日本Rapidus計劃2024年底引入EUV光刻機

據日媒報道，日本芯片公司Rapidus表示，正在北海道建設芯片工廠(chǎng)，目標是2027年量產(chǎn)2nm制程芯片。

該公司宣布，決定在2024年年底引入EUV光刻機，并將派遣員工赴荷蘭阿斯麥學(xué)習EUV極紫外光刻技術(shù)。目標是今年派遣100名員工至IBM、阿斯麥學(xué)習先進(jìn)芯片技術(shù)。