ASML 10億歐元現金收購蔡司半導體24.9%股份

　　全球芯片光刻技術(shù)領(lǐng)導廠(chǎng)商阿斯麥(ASML) 和德國卡爾蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半導體有限公 司 (Carl Zeiss SMT) 11月3日共同宣布，由 ASML以10億歐元現金收購 Carl Zeiss SMT的24.9%股權，以強化雙方在半導體光刻技術(shù)方面的合作，發(fā)展下一代EUV光刻系統，讓半導體行業(yè)得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前雙方并沒(méi)有進(jìn)一步股權交換的計劃。

　　Carl Zeiss SMT是ASML最重要的長(cháng)期策略合作伙伴，30 多年來(lái)，為ASML的光刻設備提供最關(guān)火鍵且高效能的光學(xué)系統。為了在2020年代初期就能夠讓芯片制造行業(yè)使用搭載全新光學(xué)系統的新一代EUV光刻設備，ASML 和Carl Zeiss SMT決定進(jìn)一步強化合作關(guān)系。

　　ASML總裁兼CEO Peter Wennink 表示 ： “全球第一個(gè)由EUV光刻設備制造出來(lái)的芯片可望于2018年問(wèn)世。過(guò)去多年來(lái)我們做了許多努力，確保能將EUV順利導入客戶(hù)的量產(chǎn)階段，并和我們的浸潤式光刻系統緊密連接?，F在，ASML和ZEISS展望的是下一個(gè)階段，共同全力發(fā)展下一代EUV光學(xué)系統，讓我們的客戶(hù)能夠在 2020年后的10年間，充分回收他們在EUV上的投資。”

　　下一代的EUV光學(xué)系統將提供更高的數值孔徑(NA， numerical aperture )，以進(jìn)一步縮小光刻 制程中的臨界尺寸(critical dimensions)。ASML目前的EUV光刻系統搭載的是0.33 NA的光學(xué)系統。而新一代的EUV光刻系統則將搭載NA 0.5以上的光學(xué)系統，可以進(jìn)一步支持3nm以下制程。

　　除了協(xié)議由ASML持有Carl Zeiss SMT少數股權外，ASML也將在未來(lái)6年內投資約2.2億歐元支持Carl Zeiss SMT在光學(xué)光刻技術(shù)上的研發(fā)，以及約5.4億歐元的資本支出和其他相關(guān)供應鏈投資。

　　ASML CTO Martin van den Brink表示 ： “提高數值孔徑(NA， numerical aperture )是發(fā)展 EUV 的下一步。高數值孔徑的 EUV 是實(shí)現3nm以下邏輯節點(diǎn)制程一個(gè)比較健康的方式--只需要單次光刻曝光，可提高生產(chǎn)力并降低單位成本。而這也再次重申 ASML協(xié)助半導體行業(yè)持續推進(jìn)摩爾定律的承諾。”