英國開(kāi)設全球第二個(gè)5納米以下電子束光刻中心

近日，英國南安普敦大學(xué)宣布成功開(kāi)設了一個(gè)尖端電子束光刻（EBL）中心。這是日本以外全球首個(gè)分辨率達5納米以下的中心，也是歐洲首個(gè)此類(lèi)電子束光刻中心。該中心能夠制造下一代半導體芯片。
據南安普敦大學(xué)介紹，該電子束光刻中心采用日本JEOL公司的加速電壓直寫(xiě)電子束光刻系統。這是全球第二臺200kV系統（JEOL JBX-8100 G3），第一臺在日本。該系統可在200毫米晶圓上實(shí)現低于5納米級精細結構的分辨率處理，適用于厚至10微米的光刻膠，側壁幾乎垂直，有助于開(kāi)發(fā)電子和光子學(xué)領(lǐng)域研究芯片中的新結構。JEOL的另一款100kV EBL設備（JBX-A9）將用于支持更大批量的300毫米晶圓。
目前，JEOL的加速電壓直寫(xiě)電子束光刻系統（JEOL JBX-8100 G3）已安裝在南安普頓大學(xué)蒙巴頓綜合大樓內一個(gè)專(zhuān)門(mén)建造的820平方米潔凈室內。
英國科學(xué)部長(cháng)帕特里克·瓦蘭斯勛爵表示：“英國是世界上一些最令人興奮的半導體研究的所在地，南安普敦的新電子束設施極大地提升了我們的國家能力。通過(guò)投資基礎設施和人才，我們?yōu)檠芯咳藛T和創(chuàng )新者提供了在英國開(kāi)發(fā)下一代芯片所需的支持?！?br/>南安普頓大學(xué)馬丁·查爾頓教授表示：“我們非常榮幸成為日本以外首個(gè)擁有這套新一代200千伏電子束光刻系統的機構。南安普頓大學(xué)在電子束光刻領(lǐng)域擁有超過(guò)30年的經(jīng)驗。這將有助于推動(dòng)量子計算、硅光子學(xué)和下一代電子系統領(lǐng)域的發(fā)展。這套設備與我們現有的微加工設備套件相得益彰，使我們能夠研發(fā)和生產(chǎn)各種用于電子、光子學(xué)和生物納米技術(shù)的集成納米級器件?！?br/>Graham Reed 教授補充道：“新電子束設施的引入將加強我們在英國學(xué)術(shù)界擁有最先進(jìn)的潔凈室的地位。它促進(jìn)了大量創(chuàng )新和工業(yè)相關(guān)的研究，以及急需的半導體技能培訓?！?/p>本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/202505/470191.htm