EUV在手天下我有 ASML二季度表現亮眼

　　全球最大芯片光刻設備市場(chǎng)供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財報。ASML第二季營(yíng)收凈額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV系統訂單，讓EUV光刻系統的未出貨訂單累積到27臺，總值高達28億歐元。

　　預估2017第三季營(yíng)收凈額約為22億歐元，毛利率約為43%。因為市場(chǎng)需求和第二季的強勁財務(wù)表現，ASML預估2017全年營(yíng)收成長(cháng)可達25%。

　　ASML總裁暨執行長(cháng)溫彼得指出:“ASML今年的主要營(yíng)收貢獻來(lái)自?xún)却嫘酒蛻?hù)，尤其在DRAM市場(chǎng)需求的驅動(dòng)下，這部分的營(yíng)收預估將比去年成長(cháng)50%，而來(lái)自邏輯芯片方面的營(yíng)收也可望成長(cháng)15%。除了DUV光刻系統的業(yè)務(wù)持續成長(cháng)，在EUV光刻系統部分，未出貨訂單累積金額在第二季已經(jīng)累積到28億歐元，顯示不論邏輯芯片和DRAM客戶(hù)都積極準備將EUV導入芯片量產(chǎn)階段。”

　　此外，ASML近年來(lái)積極推行系統升級業(yè)務(wù)，該部分的營(yíng)收貢獻可望在今年成長(cháng)20%。“綜合市場(chǎng)和各業(yè)務(wù)領(lǐng)域的捷報，我們認為成長(cháng)動(dòng)能將延續到2018年，”溫彼得說(shuō)。

　　二季度的營(yíng)收主力，EUV表現亮眼

　　作為為數不多的芯片光刻設備供應商，唯一一家EUV設備提供商，ASML在剛過(guò)去的一個(gè)季度表現非常亮眼，主要體現在以下幾個(gè)方面：

　　(1)深紫外光(DUV)光刻

　　ASML推出最新浸潤式光刻系統TWINSCAN NXT:2000i，具備多項硬件技術(shù)創(chuàng )新，讓客戶(hù)得以在7奈米和5奈米制程節點(diǎn)上，同時(shí)用浸潤式光刻和EUV系統進(jìn)行量產(chǎn)，并達到2.5奈米的迭對精度。另一方面，3D NAND客戶(hù)對于KrF干式光刻系統的需求持續升高，目前TWINSCA NXT:860的未出貨訂單已累積超過(guò)20臺。TWINSCA NXT:860系統的生產(chǎn)力可達到每天曝光5,300片晶圓。

　　(2)全方位光刻優(yōu)化方案

　　本季開(kāi)始出貨最新的Yield Star 375F量測系統，具備最新的光學(xué)技術(shù)，可更快、更精準的獲取量測結果。

　　(3)極紫外光光刻

　　在荷蘭總部已經(jīng)成功將升級的EUV光源整合進(jìn)NXE:3400B系統中，并達成每小時(shí)輸出125片晶圓的生產(chǎn)力指標。至此，ASML的EUV系統已經(jīng)成功達成所有計劃中的關(guān)鍵效能指標，下一階段，ASML將專(zhuān)注于達成滿(mǎn)足客戶(hù)在量產(chǎn)時(shí)所需的相關(guān)妥善率(availability)指標，并持續提升系統生產(chǎn)力。

　　在第二季當中，ASML也完成了對德國卡爾蔡司旗下蔡司半導體(Carl Zeiss SMT)24.9%的股權收購，以進(jìn)一步深化雙方的策略伙伴關(guān)系，共同發(fā)展下一代EUV光刻系統。

　　展望2017年第三季，ASML預估整體銷(xiāo)售凈額可達22億歐元，毛利率約落在43%，其中包含約3億歐元的EUV營(yíng)收認列。研發(fā)投資金額提高到3.15億歐元，其他收入部份(包括來(lái)自于客戶(hù)共同投資計劃的收入)約為2,400萬(wàn)歐元，而管銷(xiāo)費用(SG&A)支出則約1.05億歐元，年化稅率約14%。ASML預計在第三季會(huì )有另外3臺NXE:3400B EUV光刻系統完成出貨。

　　ASML：現代芯片不可或缺的支持者

　　阿斯麥公司ASML Holding NV創(chuàng )立于1984年，是從飛利浦獨立出來(lái)的一個(gè)半導體設備制造商。前稱(chēng)ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改為現用名，總部位于荷蘭費爾德霍芬，全職雇員12,168人，是一家半導體設備設計、制造及銷(xiāo)售公司。

　　阿斯麥公司為半導體生產(chǎn)商提供光刻機及相關(guān)服務(wù)，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產(chǎn)效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。

　　目前全球絕大多數半導體生產(chǎn)廠(chǎng)商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾，三星，海力士，臺積電，聯(lián)電，格芯及其它半導體廠(chǎng)。隨著(zhù)摩爾定律的發(fā)展，芯片走向了7nm以下，這就需要更高級的EUV光刻系統，全球只有ASML的NXE:3400B能夠滿(mǎn)足需求。

　　ASML的光刻機怎樣幫芯片助力?我們可以看一下ASML官方的介紹：

　　簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，我們制造的光刻設備是一種投影系統。這個(gè)設備由50000個(gè)零件組裝而成。

　　實(shí)際使用過(guò)程中，則通過(guò)激光束被投穿過(guò)一片印著(zhù)圖案的藍圖或光掩模，光學(xué)鏡片將圖案聚焦在有著(zhù)光感化學(xué)涂層的硅晶圓上，當未受曝光的部分被蝕刻掉時(shí)，圖案隨即顯現…

　　此制程被一再重復，用以在單個(gè)芯片上制造數以十億計的微型結構。晶圓以2納米的精準度互相疊加，并加速移動(dòng)，快如閃電，達到這種精確度可謂高科技，要知道，即使頭發(fā)絲也有十萬(wàn)納米，2納米的精細可想而知。

　　未來(lái)，只有他的EUV光刻機能夠幫助芯片接續微縮，因此這些設備縱使賣(mài)到上億歐元，都能被客戶(hù)所接受。