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臺積電將砸 1 萬(wàn)億擴大 2nm 產(chǎn)能,目標 2025 年量產(chǎn)

  •   6月6日消息,據臺灣經(jīng)濟日報報道,臺積電將砸1萬(wàn)億新臺幣(約2290億元人民幣)在臺中擴大2nm產(chǎn)能布局,有望在中清乙工建設半導體產(chǎn)業(yè)鏈園區?! ∨_積電總裁魏哲家在4月14日召開(kāi)的法說(shuō)會(huì )上表示,臺積電2nm預期會(huì )是最成熟與最適合技術(shù)來(lái)支持客戶(hù)成長(cháng),臺積電目標是在2025年量產(chǎn)?! ∨_積電將在2nm的節點(diǎn)推出Nanosheet/Nanowire的晶體管架構,另外還將采用新的材料,包括High mobility channel,2D,CNT等,其中2D材料方面,臺積電已挖掘石墨烯之外的其他材料,可以逐漸用
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臺積電:投資6000多億建3nm、2nm晶圓廠(chǎng)

  • 由于半導體芯片產(chǎn)能緊缺,臺積電此前宣布三年內投資1000億美元,約合6300多億人民幣,主要用于建設新一代的3nm、2nm芯片廠(chǎng),蓋長(cháng)的需求太高,現在連建筑用的磚塊都要搶購了。據《財訊》報道,這兩年芯片產(chǎn)能緊缺,但是比芯片產(chǎn)能更缺的還有一種建材——白磚,連臺積電都得排隊搶購。這種磚塊是一種特殊的建材,具備隔音、輕量、隔熱、防火、環(huán)保、便利等優(yōu)點(diǎn),重量只有傳統紅磚的一半左右,是很多工廠(chǎng)及房產(chǎn)建設中都需要的材料。對臺積電來(lái)說(shuō),一方面它們自己建設晶圓廠(chǎng)需要大量白磚,另一方面它們在當地某個(gè)城市建設晶圓廠(chǎng),往往還會(huì )
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英特爾與臺積電合作開(kāi)發(fā)2nm工藝 2025年量產(chǎn)

  • 此前有消息稱(chēng)英特爾已經(jīng)拿了臺積電3nm一半產(chǎn)能,近日,則有消息稱(chēng)英特爾現在又要跟臺積電合作開(kāi)發(fā)2nm工藝。英特爾不僅可能會(huì )將3nm制程工藝交給臺積電代工,同時(shí)也開(kāi)始跟臺積電討論合作開(kāi)發(fā)2nm工藝。不過(guò)這一說(shuō)法還沒(méi)有得到英特爾或者臺積電的證實(shí),考慮到這是高度機密的信息,一時(shí)間也不會(huì )有官方確認的可能。據悉,臺積電3nm的量產(chǎn)時(shí)間預計2022年四季度啟動(dòng),且首批產(chǎn)能被蘋(píng)果和英特爾均分。至于未來(lái)的2nm工藝,臺積電將在2nm節點(diǎn)推出Nanosheet/Nanowire的晶體管架構并采用新的材料,預計會(huì )在2025年
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三星高調宣布2025年投入2nm量產(chǎn)

  • 韓國三星在舉行晶圓代工論壇期間高調宣布,2025年投入2奈米量產(chǎn),再度確認將導入新一代環(huán)繞閘極技術(shù)(GAA)電晶體架構,搶在臺積電前宣布2025年投入2奈米制程的芯片量產(chǎn),劍指臺積電的意圖明顯,晶圓代工全球版圖恐將迎來(lái)新變局。此次論壇以Adding One More Dimension為主題,會(huì )中提到三星過(guò)去曾在2020上半年宣布該公司要在GAA的基礎上導入3奈米制程,而此次更提到要基于GAA基礎,在2023年時(shí)要導入第二代的3奈米制程,并于2025年導入2奈米制程。而這回也是三星首度表明2奈米的制程規劃
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三星2nm工藝曝光:2025年可量產(chǎn)

  • 在目前的芯片領(lǐng)域,三星和臺積電憑借著(zhù)先進(jìn)的工藝,相互不分上下,而近期在三星的公開(kāi)場(chǎng)合中,曝光了三星最新的工藝技術(shù)。官方宣稱(chēng),三星的3nm工藝上分為兩個(gè)版本,分別在2022和2023年量產(chǎn),而對比于5nm,三星的3nm工藝能夠讓芯片面積縮小35%,相同單位功耗的情況下性能可提升30%,而功耗也將降低50%左右。而2nm的工藝還沒(méi)有出現在會(huì )中,但有消息稱(chēng)2nm將會(huì )在2025年量產(chǎn)。
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2nm工藝要上線(xiàn)?臺積電工廠(chǎng)環(huán)評被卡

  • 芯研所消息,臺積電的2nm芯片工藝計劃上線(xiàn),但是由于環(huán)評專(zhuān)案小組的初審,建廠(chǎng)計劃未能放行,還需要等8月31日之前補正后再審核。在全球先進(jìn)工藝量產(chǎn)上,臺積電一枝獨秀,5nm、3nm工藝已經(jīng)領(lǐng)先,再下一代工藝就是2nm了,會(huì )啟用全新GAA晶體管,技術(shù)升級很大,光是工廠(chǎng)建設就要200億美元。臺積電不過(guò)臺積電的2nm工廠(chǎng)建設計劃現在遇到了阻力。消息稱(chēng),新竹科學(xué)園區擬展開(kāi)寶山用地第二期擴建計劃,環(huán)保部門(mén)于25日下午召開(kāi)環(huán)評專(zhuān)案小組第三次初審會(huì )議,水、電以及廢棄物清理等議題受到關(guān)注,專(zhuān)案小組歷經(jīng)逾三小時(shí)審議后,最終仍
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歐盟半導體“不再幼稚”:10年內產(chǎn)能翻倍、搞定2nm工藝

  • 半導體技術(shù)的重要性已經(jīng)無(wú)需多提,現在美國、中國、日本、韓國等國家和地區都在大力投資先進(jìn)半導體工藝,不希望自己被卡脖子,歐盟現在也清醒了,希望搞定2nm工藝。據報道,歐盟市場(chǎng)專(zhuān)員蒂埃里·布雷頓(Thierry Breton)日前在采訪(fǎng)中表示,歐盟需要恢復以前的市場(chǎng)份額,以滿(mǎn)足行業(yè)的需求。他還提到,多年來(lái)歐盟在半導體制造業(yè)中的份額下降了,因為該地區過(guò)于幼稚、過(guò)于相信全球化。歐盟委員會(huì )制定的計劃中,希望2030年將芯片產(chǎn)量翻倍,市場(chǎng)份額提升到20%,為此歐盟正在爭取歐洲地區先進(jìn)芯片制造商的支持,目前至少有22個(gè)
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里程碑!IBM宣布造出全球首顆2nm EUV芯片

  • 藍色巨人出手就是王炸?! ?月6日消息,IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導體芯片?! 『诵闹笜朔矫?,IBM稱(chēng)該2nm芯片的晶體管密度(MTr/mm2,每平方毫米多少百萬(wàn)顆晶體管)為333.33,幾乎是臺積電5nm的兩倍,也比外界預估臺積電3nm工藝的292.21 MTr/mm2要高?! ?nm晶圓近照  換言之,在150平方毫米也就是指甲蓋大小面積內,就能容納500億顆晶體管?! ⊥瑫r(shí),IBM表示,在同樣的電力消耗下,其性能比當前7nm高出45%,輸出同樣性能則減少75%的功耗?!   ?shí)際上,I
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臺積電最新進(jìn)展:2nm正在開(kāi)發(fā) 3nm和4nm將在明年面世

  • 全球最大的晶圓代工廠(chǎng),擁有近500個(gè)客戶(hù),這就是他們的獨特之處。一方面,公司幾乎可以為提出任何需求的所有客戶(hù)提供服務(wù);另一方面,就容量和技術(shù)而言,他們必須領(lǐng)先于其他任何人;就產(chǎn)能而言,臺積電(TSMC)是不接受任何挑戰,而且未來(lái)幾年也不會(huì )臺積電今年300億美元的資本預算中,約有80%將用于擴展先進(jìn)技術(shù)的產(chǎn)能,例如3nm,4nm / 5nm和6nm / 7nm。分析師認為,到今年年底,先進(jìn)節點(diǎn)上的大部分資金將用于將臺積電的N5產(chǎn)能擴大,擴大后的產(chǎn)能將提到至每月110,000?120,000個(gè)晶圓啟動(dòng)(WSP
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全球沖刺2nm,臺積電和中芯國際卻發(fā)展成熟工藝,這是為何?

  • 前兩天,臺媒報道稱(chēng)臺積電將投資187億人民幣在南京廠(chǎng)建置月產(chǎn)4萬(wàn)片的28nm產(chǎn)能,據悉,該計劃將于不久后正式啟動(dòng),新產(chǎn)能預計在2022年下半年開(kāi)始逐步產(chǎn)出,并于2023年實(shí)現月產(chǎn)4萬(wàn)片的目標。當臺積電傳來(lái)擴增28nm產(chǎn)能的消息時(shí),大部分人對此感到非常驚訝,在更多人眼中,臺積電作為全球工藝最先進(jìn)的芯片制造商,在全球都在沖刺2nm工藝的時(shí)候,它也應該大力投資3nm、2nm,甚至是更加先進(jìn)的工藝,而卻不曾想臺積電居然選擇斥巨資投資28nm這樣成熟的工藝。事實(shí)上,投資28nm工藝只是臺積電的計劃之一,而其從始至終
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臺積電2nm工藝進(jìn)入研發(fā)階段:升級GAA晶體管、改進(jìn)EUV效率

  • 做為全球最大最先進(jìn)的晶圓代工廠(chǎng),臺積電在7nm、5nm節點(diǎn)上領(lǐng)先三星等對手,明年面還會(huì )量產(chǎn)3nm工藝,接下來(lái)則是2nm工藝。臺積電計劃未來(lái)三年投資1000億美元,其中先進(jìn)工藝花費的資金最多,2nm工藝也是前所未有的新工藝,臺積電去年稱(chēng)2nm工藝取得了重大進(jìn)展,進(jìn)度比預期的要好。實(shí)際上臺積電的2nm工藝沒(méi)有宣傳的那么夸張,此前只是技術(shù)探索階段,尋找到了可行的技術(shù)路徑?,F在2nm工藝才算是進(jìn)入了研發(fā)階段,重點(diǎn)轉向了測試載具設計、光罩制作及硅試產(chǎn)等方向。根據臺積電的說(shuō)法,2nm工藝節點(diǎn)上,他們也會(huì )放棄FinFE
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臺積電和蘋(píng)果合作致力2nm工藝開(kāi)發(fā),傳聞3nm芯片訂單勢頭強勁

  • 近期臺積電(TSMC)和蘋(píng)果更緊密和高效的合作,使得研發(fā)上取得了多項突破?! ∧壳笆謾C開(kāi)始大量使用基于5nm工藝制造的芯片,即將推出的A15 Bionic預計將使用更先進(jìn)的N5P節點(diǎn)工藝制造,預計蘋(píng)果將在2021年占據臺積電80%的5nm產(chǎn)能。不過(guò)臺積電很快將向3nm工藝推進(jìn),并且進(jìn)一步到2nm工藝,這都只是時(shí)間問(wèn)題?!   ccftech報道,為了更好地達成這些目標,臺積電和蘋(píng)果已聯(lián)手推動(dòng)芯片的開(kāi)發(fā)工作,將硅片發(fā)展推向極限。臺積電和蘋(píng)果都為了同一個(gè)目標而努力,不過(guò)受益者可能不只是蘋(píng)果,還有英特爾。臺
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臺積電2nm工藝重大突破!2023年投入試產(chǎn)

  • 這幾年,天字一號代工廠(chǎng)臺積電在新工藝進(jìn)展上簡(jiǎn)直是開(kāi)掛一般的存在,7nm工藝全面普及,5nm工藝一路領(lǐng)先,3nm工藝近在眼前,2nm工藝也進(jìn)展神速。根據最新報道,臺積電已經(jīng)在2nm工藝上取得一項重大的內部突破,雖未披露細節,但是據此樂(lè )觀(guān)預計,2nm工藝有望在2023年下半年進(jìn)行風(fēng)險性試產(chǎn),2024年就能步入量產(chǎn)階段。臺積電還表示,2nm的突破將再次拉大與競爭對手的差距,同時(shí)延續摩爾定律,繼續挺進(jìn)1nm工藝的研發(fā)。臺積電預計,蘋(píng)果、高通、NVIDIA、AMD等客戶(hù)都有望率先采納其2nm工藝。2nm工藝上,臺積
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臺積電:2nm芯片研發(fā)重大突破,1nm也沒(méi)問(wèn)題

  • 一、臺積電:第一家官宣2nm工藝,研發(fā)進(jìn)度超前據臺灣經(jīng)濟日報報道,臺積電2nm工藝取得重大突破,研發(fā)進(jìn)度超前,業(yè)界看好其2023年下半年風(fēng)險試產(chǎn)良率就可以達到90%。據臺媒透露,有別于3nm與5nm采用鰭式場(chǎng)效晶體管(FinFET)架構,臺積電2nm改采全新的多橋通道場(chǎng)效晶體管(MBCFET)架構,研發(fā)進(jìn)度超前。據悉,臺積電去年成立了2nm專(zhuān)案研發(fā)團隊,尋找可行路徑進(jìn)行開(kāi)發(fā)??剂砍杀?、設備相容、技術(shù)成熟及效能表現等多項條件,2nm采以環(huán)繞閘極(GAA)制程為基礎的MBCFET架構,解決FinFET因制程微
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臺積電2024年將量產(chǎn)突破性的2nm工藝晶體管

  • 9 月 25 日消息 據 wccftech 報道,臺灣半導體制造公司(TSMC)在 2nm 半導體制造節點(diǎn)的研發(fā)方面取得了重要突破:臺積電有望在 2023 年中期進(jìn)入 2nm 工藝的試生產(chǎn)階段,并于一年后開(kāi)始批量生產(chǎn)。目前,臺積電的最新制造工藝是其第一代 5 納米工藝,該工藝將用于為 iPhone 12 等設備構建處理器。臺積電的 2nm 工藝將采用差分晶體管設計。該設計被稱(chēng)為多橋溝道場(chǎng)效應(MBCFET)晶體管,它是對先前 FinFET 設計的補充。臺積電第一次作出將 MBCFET 設計用于其晶體管而不
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