世界最先進(jìn)EUV光刻機開(kāi)工！Intel已產(chǎn)3萬(wàn)塊晶圓 14A工藝就用它

2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是當今世界上最先進(jìn)的EUV極紫外光刻機，支持High-NA也就是高孔徑，Intel去年搶先拿下了第一臺，目前已經(jīng)在俄勒岡州Fab D1晶圓廠(chǎng)安裝部署了兩臺，正在緊張地研究測試中。

Intel資深首席工程師Steve Carson透露，迄今為止，兩臺EUV光刻機已經(jīng)生產(chǎn)了3萬(wàn)塊晶圓，當然不算很多，但別忘了這只是測試和研究使用的，并非商用量產(chǎn)，足以證明Intel對于新光刻機是多么的重視。

Steve Carson還強調，完成同樣的工作，新款光刻機可以將曝光次數從3次減少到只需1次，處理步驟也從40多個(gè)減少到不足10個(gè)，從而大大節省時(shí)間和成本。

Intel曾透露，新光刻機的可靠性是上代的大約兩倍，但沒(méi)有透露具體數據。

ASML EXE:5000光刻機單次曝光的分辨率可以做到8nm，比前代Low-NA光刻機的13.5nm提升了多達40％，晶體管密度也提高了2.9倍。

當然，Low-AN光刻機也能做到8nm的分辨率，但需要兩次曝光，無(wú)論時(shí)間、成本還是良品率都不夠劃算。

全速率量產(chǎn)的情況下，ASML EXE:5000光刻機每小時(shí)可生產(chǎn)400-500塊晶圓，而現在只有200塊，效率提升100-150％之多。

Intel將會(huì )使用High-NA EUV光刻機生產(chǎn)14A也就是1.4nm級工藝產(chǎn)品，但具體時(shí)間和產(chǎn)品未定，有可能在2026年左右量產(chǎn)，或許用于未來(lái)的Nova Lake、Razer Lake。

將在今年下半年量產(chǎn)的Intel 18A 1.8nm工藝，仍舊使用現有的Low-NA EUV光刻機，對應產(chǎn)品包括代號Panther Lake的下代酷睿、代號Clearwater Forest的下代至強。

二者都已經(jīng)全功能正常運行，并開(kāi)展了客戶(hù)測試。