臺積電三星戰火延燒：前高管泄密案臺積電勝訴

　　原臺積電公司研發(fā)高管梁孟松跳槽三星并泄露28nm制程機密案件，臺高院已判決臺積電一方勝訴。梁曾在臺積電擔任研發(fā)部門(mén)高管，離職臺積電后入職三星任LSI部門(mén)CTO。臺積電公司公關(guān)部高管在受訪(fǎng)電話(huà)中稱(chēng)：“依照判決，梁先生必須從現在起至今年年底期間暫停為三星工作。”

　　據悉，梁所泄露給三星的技術(shù)機密，將有助于三星在14nm FinFET工藝技術(shù)方面趕超臺積電，而14nm FinFET工藝則會(huì )是業(yè)界大佬高通，蘋(píng)果等下一代移動(dòng)設備產(chǎn)品的主流半導體制作工藝。而回顧2012年，臺積電推出28nm制程技術(shù)后，他們在該工藝節點(diǎn)上幾乎在代工市場(chǎng)獨大了兩年。

　　三星公司則拒絕對此判決作出任何評論。

　　今年二月份，三星曾透過(guò)一家公關(guān)公司Edelman向媒體表態(tài)稱(chēng)：“三星會(huì )努力遵守各項法律和倫理標準。不過(guò)，由于這個(gè)案件的雙方是臺積電和梁先生，我們不想摻和進(jìn)去，妄加評論就更不適當。”

　　不過(guò)今年二月份，前臺積電法律顧問(wèn)曾表示：盡管三星并不是本案的直接被告，但無(wú)疑已被牽扯其中。因為被告梁先生的辯護律師費用應該是有三星出資贊助的，另外三星還為他出具了許多書(shū)面的證據。

　　臺積電的28nm制程技術(shù)在過(guò)去5年以來(lái)一直是該公司最主要的盈利技術(shù)和賺錢(qián)法寶，當然它同時(shí)還為下一代20/16nm工藝技術(shù)打下了堅實(shí)的基礎。

　　三星今年推出了14nm FinFET技術(shù)，以抗衡臺積電的16nm FinFET技術(shù)。三星和臺積電兩家一直在為了爭奪蘋(píng)果iPhone/iPad相關(guān)訂單而惡戰。