他競爭對手難以望其項背。若ASML拒絕為這些目標工廠(chǎng)提供備件和維護,機器將在某一時(shí)刻停止運轉,致使晶圓廠(chǎng)無(wú)法繼續生產(chǎn)芯片。
這一舉措與華盛頓當前的政策相一致,即通過(guò)與盟友合作,限制中國在關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展。這也表明了國際社會(huì )對中國半導體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展所帶來(lái)的擔憂(yōu),尤其是從國家安全和全球供應鏈的角度出發(fā)。
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