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電子束光刻中心
電子束光刻中心 文章 進(jìn)入電子束光刻中心技術(shù)社區
英國開(kāi)設全球第二個(gè)5納米以下電子束光刻中心
- 近日，英國南安普敦大學(xué)宣布成功開(kāi)設了一個(gè)尖端電子束光刻（EBL）中心。這是日本以外全球首個(gè)分辨率達5納米以下的中心，也是歐洲首個(gè)此類(lèi)電子束光刻中心。該中心能夠制造下一代半導體芯片。據南安普敦大學(xué)介紹，該電子束光刻中心采用日本JEOL公司的加速電壓直寫(xiě)電子束光刻系統。這是全球第二臺200kV系統（JEOL JBX-8100 G3），第一臺在日本。該系統可在200毫米晶圓上實(shí)現低于5納米級精細結構的分辨率處理，適用于厚至10微米的光刻膠，側壁幾乎垂直，有助于開(kāi)發(fā)電子和光子學(xué)領(lǐng)域研究芯片中的新結構。JEOL的另
- 關(guān)鍵字： 5納米 電子束光刻中心
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電子束光刻中心介紹
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