中微公司尹志堯：繼續堅定發(fā)展本土半導體行業(yè)和產(chǎn)業(yè)鏈

科創(chuàng )板開(kāi)市三周年云上峰會(huì )今日正式舉行。本屆峰會(huì )由上海報業(yè)集團指導，界面·財聯(lián)社|科創(chuàng )板日報主辦，以“硬核驅動(dòng)·新能引擎”為主題。中微公司董事長(cháng)、總經(jīng)理尹志堯作為演講嘉賓，在論壇上作了題為“半導體設備產(chǎn)業(yè)的發(fā)展趨勢”主題演講。

尹志堯表示，伴隨國內晶圓廠(chǎng)高增速持續擴產(chǎn)，半導體設備產(chǎn)業(yè)近年來(lái)迎來(lái)高速發(fā)展階段。半導體設備市場(chǎng)高增長(cháng)一方面是由于中國大陸市場(chǎng)優(yōu)勢明顯，另一方面則是國內等離子干法刻蝕和化學(xué)薄膜設備保持高速增長(cháng)，不斷覆蓋更多應用。

“最近，南昌的某一生產(chǎn)線(xiàn)訂購了100臺中微設備，以前像這樣的生產(chǎn)線(xiàn)都需要進(jìn)口美國、德國的設備，而現在基本實(shí)現了本土化?！币緢蛘f(shuō)，我們要繼續堅定發(fā)展本土半導體行業(yè)和產(chǎn)業(yè)鏈，提升我國半導體產(chǎn)業(yè)的安全性和穩定性。

以下為尹志堯先生的演講實(shí)錄：

尊敬的各位嘉賓、各位朋友：

大家好！在科創(chuàng )板成立三周年這個(gè)喜慶的日子里，非常有幸有機會(huì )給大家匯報一下半導體設備產(chǎn)業(yè)的發(fā)展趨勢以及中微公司的簡(jiǎn)要介紹。

在2019年7月，中微公司非常有幸隨科創(chuàng )板第一批25家企業(yè)上市，并第一個(gè)達到千億市值?；叵脒@三年，此刻是非常激動(dòng)的！

下面我介紹一下我們所處在的行業(yè)，大家知道數碼產(chǎn)業(yè)是發(fā)展最快的，而且是國民經(jīng)濟的一個(gè)重大支柱產(chǎn)業(yè)。這個(gè)產(chǎn)業(yè)分成4個(gè)層次。最上面為上層建筑，軟件網(wǎng)絡(luò )、電商、傳媒、大數據、AI 、VR等，規模非常之大，但是它建立在一個(gè)電子系統的基礎上，小到電子玩具，大到全世界聯(lián)網(wǎng)的計算機系統，那么整個(gè)的電子系統又建立在集成電路產(chǎn)業(yè)的基礎上，產(chǎn)業(yè)規模大概5000億到1萬(wàn)億元左右。

集成電路的微觀(guān)器件制造，又建立在半導體設備這樣的產(chǎn)業(yè)基礎上，中國有句古話(huà)叫“工欲善其事，必先利其器”，這個(gè)產(chǎn)業(yè)的尺度并不是很大，大概在500億到1000億元這樣的產(chǎn)值范圍。半導體設備又建筑在傳統工業(yè)的基礎上，我們所從事的就是半導體設備這個(gè)核心的產(chǎn)業(yè)。

舉個(gè)例子，使大家有一個(gè)直觀(guān)的感受。在過(guò)去的70年里，從上世紀50年代開(kāi)始到現在，我們數碼產(chǎn)業(yè)做了一個(gè)最重要的一件事是什么東西呢？就是把微觀(guān)器件越做越小，在50年代的時(shí)候還沒(méi)有集成電路，有電子管的計算機，128k這樣的電子管計算機，要有2棟的5層大樓里面全部是電子管。我在北大讀研究生的時(shí)候，北大就有這樣的一個(gè)計算機，2棟5層的大樓里面全部是電子管在里面進(jìn)上，我后來(lái)到了硅谷的英特爾，那時(shí)已經(jīng)把128K容量做到一個(gè)指甲蓋上去了，在30年間，微觀(guān)器件面積上縮小100萬(wàn)倍。又過(guò)了30年到2015年，日本東芝首先宣布做出了128G的閃存器件，在30年里又把微觀(guān)器件的面積縮小了100萬(wàn)倍。

所以在70年來(lái)我們做了一件什么事呢？把東西越做越小，大家聽(tīng)說(shuō)這個(gè)摩爾定律，縮小了一萬(wàn)億倍，而這里面是有10大類(lèi)集成電路的微觀(guān)加工設備來(lái)輪番進(jìn)行加工，其中最關(guān)鍵的確定微觀(guān)尺度的就是兩個(gè)機器：一個(gè)是光刻機，一個(gè)是等離子體的刻蝕機，而且第三個(gè)就是化學(xué)薄膜設備，我們中微就是致力于制造離子刻蝕機和化學(xué)薄膜設備。

28納米器件結構，已經(jīng)是比較成熟的器件生產(chǎn)，可以看到這里大概有二三十層復雜的結構，相當于蓋一個(gè)微觀(guān)的樓房，我們的設備光刻機、等離子刻蝕機和薄膜設備，就這樣一層一層得把樓房蓋上去。薄膜就像一個(gè)木刻，要一個(gè)材料，光刻機就在材料上畫(huà)，等離子刻蝕機像刻刀，把不要的東西給它刻掉，從而形成三維立體結構。

半導體設備行業(yè)其實(shí)是發(fā)展最快的行業(yè)。由于新冠疫情全球肆虐，2020年全球GDP增速是負值，到了2021年有所恢復，全球GDP實(shí)現5.9%增長(cháng)。但是可以看到集成電路去年生產(chǎn)增加了20%，而半導體設備市場(chǎng)增加了43.8%。過(guò)去幾十年來(lái)都是這樣，半導體設備產(chǎn)業(yè)是一個(gè)發(fā)展速度最快的產(chǎn)業(yè)。

剛才我提到半導體設備大概有10大類(lèi)設備，其中目前最大的一類(lèi)設備就是刻蝕設備，等離子刻蝕機每年大概有200億美元的市場(chǎng)；第二類(lèi)是薄膜設備，也將近200億美元的市場(chǎng)；第三類(lèi)最大的設備是光刻機，過(guò)去光刻機曾經(jīng)是最大類(lèi)的設備，最近的5到7年，由于器件結構的變化，光刻機所占比重有所下降，而等離子刻蝕劑和薄膜設備有所增長(cháng)；第四類(lèi)設備則是檢測設備。

從另外一個(gè)角度來(lái)看，刻蝕設備占22%，化學(xué)薄膜設備在薄膜設備占相當大比例，占15%，而光學(xué)檢測在檢測設備里又占了相當大比例，大概占了將近5%。中微公司主要從事或設計的就是這三類(lèi)設備，公司生產(chǎn)的各等級刻蝕設備已經(jīng)能夠實(shí)現應用全覆蓋，與沈陽(yáng)拓荊合作實(shí)現化學(xué)薄膜設備交叉覆蓋。此外，我們還投資了上海睿勵科技，進(jìn)一步研發(fā)光學(xué)檢測設備。

這個(gè)產(chǎn)業(yè)雖然發(fā)展速度很快，但是有一個(gè)致命的問(wèn)題，就是它的發(fā)展是不穩定的。這張圖表示從1984年到2018年，每一年全世界的芯片生產(chǎn)線(xiàn)投資是前一年增長(cháng)百分之多少和減少百分之多少，大家可以看到最高的可以一年就增長(cháng)100%，而最不好的一年可以下降百分之三四十，所以我們這個(gè)產(chǎn)業(yè)是波動(dòng)很大的產(chǎn)業(yè)，它和國民經(jīng)濟狀況以及和集成電路本身新產(chǎn)品進(jìn)入市場(chǎng)的周期性有非常大的影響。所以我們必須要學(xué)會(huì )怎么駕馭浮動(dòng)的市場(chǎng)，保持公司穩定增長(cháng)。

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從各個(gè)國家和地區投資芯片生產(chǎn)線(xiàn)以及購買(mǎi)半導體設備的情況來(lái)看，去年2021年中國大陸第一年成為全球最大的市場(chǎng)，占了25%，市場(chǎng)非常興旺。第二大是中國臺灣地區占23%，韓國的占21%，美國占14%，就是4大區域。但是在中國大陸里，其實(shí)本土的設備生產(chǎn)線(xiàn)的投資大概占一半，境外的先進(jìn)芯片生產(chǎn)公司在中國的投資占了一半左右。

從另一個(gè)角度來(lái)看，在中國建一條生產(chǎn)線(xiàn)，我們從哪些國家來(lái)購買(mǎi)設備的？2020年的數據表明，從美國購入占53%，占了一半以上，荷蘭占16%，主要是光刻機，日本占17%，中國自己提供的僅占10%，2021年暫時(shí)還沒(méi)有數據，大概估計中國國產(chǎn)設備占12-13%，所以我們的芯片的生產(chǎn)在很大程度上還依賴(lài)于國外設備的進(jìn)口，包括零部件和材料，所以這是一個(gè)情況比較嚴峻的情況。我們需要下定決心繼續發(fā)展本土的產(chǎn)業(yè)和產(chǎn)業(yè)鏈，使我們的集成電路能夠更加自主。最近5到7年，芯片器件產(chǎn)生了相當多的變化，目前最先進(jìn)的EUV紫外光刻，用了13.5納米波長(cháng)的機器，只能刻出14納米的微觀(guān)結構。而10納米以下到5納米，甚至3納米的微觀(guān)結構是靠等離子刻蝕機和化學(xué)薄膜的組合拳，通過(guò)二重模板和四重模板等離子體刻出光刻尺度的1/2到1/4。

另外我們再看，占大規模生產(chǎn)的存儲器件也有根本性的變化。7年前基本上是兩維的芯片，比如在一個(gè)平面上把晶元件壓縮到大概在12納米左右，再往下壓縮就壓不下去了，所以就決定做成三維立體結構?，F在可以做到128層，甚至到192層，將來(lái)做256層的結構。在這種情況下，刻蝕機和薄膜設備的負擔就加重了，要加很多深層結構，比如刻蝕機過(guò)去刻蝕一個(gè)淺層結構，2-3分鐘可以刻，現在需要一個(gè)小時(shí)甚至到兩個(gè)小時(shí)，所以需要更多的刻蝕機和薄膜設備。所以從2011年到2021年的這10年里面，10種設備的增長(cháng)，每年平均年增長(cháng)都是不一樣的。其中，等離子干法刻蝕和化學(xué)薄膜是增長(cháng)最快的兩個(gè)設備。

下面簡(jiǎn)單解釋一下公司的情況，中微公司是2004年在開(kāi)曼群島注冊，但是在上海建立了中微半導體設備（上海）有限公司，到現在為止已經(jīng)整整有18年的歷史。經(jīng)過(guò)6年的努力，我們在2019年上了科創(chuàng )板，到現在為止，公司員工有1200人左右，去年公司產(chǎn)值達到了31億，正在以比較高的速度發(fā)展。

我們公司在10個(gè)國家布局，我們的宗旨是建立以中國為基地的，但是面向國際半導體市場(chǎng)的國際化公司，中微公司在國外和國內共有6個(gè)子公司，包括在中國臺灣、新加坡、韓國、日本和美國，在歐洲有我們的代理商，各個(gè)地區有一共有15個(gè)區域的辦公室，我們在過(guò)去的十年里一直保持了高于35%的年銷(xiāo)售增長(cháng)率。

在去年基數很高的基礎上，仍然有高于35%的增長(cháng)，在全世界70多條生產(chǎn)線(xiàn)上，我們積累的臺數有2300多個(gè)反應臺，今年可能要超過(guò)3000臺的反應臺。我們主要的客戶(hù)在等離子刻蝕機上面對的是集成電路的一流廠(chǎng)商，包括國內和國際的廠(chǎng)商。MOCVD是我們的第二大產(chǎn)品，主要是泛半導體的發(fā)光二極管和顯示屏技術(shù)，面向的也都是國內外的一流的廠(chǎng)商。

我們一共有四大產(chǎn)品，第一大產(chǎn)品也是最成熟的產(chǎn)品，是電容性的高能等離子刻蝕機，目前已經(jīng)進(jìn)入5納米晶圓生產(chǎn)線(xiàn)，并在5納米以下也取得了非?？上驳倪M(jìn)展。第二個(gè)產(chǎn)品是深硅刻蝕機，專(zhuān)門(mén)做先進(jìn)封裝和傳感器的刻蝕機。

中微公司在過(guò)去十幾年里開(kāi)發(fā)了一系列等離子刻蝕機，基于不同的型號，包括高能CCP等離子刻蝕機和低能ICP等離子刻蝕機，這兩種機型都有單臺機和雙臺機，單臺機就是最高水平要求的刻蝕應用，而雙臺機可以實(shí)現占地面積最小和最高的輸出量，來(lái)達到最低的成本，可以覆蓋大多數的刻蝕應用，所以是一個(gè)非常完整的系列。

我們刻蝕、邏輯線(xiàn)路、動(dòng)態(tài)存儲器以及閃存的各種各樣的復雜的結構，在我們這個(gè)行業(yè)里面最難做課時(shí)的就是深孔刻蝕。經(jīng)過(guò)幾十年的努力，從我在80年代做的是3:1-5:1比的深孔，現在已經(jīng)做到60:1的深孔，我們在2014年可以做到20:1的深孔刻蝕，就是深孔的深度和直徑的比是20:1，到2018年做到40:1，到2021年做到了60:1的深孔。將來(lái)再往下走的話(huà)，要刻是更細更深的孔，這是我們產(chǎn)業(yè)最大的挑戰。

另外在低能等離子刻蝕機方面，ICP 刻蝕機也可以刻出各種各樣的復雜結構和形狀，中微公司的刻蝕精準度已經(jīng)可以刻蝕上萬(wàn)億個(gè)線(xiàn)條，它的寬度均勻性已經(jīng)做到了原子水平的加工精度。

我們的雙臺ICP低能等離子刻蝕機也有很好的表現，我們在市場(chǎng)上所競爭的對手大部分只有單臺機，沒(méi)有雙臺機，而我們有雙臺機的結構，所以我們擁有相當大的競爭優(yōu)勢。另外一個(gè)產(chǎn)品剛才我也提到了，是用于發(fā)光二極管到Mini LED顯示屏的MOCVD設備，這個(gè)設備有55噸重，有13米長(cháng)，需要40萬(wàn)瓦功率支持，有4個(gè)反應器，可以把底物加熱到1100度，來(lái)化學(xué)沉積的發(fā)光材料，我們已經(jīng)有三代的產(chǎn)品，目前在藍光、綠光的氮化鉀這樣的一個(gè)領(lǐng)域，我們處在國際最領(lǐng)先的地位。

就在南昌的一個(gè)大生產(chǎn)線(xiàn)上，一次性就定了100臺中微設備，過(guò)去都是美國、德國的設備，現在基本上都是國產(chǎn)化的。在2016-2021年，5年的時(shí)間里我們的銷(xiāo)售增長(cháng)保持在35%以上，在2021年和今年基數很高的情況下，仍然保持比較高速的增長(cháng)。從訂單來(lái)講，2021年比2020年增長(cháng)了90%，這個(gè)訂單增加了90%，付運臺數增加了66.4%，而確認收入增加了36.7%，如果按美元計算增加了43%，大概就是40%左右的增長(cháng)速度。

今年上半年雖然有疫情的肆虐，但是我們堅持沒(méi)有停產(chǎn)繼續營(yíng)運，所以今年上半年比去年上半年訂單又提高了61.8%，中微公司營(yíng)業(yè)收入提高了47.16%，凈利潤扣非以后增長(cháng)了6倍左右，所以今年上半年業(yè)績(jì)也是非常好的，而且我們人均創(chuàng )收達到了非常高的水平，每人平均創(chuàng )收326萬(wàn)人民幣，今年將達到更高。

另外大家知道我們這個(gè)行業(yè)是一個(gè)技術(shù)密集的行業(yè)，而且專(zhuān)利和出口控制非常嚴格。我們在十幾年里申請了專(zhuān)利2000多項，而且其中發(fā)明專(zhuān)利占85%，已經(jīng)核準的項目有1179項，我們擁有相當好的一個(gè)“專(zhuān)利池”來(lái)保護我們的技術(shù)產(chǎn)權。第二，我們在質(zhì)量管理上也推行了整個(gè)一套管理制度，在去年4000萬(wàn)家公司參與的質(zhì)量獎評選中，我們名列第十五名，獲得了“提名獎”，

在國際上的中微的發(fā)展也得到普遍認可，美國有一個(gè)公司叫VLSI Research，它專(zhuān)門(mén)對全世界的集成電路半導體設備進(jìn)行全球分析和評比，在2018年和2019年我們參與了這兩次評比，非常有幸被評為第三名，所以我們產(chǎn)品的競爭力和客戶(hù)滿(mǎn)意度比較廣泛地得到了產(chǎn)業(yè)認可。等離子刻蝕機被評為第二名，而薄膜設備被評為了第一名，在2021年我們又第三次參與了評比，我們拿到了第四名，但是第四名和第三名只差了0.07分。此外，中微公司是唯一一家同時(shí)獲得三個(gè)獎項的公司，在國際半導體設備產(chǎn)業(yè)得到了廣泛的認可。

在刻蝕機方面，大概60%的零部件是在本土生產(chǎn)和采購的，需要從美國采購的部分大概在10%上下，MOCVD做得更好一些，80%的零部件已經(jīng)國產(chǎn)化，還有5%左右要從美國進(jìn)口。我們還在繼續努力，希望在5-10年內能夠實(shí)現更高水平的國產(chǎn)化率?，F在我們還在繼續開(kāi)發(fā)不同的產(chǎn)品，特別是高端產(chǎn)品繼續進(jìn)入市場(chǎng)，時(shí)間有限，我就不解釋的簡(jiǎn)單就詳細解釋了。我們刻蝕設備主要將推出4個(gè)新產(chǎn)品，在MOCVD方面也將推出三個(gè)新產(chǎn)品，上述產(chǎn)品我們正在緊鑼密鼓地開(kāi)發(fā)。

在我們開(kāi)發(fā)產(chǎn)品和打入市場(chǎng)的同時(shí)，我們去年完成了82億人民幣的融資，用于開(kāi)發(fā)三個(gè)建設項目，為以后的10年和15年打下很好的基礎。其中第一個(gè)項目是南昌生產(chǎn)研發(fā)基地14萬(wàn)平方米，到現在已經(jīng)開(kāi)始部分啟用，臨港有個(gè)18萬(wàn)平方米的生產(chǎn)研發(fā)基地，到年底也可以部分啟用。上海臨港滴水湖畔約10萬(wàn)平方米的研發(fā)中心暨總部大樓也在順利建設，明年也可以部分投入使用。預計2024年，我們將擁有45萬(wàn)平方米的廠(chǎng)房，而現在我們只有不到3萬(wàn)平方米的廠(chǎng)房，會(huì )增長(cháng)15倍以上，以確保以后的10年至15年公司****展。

中微公司在過(guò)去的十幾年里面總結了各方面的經(jīng)驗教訓，總結為叫“四個(gè)十大”，通過(guò)“四個(gè)十大”的總結和提高，保持公司繼續發(fā)展。具體包括“產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的十大原則”、“戰略銷(xiāo)售的十大準則”、“營(yíng)運管理的十大章法”和“精神文化的十大作風(fēng)”。

我們有這“四個(gè)十大”作為我們的法寶，可以確保在以后10年至15年實(shí)現高速、穩定、健康和安全的發(fā)展。希望到2035年，我們能在規模上成為國際微觀(guān)加工設備一流行列之中。