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FD-SOI與FinFET互補,是中國芯片業(yè)彎道超車(chē)機會(huì )

  • 本文介紹了Soitec半導體公司的全耗盡絕緣硅(FD-SOI)的特點(diǎn)、最新進(jìn)展及其生態(tài)系統,并將FD-SOI與FinFET作比較,分析了各自的優(yōu)勢、應用領(lǐng)域和應用前景。
  • 關(guān)鍵字: FD-SOI  FinFET  制造  201604  

“中國芯”入資法國半導體公司

  • 中國芯片企業(yè)起步較晚,在發(fā)展中屢屢遭受?chē)H巨頭的“專(zhuān)利圍剿”,通過(guò)支持重點(diǎn)企業(yè)的兼并重組及海外收購,培育具有核心競爭力的大型企業(yè),無(wú)疑是明智的手段,也是最有效的手段。
  • 關(guān)鍵字: Soitec  FD-SOI  

Soitec半導體公司和FD-SOI技術(shù):選擇理想的企業(yè)和技術(shù),助力中國創(chuàng )新藍圖

  •   全球領(lǐng)先的絕緣硅(SOI)晶圓制造商法國Soitec半導體公司今日在北京舉辦的新聞發(fā)布會(huì )中介紹了該公司在中國市場(chǎng)的發(fā)展歷史、全耗盡絕緣硅(FD-SOI)基板的成熟性和生產(chǎn)及準備狀態(tài)、FD-SOI的最新進(jìn)展及其生態(tài)系統。與會(huì )發(fā)言人包括Soitec公司市場(chǎng)和業(yè)務(wù)拓展部高級副總裁Thomas Piliszczuk, 以及Soitec公司數字電子商務(wù)部高級副總裁Christophe Maleville。會(huì )上主要討論的問(wèn)題包括該技術(shù)是否適合各代工廠(chǎng)及應用設計師廣泛使用,更重要的是,該技術(shù)如何解決中國半導體行業(yè)及
  • 關(guān)鍵字: Soitec  FD-SOI  

三星發(fā)飆:半導體28nm FD-SOI投片 功耗暴降一半

  •   蘋(píng)果(Apple)宣布以182萬(wàn)美元從美信半導體(Maxim Integrated)買(mǎi)下位于加州圣荷西的一座8吋晶圓廠(chǎng)。專(zhuān)家分析認為,此舉并不會(huì )影響與蘋(píng)果合作的晶圓代工廠(chǎng)生意。   據SemiWiki報導指出,SEMI World Fab Watch Database資料顯示,蘋(píng)果買(mǎi)下的晶圓廠(chǎng)于1987年建立,即使全面開(kāi)工每月也只能生產(chǎn)1萬(wàn)片晶圓,規模相對小且老舊,無(wú)法生產(chǎn)蘋(píng)果所需的應用處理器(AP)。   蘋(píng)果最新AP采16/14納米FinFET制程,而10納米制程也正在開(kāi)發(fā)中。8吋晶圓近日才微
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手機鏈考量?技術(shù)分水嶺抉擇?大陸半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展FD-SOI

  •   DIGITIMES Research觀(guān)察,大陸半導體產(chǎn)業(yè)近期積極擁抱全空乏絕緣上覆矽(Fully Depleted Silicon-on-Insulator;FD-SOI,有時(shí)也稱(chēng)Ultra-Thin Body;UTB)制程技術(shù),包含拜會(huì )關(guān)鍵晶圓片底材供應商、簽署相關(guān)合作協(xié)議、于相關(guān)高峰論壇上表態(tài)等。大陸選擇FD-SOI路線(xiàn),而非臺積電(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.;TSMC)、英特爾(Intel)的FinFET(鰭式場(chǎng)效電晶體)路線(xiàn),估與手
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Leti從FD-SOI學(xué)到的一課:打造生態(tài)系統

  •   今年由歐洲兩大主要研發(fā)中心——法國CEA-Leti和比利時(shí)IMEC舉辦的年度開(kāi)放日活動(dòng)剛好都在六月的同一時(shí)期舉行。但這種時(shí)程的沖突并不是有意的,至少Leti是這么認為。Leti的一位官方代表指出,“在過(guò)去七年來(lái)我們一直是在六月的同一周舉行年度活動(dòng)。對他們來(lái)說(shuō),我們的排程應該不是什么秘密。”        Leti位于法國格勒諾布爾市創(chuàng )新園區的核心地帶   不過(guò),位于格勒諾布爾的Leti Days和位于布魯塞爾的IMEC技術(shù)論壇這兩大
  • 關(guān)鍵字: FD-SOI  物聯(lián)網(wǎng)  

中國石墨烯技術(shù)重大突破——石墨烯層數可調控

  • 可控石墨烯薄膜制備方面取得新進(jìn)展:設計了Ni/Cu體系,利用離子注入技術(shù)引入碳源,通過(guò)精確控制注入碳的劑量,成功實(shí)現了對石墨烯層數的調控,有助于實(shí)現石墨烯作為電子材料在半導體器件領(lǐng)域真正的應用。  
  • 關(guān)鍵字: 石墨烯  SOI  

哪些半導體公司會(huì )成為22nm FD-SOI的嘗鮮者?

  •   美國時(shí)間7月13日GlobalFoundries宣布推出其全新的“22FDX”工藝平臺,成為全球第一家實(shí)現22nm FD-SOI(全耗盡絕緣硅),專(zhuān)為超低功耗芯片打造。        FD- SOI技術(shù)仍然采用平面型晶體管,目前并不為業(yè)內看好,因為無(wú)論Intel還是三星、臺積電,22n時(shí)代起就紛紛轉入了立體晶體管,也就是FinFET。GlobalFoundries技術(shù)實(shí)力欠佳,自己搞不出足夠好的立體晶體管技術(shù),22nm上只能繼續改進(jìn)平面型,20nm上努力了一
  • 關(guān)鍵字: FD- SOI  FinFET  

格羅方德半導體推出業(yè)內首個(gè)22nm FD-SOI工藝平臺

  •   格羅方德半導體(GLOBAL FOUNDRIES)今日發(fā)布一種全新的半導體工藝,以滿(mǎn)足新一代聯(lián)網(wǎng)設備的超低功耗要求。“22FDX™”平臺提供的性能和功耗媲美FinFET,而成本則與28nm平面晶體管工藝相當,為迅速發(fā)展的移動(dòng)、物聯(lián)網(wǎng)、RF連接和網(wǎng)絡(luò )市場(chǎng)提供了一個(gè)最佳解決方案。   雖然某些設備對三維FinFet晶體管的終極性能有要求,但大多數無(wú)線(xiàn)設備需要在性能、功耗和成本之間實(shí)現更好的平衡。22FDX 采用業(yè)內首個(gè)22nm二維全耗盡平面晶體管技術(shù)(FD-SOI)工
  • 關(guān)鍵字: 格羅方德  FD-SOI  

GlobalFoundries全球首發(fā)22nm FD-SOI工藝

  •   GlobalFoundries今天宣布推出全新的“22FDX”工藝平臺,全球第一家實(shí)現22nm FD-SOI(全耗盡絕緣硅),專(zhuān)為超低功耗芯片打造。 FD-SOI技術(shù)仍然采用平面型晶體管, 目前并不為業(yè)內看好,因為無(wú)論Intel還是三星、臺積電,22n時(shí)代起就紛紛轉入了立體晶體管,也就是FinFET。GlobalFoundries技 術(shù)實(shí)力欠佳,自己搞不出足夠好的立體晶體管技術(shù),22nm上只能繼續改進(jìn)平面型,20nm上努力了一陣放棄了,14nm索性直接借用三星的。   
  • 關(guān)鍵字: GlobalFoundries  FD-SOI  

只能FinFET或FD-SOI?二合一也行!

  •   在我們大多數人“非黑即白”、“非此即彼”的觀(guān)念里,半導體業(yè)者應該不是選擇FinFET就是FD-SOI制程技術(shù);不過(guò)既然像是臺積電(TSMC)、GlobalFoundrie或三星(Samsung)等晶圓代工廠(chǎng),必須要同時(shí)提供以上兩種制程產(chǎn)能服務(wù)客戶(hù),有越來(lái)越多半導體制造商也正在考慮也致力提供“兩全其美”的制程技術(shù)。   例如飛思卡爾半導體(Freescale Semiconductor)最近就透露,該公司正在14至16奈米節點(diǎn)采用
  • 關(guān)鍵字: FinFET  FD-SOI  

FD-SOI制程技術(shù)已到引爆點(diǎn)?

  •   身為記者,我有時(shí)候會(huì )需要經(jīng)過(guò)一系列的資料收集──通常包含非正式評論、隨機事實(shí)(random facts)、推特文章、研討會(huì )/座談會(huì )資料或是公關(guān)宣傳稿,然后才能把許多線(xiàn)索串聯(lián)在一起;全空乏絕緣上覆矽(Fully depleted silicon-on-insulator,FD-SOI)就是一個(gè)例子。   我從美國旅行到中國接著(zhù)又到歐洲,在與電子產(chǎn)業(yè)人士討論技術(shù)的過(guò)程中,發(fā)現FD-SOI從一個(gè)不容易了解的名詞,逐漸變得越來(lái)越“有形”。關(guān)于這個(gè)技術(shù),我在最近這幾個(gè)星期所收集到的隨機
  • 關(guān)鍵字: 晶圓  FD-SOI  

華虹半導體新一代700V BCD工藝解決方案成功量產(chǎn),助力LED照明騰飛

  •   華虹半導體有限公司(「華虹半導體」或「公司」,連同其附屬公司,統稱(chēng)「集團」)今日宣布,其新一代超高壓0.5微米700V BCD系列工藝平臺已經(jīng)成功實(shí)現量產(chǎn),良率超過(guò)98%,達到國際一流水平。該工藝平臺主要針對諸如AC-DC轉換器和LED照明等綠色能源的應用,具有業(yè)內領(lǐng)先的低導通電阻、高可靠性、低成本和流片周期短等特點(diǎn),可為客戶(hù)提供極具競爭力的單芯片解決方案。目前,已有多家客戶(hù)在該平臺量產(chǎn),各項指標均達到或超過(guò)客戶(hù)要求。   在全球節能環(huán)保的大趨勢下,LED綠色照明已經(jīng)進(jìn)入快速發(fā)展期。據相關(guān)機構統計,
  • 關(guān)鍵字: 華虹半導體  BCD  

華虹半導體新一代700V BCD工藝解決方案成功量產(chǎn) 助力LED照明騰飛

  •   香港, 2015年4月22日 - (亞太商訊) - 全球領(lǐng)先的200mm純晶圓代工廠(chǎng)── 華虹半導體有限公司(「華虹半導體」或「公司」,連同其附屬公司,統稱(chēng)「集團」)今日宣布,其新一代超高壓0.5微米700V BCD系列工藝平臺已經(jīng)成功實(shí)現量產(chǎn),良率超過(guò)98%,達到國際一流水平。該工藝平臺主要針對諸如AC-DC轉換器和LED照明等綠色能源的應用,具有業(yè)內領(lǐng)先的低導通電阻、高可靠性、低成本和流片周期短等特點(diǎn),可為客戶(hù)提供極具競爭力的單芯片解決方案。目前,已有多家客戶(hù)在該平臺量產(chǎn),各項指標均達到或超過(guò)客戶(hù)
  • 關(guān)鍵字: 華虹  BCD  

Peregrine半導體公司在大中華市場(chǎng)推出UltraCMOS? 單片相位幅度控制器

  •   Peregrine半導體公司是射頻 SOI(絕緣體上硅)技術(shù)的奠基者和先進(jìn)射頻解決方案的先驅?zhuān)荚诖笾腥A市場(chǎng)推出該公司的新系列UltraCMOS?單片相位和幅度控制器(MPAC)。MPAC產(chǎn)品中集成了一個(gè)90度混合分離器、移相器、數字步進(jìn)衰減器以及一個(gè)數字SPI接口,全部做在一塊芯片上。與多芯片的砷化鎵(GaAs)解決方案比較,這種單片射頻控制器的線(xiàn)性度高,隔離性能好,能夠控制很大的功率,相位調諧靈活性極強,對于兩路動(dòng)態(tài)負載調制放大器結構,例如多爾蒂(Doherty)功率放大器,是理想的射頻控制方案
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