25年來(lái)重大更新！尼康推出5倍微縮的i-line步進(jìn)式光刻機

8月31日消息，尼康公司通過(guò)官網(wǎng)發(fā)布公告稱(chēng)，將推出型號為“NSR-2205iL1”的5倍縮小的 i-line 步進(jìn)式光刻機，該產(chǎn)品將用于制造電力和通信半導體以及 MEMS 等各種器件。與現有的尼康 i-line曝光系統相比，NSR-2205iL1 具有出色的經(jīng)濟性，無(wú)論晶圓材料如何，都可以?xún)?yōu)化各種半導體器件的生產(chǎn)。預計將于2024 年夏季上市銷(xiāo)售。

尼康表示，NSR-2205iL1 代表了尼康5倍步進(jìn)技術(shù)在過(guò)去二十五年中的最重大的更新，將可直接響應客戶(hù)對這些在芯片制造中發(fā)揮重要作用的光刻系統的需求。

隨著(zhù)電動(dòng)汽車(chē)、高速通信和各種 IT 設備變得越來(lái)越普遍，對支持它們的半導體的需求呈指數級增長(cháng)。這些半導體必須執行各種具有挑戰性的功能，因此，設備制造商需要專(zhuān)門(mén)的基板和曝光系統來(lái)制造這些芯片。尼康此前經(jīng)常通過(guò)翻新以前擁有的步進(jìn)機等方式來(lái)滿(mǎn)足這些光刻系統要求。然而，翻新步進(jìn)器的供應可能有限，可能不足以滿(mǎn)足客戶(hù)的需求。因此，為了提供額外的靈活曝光設備解決方案，尼康推出了新型 5x i-line 步進(jìn)式光刻機NSR-2205iL1 ，利用與客戶(hù)密切合作獲得的知識，為他們提供專(zhuān)門(mén)的解決方案，以滿(mǎn)足市場(chǎng)需求并解決步進(jìn)式光刻機供應有限和老化的問(wèn)題。除了擴展各種選項以滿(mǎn)足客戶(hù)的多樣化需求外，這款新開(kāi)發(fā)的 i-line 步進(jìn)式光刻機還將支持長(cháng)期的設備生產(chǎn)。

從官方公布的參數來(lái)看，NSR-2205iL1 曝光光源是 i-line（365nm波長(cháng)），分辨率≤350nm，NA為 0.45，最大曝光場(chǎng)22 mm x 22 mm。

主要優(yōu)點(diǎn)

1、提供卓越的經(jīng)濟承受能力，同時(shí)支持各種需求

NSR-2205iL1 將提供高生產(chǎn)率，同時(shí)通過(guò)使用多點(diǎn)自動(dòng)對焦 (AF) 的高精度晶圓測量、先進(jìn)的晶圓平臺調平（通過(guò)傾斜放置晶圓的工作臺來(lái)校正曝光期間曝光圖像平面和基板表面之間的偏移的機構）和寬 DOF（擴展的焦深范圍）來(lái)優(yōu)化各種半導體制造工藝的良率水平。此外，由于其晶圓厚度和尺寸兼容性、高晶圓翹曲容限以及靈活的功能（包括但不限于支持 碳化硅和 氮化鎵加工），它非常適合各種應用。NSR-2205iL1 i-line 步進(jìn)機將提供卓越的經(jīng)濟性，同時(shí)滿(mǎn)足芯片制造商的多樣化要求。

2、與現有產(chǎn)品和晶圓廠(chǎng)運營(yíng)兼容

NSR-2205iL1 可以與現有晶圓廠(chǎng)運營(yíng)兼容，在晶圓廠(chǎng)中擁有尼康 i-line 曝光系統的客戶(hù)可以繼續利用現有的資產(chǎn)和運營(yíng)，例如光掩模和晶圓曝光解決方案。此外，NSR-2205iL1 還可以補充或替換不再滿(mǎn)足制造要求的現有步進(jìn)式光刻機。

3、專(zhuān)為長(cháng)期使用和可持續性而設計

NSR-2205iL1 可以放心地長(cháng)期使用，因為其設計采用通用商用組件，比以往更容易采購零件，并為未來(lái)提供更可持續的光刻解決方案。

編輯：芯智訊-林子